JPH04100046A - ペリクル膜の除去方法 - Google Patents
ペリクル膜の除去方法Info
- Publication number
- JPH04100046A JPH04100046A JP2217857A JP21785790A JPH04100046A JP H04100046 A JPH04100046 A JP H04100046A JP 2217857 A JP2217857 A JP 2217857A JP 21785790 A JP21785790 A JP 21785790A JP H04100046 A JPH04100046 A JP H04100046A
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- JP
- Japan
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- pellicle
- reticle
- heater
- frame
- pellicle film
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
レチクル（またはマスク）表面に装着されたペリクル膜
の除去方法に関し。
の除去方法に関し。
静電気による遮光膜パターンの破壊を防止するようにし
た除去方法を提供することを目的とし。
た除去方法を提供することを目的とし。
■）マスク上に間隙を開けて装着されたペリクル膜に加
熱したヒータを接触させて、該ペリクル膜を燃焼して消
滅させるように構成する。
熱したヒータを接触させて、該ペリクル膜を燃焼して消
滅させるように構成する。
２）前記１）を減圧した雰囲気中で行うように構成する
。
。
３）前記ヒータの温度が２７０ ’Ｃ以上であるように
構成する。
構成する。
本発明はレチクルまたはマスク表面に装着されたペリク
ル膜の除去方法に関する。
ル膜の除去方法に関する。
ペリクルは透明な薄膜からなるペリクル膜を枠（フレー
ム）に貼ったもので（第１図参照）、防塵のためにレチ
クルの表面に装着し、レチクルはペリクルを装着したま
ま投影露光等に使用されている。
ム）に貼ったもので（第１図参照）、防塵のためにレチ
クルの表面に装着し、レチクルはペリクルを装着したま
ま投影露光等に使用されている。
ペリクル膜は、ペリクル膜面やレチクルに塵埃が付着し
た場合等に除去して新しく貼り替えられる。
た場合等に除去して新しく貼り替えられる。
従来、レチクル表面に装着されたペリクル膜の除去は、
レチクルを剥離液（酢酸ブチル等の有機溶剤９例えば東
京応化のＯＭＲ＋、１ンス液）の中に浸漬し、ペリクル
膜とフレームに付着した接着剤を溶解していた。
レチクルを剥離液（酢酸ブチル等の有機溶剤９例えば東
京応化のＯＭＲ＋、１ンス液）の中に浸漬し、ペリクル
膜とフレームに付着した接着剤を溶解していた。
この際、ペリクル膜がレチクル面に付着するーと容易に
ペリクル膜が溶けず、溶解に長時間を必要とし、また除
去が不完全であった。
ペリクル膜が溶けず、溶解に長時間を必要とし、また除
去が不完全であった。
そのため、前もってペリクル膜をレチクルから引き剥が
す方法がとられた。
す方法がとられた。
溶剤に浸漬する前にペリクル膜をレチクルから引き剥が
す際に、大気中で行う場合にペリクル膜がレチクルの遮
光膜（Ｃｒ膜）に接触すると、静電気により遮光膜のパ
ターンが破壊されるという問題があった。
す際に、大気中で行う場合にペリクル膜がレチクルの遮
光膜（Ｃｒ膜）に接触すると、静電気により遮光膜のパ
ターンが破壊されるという問題があった。
本発明はペリクル膜の除去に際し、静電気による遮光膜
パターンの破壊を防止した除去方法を提供することを目
的とする。
パターンの破壊を防止した除去方法を提供することを目
的とする。
上記課題の解決は。
１）マスク上に間隙を開けて装着されたペリクル膜に加
熱したヒータを接触させて、該ペリクル膜を燃焼して消
滅させるペリクル膜の除去方法、あるいは ２）減圧した雰囲気中で行う前記ｌ）記載のペリクル膜
の除去方法、あるいは ３）前記ヒータの温度が２７０℃以上である前記ｌ）ま
たは２）記載のペリクル膜の除去方法により達成される
。
熱したヒータを接触させて、該ペリクル膜を燃焼して消
滅させるペリクル膜の除去方法、あるいは ２）減圧した雰囲気中で行う前記ｌ）記載のペリクル膜
の除去方法、あるいは ３）前記ヒータの温度が２７０℃以上である前記ｌ）ま
たは２）記載のペリクル膜の除去方法により達成される
。
ペリクル膜はニトロセルローズを主成分としているため
、２７０°Ｃ以上の高温にすると燃焼して消滅する。
、２７０°Ｃ以上の高温にすると燃焼して消滅する。
本発明はこの特性を生かし、剥離しようとするペリクル
膜を予め燃焼させ、フレームとレチクルのみになってか
ら剥離溶剤に漬けることにより。
膜を予め燃焼させ、フレームとレチクルのみになってか
ら剥離溶剤に漬けることにより。
ペリクル膜の静電気による遮光膜パターン破壊の問題を
解決するものである。
解決するものである。
第１図は本発明の一実施例を説明する断面図である。
図において、ｌはレチクル（またはマスク）。
