JPH04100523A - ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法 - Google Patents
ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH04100523A JPH04100523A JP21485490A JP21485490A JPH04100523A JP H04100523 A JPH04100523 A JP H04100523A JP 21485490 A JP21485490 A JP 21485490A JP 21485490 A JP21485490 A JP 21485490A JP H04100523 A JPH04100523 A JP H04100523A
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- JP
- Japan
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- membrane
- reverse osmosis
- composite reverse
- osmosis membrane
- polyamide type
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り栗上食肌里丘団
本発明は、ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法に関し
、詳しくは、溶剤を用いない所謂乾式法によってポリア
ミド系複合逆浸透膜を製造する方法に関する。
、詳しくは、溶剤を用いない所謂乾式法によってポリア
ミド系複合逆浸透膜を製造する方法に関する。
史来■及血
逆浸透膜は、従来、所謂湿式法によって製造されている
。代表的な方法は、酢酸セルロース膜の製造にみられる
ように、選択分離性を有する膜を形成し得る重合体の溶
液を調製し、これを凝固溶媒中に浸漬して、重合体膜を
形成させるものである。
。代表的な方法は、酢酸セルロース膜の製造にみられる
ように、選択分離性を有する膜を形成し得る重合体の溶
液を調製し、これを凝固溶媒中に浸漬して、重合体膜を
形成させるものである。
別の方法として、複合逆浸透膜の製造にみられるように
、相互に反応して重合体を形成し得る二種以上の多官能
性化合物の溶液を相互に混和しない溶剤に溶解させて、
それぞれ溶液を調製し、これら溶液を支持膜上で接触さ
せ、上記多官能性化合物を相互に界面反応させて、薄膜
を形成させる方法も知られている。
、相互に反応して重合体を形成し得る二種以上の多官能
性化合物の溶液を相互に混和しない溶剤に溶解させて、
それぞれ溶液を調製し、これら溶液を支持膜上で接触さ
せ、上記多官能性化合物を相互に界面反応させて、薄膜
を形成させる方法も知られている。
最近、高性能の複合逆浸透膜が開発され、特に、ポリス
ルホン多孔質支持体上に架橋ポリアミドからなる機能膜
を活性層として有する粉末が、従来の酢酸セルロース膜
に代わって主流となりつつある。
ルホン多孔質支持体上に架橋ポリアミドからなる機能膜
を活性層として有する粉末が、従来の酢酸セルロース膜
に代わって主流となりつつある。
かかる湿式法によるポリアミド系複合逆浸透膜の製造に
おいては、支持膜に対する上記重合体溶液の溶液の濡れ
性を改善するために界面活性側を溶液に加えたり、或い
は多官能性化合物相互の反応を容易ならしめるために、
例えば、触媒のような第３成分を加えたりすることが必
要である。しかし、このような界面活性剤や第３成分は
、支持膜上に形成される重合体薄膜の構成成分ではなく
、むしろこれらが薄膜中に残存するときは、重合体薄膜
の特性を低下させることがある。
おいては、支持膜に対する上記重合体溶液の溶液の濡れ
性を改善するために界面活性側を溶液に加えたり、或い
は多官能性化合物相互の反応を容易ならしめるために、
例えば、触媒のような第３成分を加えたりすることが必
要である。しかし、このような界面活性剤や第３成分は
、支持膜上に形成される重合体薄膜の構成成分ではなく
、むしろこれらが薄膜中に残存するときは、重合体薄膜
の特性を低下させることがある。
更に、湿式法による重合体薄膜の製造においては、反応
の場が不均一になりやすく、形成した薄膜が形成斑や厚
薄斑等を有することも多い。その製造に際しては、溶剤
を蒸発させ、回収する必要があるので、通常、複雑な製
造設備が必要とされる。また、溶剤を用いることは、環
境汚染を招くおそれもある。
の場が不均一になりやすく、形成した薄膜が形成斑や厚
薄斑等を有することも多い。その製造に際しては、溶剤
を蒸発させ、回収する必要があるので、通常、複雑な製
造設備が必要とされる。また、溶剤を用いることは、環
境汚染を招くおそれもある。
他方、すぐれた特性を有する薄膜形成素材があっても、
適切な溶剤が見当たらないために、上記した湿式法によ
っては、複合膜を得ることができないことも往々にしで
ある。
