JPH0410311A - Nb↓3Sn系超電導線の製造方法 - Google Patents

Nb↓3Sn系超電導線の製造方法

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JPH0410311A
JPH0410311A JP2109512A JP10951290A JPH0410311A JP H0410311 A JPH0410311 A JP H0410311A JP 2109512 A JP2109512 A JP 2109512A JP 10951290 A JP10951290 A JP 10951290A JP H0410311 A JPH0410311 A JP H0410311A
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JP
Japan
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nb3sn
wire
heat treatment
superconducting wire
oxide film
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Pending
Application number
JP2109512A
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English (en)
Inventor
Yoshiaki Nakabayashi
中林 美明
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はNb3Sn系超電導線の製造方法に関するも
のである。
(従来の技術) 近年、超電導線材は、電力消費がほとんどなく大電流を
流すことか出来、かつ高磁界まで超電導状態が保たれる
ことから高磁界発生用電磁石の巻線材として利用さゎて
いる。現在広く利用されている線材としてはNb−Ti
系の合金線材とNb3Sn系の化合物線材がある。前記
Nb−Ti系線材の発生磁界は9テスラの限界があり、
これ以上の高磁界を必要とする場合には、臨界磁界の高
いNb3Snの化合物線材が用いられる。
次に従来例のNb3Sn系超電導線について図面を用い
て説明する。
図面第2図は従来例の安定化鋼を有するSn拡散法Nb
3Sn線(未Nb3Sn生成熱処理)の断面図、第3図
は従来例のSn拡散法のパルス用Nb3Sn線(未Nb
3Sn生成熱処理)の断面図、第4図は従来例のパルス
用Nb 3 S n M電導線の断面図である。
図面第2図ないし第4図において、2はNb3Sn、3
はCu−Sn合金(ブロンズ)、4はNb3Sn超電導
線の表面層に発生するボイド欠陥、5はCu、6はNb
基体(フィラメント)、7はSn基体、8はTa又はN
bのSn拡散バリアである。
次にこの従来例のNb3Sn超電導線の製造方法と特性
について説明する。
Nb3Sn超電導線の製造方法としては、第2図に示す
ようなCu5とSn基体7とNb基体6の三者より成り
、通常Sn拡散法と呼ばれている方法かある(説明は省
略する)。この製造方法はすべて加工性に富んだ金属が
使用されており、極めて加工性に優れ、中間焼鈍なしに
所望の形状寸法が得られる。又Sn量も多くすることが
できて、Nb3Sn生成量も必然的に多くなり臨界電流
特性の高い優れたNb3Sn超電導線を得ることができ
る。
次にこの従来例の熱処理について説明する。
Nb3Sn超電導線は電磁石のコイル巻前後のいずれか
で600〜800℃で数10〜数100時間のNb3S
n生成熱処理が行われる。この熱処理でSn基体がまず
Cu中に拡散しCu−Sn合金(ブロンズ)化し、ざら
にCu−Sn合金中のSnがNbフィラメントと反応し
てNbs Snを生成する。図面第2図に示すように外
皮の安定化Cu5まてのSnの拡散を防止するためTa
又はNbなとのSn拡散バリアが設けられている。
しかし最近は、急速な磁界変動に対し安定なNb3Sn
超電導線が強く要求されており、パルス用Nb3Sn超
電導線の開発が進められている。従って、Nb3Sn超
電導線の交流損失の低減から安定化銅のないNb3Sn
線が開発製作される様になってきた。即ち、安定化銅を
結合損失及び過電流損失の低減から電気抵抗の高いCu
−Sn合金(ブロンズ)に置き換えられている。この方
法は、パルス用Nb3Sn超電導線としてSn拡散法の
Nb3Sn線では第3図に示すように3Sn拡散バリア
を設けずにN1)、3Sn生成熱処理でSnの拡散によ
りNb(フィラメント)と未反応Snか外皮を含んたC
uマトリックスを電気抵抗の高いCu−Sn合金である
ブロンズとする方法である。
上記の方法で形成されたNb3Sn線て電磁石のコイル
巻の前又は後のいずれかてNb3Sn生成熱処理されN
b3Sn超電導線となる。このNb3Sn生成熱処理は
600〜800℃の高温て、かつ数10〜数100時間
の長時間て行われる。
〔発明か解決しようとする課題〕
以上のように、従来例においては、Nb3Sn生成熱処
理の場合、前記のような高温と長時間の熱処理が行われ
るために3Sn拡散バリアのないパルス用Nb3Snl
!(第3図)は線材外皮のCu−Sn合金からSnの気
化かおこりNb3Sn超電導線表面層が第4図に示す様
に脱Sn現象状態となる。この脱Sn現象はNb3Sn
超電導線の表面層にボイド欠陥4を発生する。このボイ
ド欠陥は巻線材として曲げ、弓張りおよび圧縮応力に対
し線材の機械的強度を減少する。又、脱Sn現象により
ブロンズ・マトリックスのSn濃度か低下し、Nb3S
n生成量が減少し、臨界電流特性も低下するという問題
点かあった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たものて、均質て表面欠陥の発生かなく、かつ臨界電流
