JPH04103760A - 昇華性金属の真空蒸着装置 - Google Patents
昇華性金属の真空蒸着装置Info
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- JPH04103760A JPH04103760A JP22224290A JP22224290A JPH04103760A JP H04103760 A JPH04103760 A JP H04103760A JP 22224290 A JP22224290 A JP 22224290A JP 22224290 A JP22224290 A JP 22224290A JP H04103760 A JPH04103760 A JP H04103760A
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 53
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 53
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 29
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 18
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 5
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 abstract 5
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 21
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｍｇ、 Ｍｎ、 Ｃｒ等の昇華性金属を安定
して蒸発させつつ蒸着させることのできる真空蒸着装置
に関するものである。
して蒸発させつつ蒸着させることのできる真空蒸着装置
に関するものである。
Ｍｇのように昇華性の強い金属は、真空中で電熱ヒータ
ーや電子銃等を用いて加熱すると溶融状態を経ることな
く固体状態からどんどん蒸発し、遂には消失してしまう
。そこでＭｇ等の真空蒸着に際しては、従来、殊更に原
料の溶融は行わず、固体原料をルツボ内に収納して加熱
蒸発させ、例えば鋼板等へ蒸着めっきを行っていた。
ーや電子銃等を用いて加熱すると溶融状態を経ることな
く固体状態からどんどん蒸発し、遂には消失してしまう
。そこでＭｇ等の真空蒸着に際しては、従来、殊更に原
料の溶融は行わず、固体原料をルツボ内に収納して加熱
蒸発させ、例えば鋼板等へ蒸着めっきを行っていた。
すなわち第３図は、従来の真空蒸着装置を示す説明図で
、真空チャンバー２１内に綱板２２を設置する（あるい
は長尺の帯鋼を走行させる）とともに、綱板２２の下方
に配置したルツボ２３に原料金属（固体）２４を投入し
ておく。この装置を用いて鋼板２２に蒸着めっきを施す
に当たっては、ルツボ２３の内装ヒータ２５に電力を印
加して原料金属２４を加熱するが、原料金属２４がＭｇ
等の昇華性金属である場合は、ヒータ２５より原料金属
２４に加えられた熱量は、加熱の初期には原料金属２４
の昇温に寄与するものの、温度が上昇するに従い、この
金属の飽和蕉気圧が高くなって蒸発が促進されるとヒー
タ２５より加えられた熱量の多くは金属の蒸発に寄与す
るようになる。そして遂にはヒータ２５より加えられた
熱量は全て金属の蒸発に寄与するようになり、金属の温
度は全く上昇しなくなり融点に達することな（固体状態
からの蒸発が進行する。
、真空チャンバー２１内に綱板２２を設置する（あるい
は長尺の帯鋼を走行させる）とともに、綱板２２の下方
に配置したルツボ２３に原料金属（固体）２４を投入し
ておく。この装置を用いて鋼板２２に蒸着めっきを施す
に当たっては、ルツボ２３の内装ヒータ２５に電力を印
加して原料金属２４を加熱するが、原料金属２４がＭｇ
等の昇華性金属である場合は、ヒータ２５より原料金属
２４に加えられた熱量は、加熱の初期には原料金属２４
の昇温に寄与するものの、温度が上昇するに従い、この
金属の飽和蕉気圧が高くなって蒸発が促進されるとヒー