適切な溶剤が見当たらないために、上記した湿式法によ
っては、複合膜を得ることができないことも往々にしで
ある。
が”しようと る−
本発明は、従来の湿式法によるポリアミド系複合逆浸透
膜の製造における上記した問題を解決するためになされ
たものであって、溶剤を用いない所謂乾式法によるポリ
アミド系複合逆浸透膜の製造方法を提供することを目的
とする。
膜の製造における上記した問題を解決するためになされ
たものであって、溶剤を用いない所謂乾式法によるポリ
アミド系複合逆浸透膜の製造方法を提供することを目的
とする。
゛ るための
本発明は、微多孔性支持膜上に選択的分離性を有する薄
膜を有するポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法におい
て、相互に反応してポリアミド系重合体薄膜を形成し得
る少なくとも２種の多官能性化合物を上記支持膜上に蒸
着し、重合させることを特徴とする。
膜を有するポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法におい
て、相互に反応してポリアミド系重合体薄膜を形成し得
る少なくとも２種の多官能性化合物を上記支持膜上に蒸
着し、重合させることを特徴とする。
本発明において、支持膜としては、表面が適度の緻密性
を有し、且つ、水の透過性にすぐれるものが好ましく、
かかる観点から、特に、ポリスルホンからなる支持膜が
好ましく用いられる。
を有し、且つ、水の透過性にすぐれるものが好ましく、
かかる観点から、特に、ポリスルホンからなる支持膜が
好ましく用いられる。
相互に反応してポリアミド系重合体薄膜を形成し得る多
官能性化合物は、従来、知られている任意のものを用い
ることができるが、特に、逆浸透膜として高流束を与え
ると共に、高塩除去率を示すものとして、トリメシン酸
クロライドとｍ−フェニレンジアミンとの組合わせ、イ
ソフタロイルクロライドとｍ−フェニレンジアミンとの
組合わせ、トリメシン酸クロライドとピペラジンとの組
合わせ等を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
官能性化合物は、従来、知られている任意のものを用い
ることができるが、特に、逆浸透膜として高流束を与え
ると共に、高塩除去率を示すものとして、トリメシン酸
クロライドとｍ−フェニレンジアミンとの組合わせ、イ
ソフタロイルクロライドとｍ−フェニレンジアミンとの
組合わせ、トリメシン酸クロライドとピペラジンとの組
合わせ等を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
第１図は、本発明によるポリアミド系複合逆浸透膜の製
造のための装置の一例を示す。真空容器１内に、小容器
２に入れた多官能性化合物を置き、真空容器内をｌｏ−
４〜１０−”Ｔｏｒｒの範囲に保持し、必要に応じて加
熱手段３によって小容器を加熱して、多官能性化合物を
蒸発させる。蒸発速度モニター４にて多官能性化合物の
蒸発速度が一定に達したことを確認した後、シャッター
５を開いて、支持膜ホルダー６に保持させた支持膜７上
に多官能性化合物を堆積させ、重合させる。支持膜上で
の多官能性化合物の重合を促進するために、必要に応じ
て支持膜ホルダーにも加熱手段８を配設して、支持膜を
加熱してもよい。但し、真空容器内の真空度は必ずしも
上記例示に限定されるものではなく、用いる多官能性化
合物の種類やその加熱温度等によって適宜に定められる
。
造のための装置の一例を示す。真空容器１内に、小容器
２に入れた多官能性化合物を置き、真空容器内をｌｏ−
４〜１０−”Ｔｏｒｒの範囲に保持し、必要に応じて加
熱手段３によって小容器を加熱して、多官能性化合物を
蒸発させる。蒸発速度モニター４にて多官能性化合物の
蒸発速度が一定に達したことを確認した後、シャッター
５を開いて、支持膜ホルダー６に保持させた支持膜７上
に多官能性化合物を堆積させ、重合させる。支持膜上で
の多官能性化合物の重合を促進するために、必要に応じ
て支持膜ホルダーにも加熱手段８を配設して、支持膜を
加熱してもよい。但し、真空容器内の真空度は必ずしも
上記例示に限定されるものではなく、用いる多官能性化
合物の種類やその加熱温度等によって適宜に定められる
。
１皿少立釆
本発明の方法によれば、溶剤を用いることなく、複合半
透膜を得ることができる。かかる方法によって得られる
ポリアミド系複合逆浸透膜は、ポリアミド系重合体の配
向性が湿式法によるものよりも高く、従って、高塩除去
率を有すると共に、膜厚が薄いので、高透水性を有する
。かかる本発明による複合逆浸透膜は、例えば、かん水
、海水等の脱塩による淡水化や、半導体の製造に用いら
れる超純水の製造に好適に用いることができる。
透膜を得ることができる。かかる方法によって得られる
ポリアミド系複合逆浸透膜は、ポリアミド系重合体の配
向性が湿式法によるものよりも高く、従って、高塩除去
率を有すると共に、膜厚が薄いので、高透水性を有する
。かかる本発明による複合逆浸透膜は、例えば、かん水