特性の低下のない健全なパルス用NbffSnM電導線
の製造方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
このため、この発明においては、CuとSn基体とNb
基体の三者より成るNb3Sn系超電導線の製造方法に
おいて、安定化銅を含まない前記Nb3Sn系超電導線
を大気中雰囲気下て熱処理温度100〜450℃、熱処
理時間1〜50時間て熱処理を施し、前記Nb3Sn線
材表面に厚さ005μm〜50μmの酸化銅皮膜を生成
するNb3Sn系超電導線の製造方法により、前記目的
を達成しようとするものである。
〔作用〕
この発明におけるNb3Sn系超電導線は、大気中雰囲
気て熱処理温度100〜450℃、熱処理時間1〜50
時間で熱処理して、Nb3Sn線材表面に厚さ0−05
〜5.0μmの酸化銅皮膜を生成するので、安定化銅の
ないN b j S n &超電導線のNb3Sn生成
熱処理時に発生する脱Sn現象をおこさせず5表面にボ
イド欠陥を発生させない。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
図面第1図はこの発明の製造方法によって作られたNb
3Sn系超電導線の断面図である。
図面第1図において、1は酸化銅皮膜(詳細後述)、2
はNb3Sn、3はCu−Sn合金(ブロンズ)である
次にこの発明の安定化鋼のないパルス用Nb3Sn系超
電導線の製造方法について、第1図および前記従来例の
図面を援用して説明する。
前記従来例の図面第3図におけるCuとSn基体とNb
基体の三者より成るSn拡散法Nb3Sn線を所望線径
である、例えば1.0mo+の線を製作し束状又はボビ
ン巻形状とする。このNb3Sn線材を大気中雰囲気下
で熱処理温度210℃、熱処理時間6時間の熱処理を実
施し、線材表面に約0.5μmの酸化銅皮膜を生成した
(案1図)にの酸化銅皮膜を有するNb5sn線は電磁
石のコイル巻前又は後に行われるNb3Sn生成熱処理
て線材外皮(表面)からの脱Snを防止することができ
た。
次にこの発明における熱処理条件の限界値について説明
する。
まず酸化銅生成と温度条件について説明する。
Sn拡散法Nb3Sn線に酸化銅皮膜熱処理は大気中雰
囲気下で熱処理温度約250℃まではCu2Oの酸化銅
で約250”CをこえるとCuOに変化する。いずれの
酸化膜でも脱Sn現象を防止することか可能である。
次にSnの動作と熱処理条件について説明する。Sn拡
散法Nb3Sn線はSnが配置されているため、約23
0℃まではSnが溶解しないのて問題はない。約230
℃をこえるとSnは溶解しCu中に拡散する。さらに4
50℃をこえると一部Nb(フィラメント)と反応しN
b3Snを生成する。Nb3Snが生成されると撚線や
巻線などの加工に支障をきたし、後のNb3Sn生成熱
処理で十分な臨界電流が得られなくなる。また、450
℃をこえると酸化銅皮膜が荒れるので望ましくなく、1
00℃未満ては有効な酸化膜生成か得られない。
次に酸化銅皮膜の膜厚について説明する。酸化銅皮膜厚
0,05μm未満では脱Sn現象を十分に防止出来ず、
5μmをこえると線材表面が荒ゎ線材強度を減じるため
害がある。
以上の説明より安定化銅を含まないNb3Sn超電導線
を大気中雰囲気下で熱処理温度100〜450℃、熱処
理時間1〜50時間で熱処理し、Nb3Sn線材表面に
厚さ0.054m〜5.0μmの酸化銅皮膜を生成する
ことができる。
尚、酸化銅皮@処理はNb3Sn生成熱処理時の450
℃以下で同時処理することも問題はない。但し、450
℃で空気を不活性カスのAr又はN2で十分置換し昇温
することか必要である。
他の酸化銅皮膜処理方法としては、水酸化ナトリウム+
’NaoH)溶液中て陽極酸化する方法と水酸化ナトリ
ウムと亜塩素酸ソータ(NaCIIO2)溶液を約95
℃に加熱し、この溶液中にNb、3Sni@をつける無
電解法かあるか、いずれの方法も本発明を損なうもので
はない (発明の効果) 以上のように、本発明によれば安定化銅のないパルス用
Nb3Sn線の表面の酸化銅皮膜処理をすることにより
、Nb5Sn生成熱処理時に発生する脱Sn現象を防止
し表面層のボイド欠陥がなく、健全て安定したパルス用
Nb5SnJ、超電導線を得ることかてきる効果がある
【図面の簡単な説明】
図面第1図はこの発明の一実施例の製造方法によフて作
られたNb3Sn系超電導線の断面図、第2図は従来の
安定化銅を有するSn拡散法Nb3Sn線(未Nb3S
n生成熱処理)の断面図、第3図は従来例のSn拡散法
のパルス用Nb3Sn線(未Nb3Sn生成熱処理)の
断面図、第4図は従来例のパルス用Nb3Sn超電導線
の断面図である。 1−−−−−−酸化銅皮膜 2・==Nb3Sn 3− ・= Cu −S n合金(ブロンズ)4−−−
−−・ボイド欠陥 5−−−−−− Cu 6・・・−Nb基体くフィラメント) 7−−−−Sn基体 8−−−−−−Ta又はNbのSn拡散バリア図中、同
一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 CuとSn基体とNb基体の三者より成る Nb_3Sn系超電導線の製造方法において、安定化銅
    を含まない前記Nb_3Sn系超電導線を大気中雰囲気
    下で熱処理温度100〜450℃、熱処理時間1〜50
    時間で熱処理を施し、前記Nb_3Sn線材表面に厚さ
    0.05μm〜5.0μmの酸化銅皮膜を生成すること
    を特徴とするNb_3Sn系超電導線の製造方法。
JP2109512A 1990-04-25 1990-04-25 Nb↓3Sn系超電導線の製造方法 Pending JPH0410311A (ja)

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