ＩＡは遮光膜パターン、２はペリクル膜、３はフレーム
、４は接着剤である。
、４は接着剤である。
ペリクル膜２は通常ニトロセルローズを主成分とする膜
で、膜厚は例えば２．８５μｍである。
で、膜厚は例えば２．８５μｍである。
フレーム３はアルミニウム合金からなり、高さは例えば
３．００〜３．７０ｍｍである。
３．００〜３．７０ｍｍである。
接着剤４はアクリル系接着剤を用い、厚さは例えば０．
２５〜０．８０ｍｍである。
２５〜０．８０ｍｍである。
ペリクル膜２のレチクル表面からの間隔は４ｍｍ以内で
ある。
ある。
以上のようなレチクルのペリクル膜除去方法をつぎに説
明する。
明する。
（１）水柱で２０ｍｍ以下に減圧した雰囲気中で、除去
しようとするペリクル膜２を上向きにしてレチクル１を
ヒータに位置合わせする。
しようとするペリクル膜２を上向きにしてレチクル１を
ヒータに位置合わせする。
ここで、ヒータは第２図に示されるものを使用した。
第２図はペリクル膜燃焼用ヒータの構造図である。
図において、 ２１はガラス繊維を被服した電熱線。
２２はペリクル膜に接触させるセラミックロッド。
２３はヒータのカバー、２４は内部に電源線を通した支
軸、 ２５．２６は止めネジである。
軸、 ２５．２６は止めネジである。
また、減圧雰囲気にするのは、ヒータを確実にペリクル
膜２に接触させるためである。
膜２に接触させるためである。
（２１２７０℃以上に加熱しているヒータをペリクル膜
２に接触させる。
２に接触させる。
フレーム３上のペリクル膜２はヒータに接触するのとほ
とんど同時に燃焼を開始し、瞬時（小数点以下数秒）に
燃焼が完了し、完全に消滅する。
とんど同時に燃焼を開始し、瞬時（小数点以下数秒）に
燃焼が完了し、完全に消滅する。
（３）ペリクル膜２がなくなったレチクル１をフレ−ム
剥離用の有機溶剤（前記と同一のもの、酢酸ブチル等の
有機溶剤でよい）に漬けて、レチクル１からフレーム３
を除去する。
剥離用の有機溶剤（前記と同一のもの、酢酸ブチル等の
有機溶剤でよい）に漬けて、レチクル１からフレーム３
を除去する。
多数試料について実験の結果、静電破壊は認められなか
った。
った。
なお１本発明はレチクルまたはマスクの遮光膜側に貼ら
れたペリクル膜の除去の時にだけ適用すればよいが、遮
光膜の無い側に適用しても特に問題はない。
れたペリクル膜の除去の時にだけ適用すればよいが、遮
光膜の無い側に適用しても特に問題はない。
第２図はペリクル膜燃焼用ヒータの構造図である。
図において。
Ｉはレチクル（またはマスク）。
ＩＡは遮光膜パターン。
２はペリクル膜。
３はフレーム。
４は接着剤
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、ペリクル膜の除去
に際し、静電気による遮光膜パターンの破壊を防止した
除去方法が得られた。
に際し、静電気による遮光膜パターンの破壊を防止した
除去方法が得られた。
この結果、剥離液に浸漬する前に、ペリクル膜を引き剥
がすことができるようになり、除去の工数が大幅に低減
された。
がすことができるようになり、除去の工数が大幅に低減
された。
第１図は本発明の詳細な説明する断面図。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）マスク上に間隙を開けて装着されたペリクル膜に加
熱したヒータを接触させて、該ペリクル膜を燃焼して消
滅させることを特徴とするペリクル膜の除去方法。 ２）減圧した雰囲気中で行うことを特徴とする請求項１
記載のペリクル膜の除去方法。 ３）前記ヒータの温度が２７０℃以上であることを特徴
とする請求項１または２記載のペリクル膜の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2217857A JPH04100046A (ja) | 1990-08-18 | 1990-08-18 | ペリクル膜の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2217857A JPH04100046A (ja) | 1990-08-18 | 1990-08-18 | ペリクル膜の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04100046A true JPH04100046A (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=16710855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2217857A Pending JPH04100046A (ja) | 1990-08-18 | 1990-08-18 | ペリクル膜の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04100046A (ja) |
-
1990
- 1990-08-18 JP JP2217857A patent/JPH04100046A/ja active Pending
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