、海水等の脱塩による淡水化や、半導体の製造に用いら
れる超純水の製造に好適に用いることができる。
１施■
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこ
れら実施例により何ら限定されるものではない。
れら実施例により何ら限定されるものではない。
尚、以下の実施例においては、微多孔性支持膜しとて、
ポリスルホン系限外濾過膜を用いた。
ポリスルホン系限外濾過膜を用いた。
実施例１
それぞれその周囲にヒーターを巻回した管状容器にトリ
メシン酸クロライドとｍ−フェニレンジアミンとを入れ
、これらを真空容器内に置いた。
メシン酸クロライドとｍ−フェニレンジアミンとを入れ
、これらを真空容器内に置いた。
次いで、この真空ポンプを真空ポンプにて１×１０−５
Ｔｏｒｒまで減圧し、熱電対でその温度を測定しつつ、
１８０℃±２℃に加熱し、蒸発させたところ、上記それ
ぞれの化合物は限外濾過膜上に堆積し、重合体薄膜を形
成し、かくして、ポリアミド系複合逆浸透膜を得た。そ
の膜性能を第１表に示す。
Ｔｏｒｒまで減圧し、熱電対でその温度を測定しつつ、
１８０℃±２℃に加熱し、蒸発させたところ、上記それ
ぞれの化合物は限外濾過膜上に堆積し、重合体薄膜を形
成し、かくして、ポリアミド系複合逆浸透膜を得た。そ
の膜性能を第１表に示す。
第 １ 表
を用いた以外は、実施例１と同様にして、ポリアミド系
複合逆浸透膜を得た。その膜性能を第１表に示す。
複合逆浸透膜を得た。その膜性能を第１表に示す。
第１図は、本発明によるポリアミド系複合逆浸透膜の製
造に用いる装置の一例を示す断面図である。 １・・・真空容器、２・・・小容器、３・・・加熱手段
、４・・・蒸発速度モニター、５・・・シャッター、６
・・・支持膜ホルダー、７・・・支持膜、８・・・加熱
手段。 実施例２ トリメシン酸クロライドに代えて、イソフタロイルクロ
ライドを用いた以外は、実施例１と同様にして、ポリア
ミド系複合逆浸透膜を得た。その膜性能を第１表に示す
。 実施例３
造に用いる装置の一例を示す断面図である。 １・・・真空容器、２・・・小容器、３・・・加熱手段
、４・・・蒸発速度モニター、５・・・シャッター、６
・・・支持膜ホルダー、７・・・支持膜、８・・・加熱
手段。 実施例２ トリメシン酸クロライドに代えて、イソフタロイルクロ
ライドを用いた以外は、実施例１と同様にして、ポリア
ミド系複合逆浸透膜を得た。その膜性能を第１表に示す
。 実施例３
Claims (1)
- （１）微多孔性支持膜上に選択的分離性を有する薄膜を
有する複合逆浸透膜の製造方法において、相互に反応し
てポリアミド系重合体薄膜を形成し得る少なくとも２種
の多官能性化合物を上記支持膜上に蒸着し、重合させる
ことを特徴とするポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21485490A JPH04100523A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21485490A JPH04100523A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04100523A true JPH04100523A (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=16662651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21485490A Pending JPH04100523A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | ポリアミド系複合逆浸透膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04100523A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014118417A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Kojima Press Industry Co Ltd | ポリユリア及びその製造方法並びにコンデンサ素子及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-08-13 JP JP21485490A patent/JPH04100523A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014118417A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Kojima Press Industry Co Ltd | ポリユリア及びその製造方法並びにコンデンサ素子及びその製造方法 |
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