タ２５より加えられた熱量の多くは金属の蒸発に寄与す
るようになる。そして遂にはヒータ２５より加えられた
熱量は全て金属の蒸発に寄与するようになり、金属の温
度は全く上昇しなくなり融点に達することな（固体状態
からの蒸発が進行する。
ところで、上述した昇華性金属の真空蒸着装置では、原
料金属２４を安定して蒸発させながら原料金属２４を補
給しつつ真空蒸着することは困難であった。そのため、
昇華性金属の真空蒸着は一般にバッチ処理で行われ、ル
ツボ２３に満たされた原料金属２４が蒸発して無くなれ
ば、製造を一時中断し、原料金属２４をルツボ２３に補
給するか、または新しい原料金属２４の入ったルツボ２
３に取り替えるかして、再び製造するといった手間のか
かる作業を繰り返していた。また、ルツボ２３に満たさ
れた原料金属２４は、−Ｃに第４図に示す如く、蒸発す
るにつれ原料金属２４の蒸発面の形状が変わり、蒸発面
積が大きく変化し、これに伴い蒸発量が変わることから
均一な蒸着が得られないことがあった。
料金属２４を安定して蒸発させながら原料金属２４を補
給しつつ真空蒸着することは困難であった。そのため、
昇華性金属の真空蒸着は一般にバッチ処理で行われ、ル
ツボ２３に満たされた原料金属２４が蒸発して無くなれ
ば、製造を一時中断し、原料金属２４をルツボ２３に補
給するか、または新しい原料金属２４の入ったルツボ２
３に取り替えるかして、再び製造するといった手間のか
かる作業を繰り返していた。また、ルツボ２３に満たさ
れた原料金属２４は、−Ｃに第４図に示す如く、蒸発す
るにつれ原料金属２４の蒸発面の形状が変わり、蒸発面
積が大きく変化し、これに伴い蒸発量が変わることから
均一な蒸着が得られないことがあった。
本発明は、上記の事情に着目してなされたものであって
、原料金属を安定して蒸発させながら原料金属を補給す
るとともに、ルツボ内の原料金属の蒸発面を極力水平面
状に維持し、これにより長時間連続して且つ均一な蒸着
めっき皮膜の真空蒸着を可能ｔこする昇華性金属の真空
蒸着装置を従供することを目的とするものである。
、原料金属を安定して蒸発させながら原料金属を補給す
るとともに、ルツボ内の原料金属の蒸発面を極力水平面
状に維持し、これにより長時間連続して且つ均一な蒸着
めっき皮膜の真空蒸着を可能ｔこする昇華性金属の真空
蒸着装置を従供することを目的とするものである。
上記目的を達成するために、本発明に係わる昇華性金属
の真空蒸着装置は、 真空排気系を有する真空チャンバ
ー内に、加熱されて蒸発する粒状または塊状の昇華性金
属原料を収納するルツボを装備してなる真空蒸着装置で
あって、前記ルツボのルツボ底をルツボ側壁内面に対し
摺動可能に形成するとともに、ルツボ底の外底に摺動の
ための駆動装置を装備し、且つルツボが加振装置により
振動可能に装備されてなるものである。
の真空蒸着装置は、 真空排気系を有する真空チャンバ
ー内に、加熱されて蒸発する粒状または塊状の昇華性金
属原料を収納するルツボを装備してなる真空蒸着装置で
あって、前記ルツボのルツボ底をルツボ側壁内面に対し
摺動可能に形成するとともに、ルツボ底の外底に摺動の
ための駆動装置を装備し、且つルツボが加振装置により
振動可能に装備されてなるものである。
本発明装置では、昇華性金属原料として粒状または塊状
のものを使用する。これによりルツボ内の昇華性金属原
料の蒸発面（上表面）は加振装置による振動と相まって
略水平に維持することができる。またルツボ底がルツボ
側壁内面に対し摺動可能に形成され、ルツボ底の外底に
摺動のためのす動装置が装備されているので、この駆動
装置によりルツボ底を上昇させることにより、ルツボ内
の昇華性金属原料の蒸発面（上表面）のルツボ内での高
さ位置が略同じに維持し得ると同時に、予めルツボ内に
昇華性金属原料を多めに収容しておくことにより下から
の原料供給がなされ、原料金属を安定して蒸発させなが
ら原料金属を補給することができ、長時間連続して且つ
均一な蒸着めっき皮膜の真空蒸着ができる。
のものを使用する。これによりルツボ内の昇華性金属原
料の蒸発面（上表面）は加振装置による振動と相まって
略水平に維持することができる。またルツボ底がルツボ
側壁内面に対し摺動可能に形成され、ルツボ底の外底に
摺動のためのす動装置が装備されているので、この駆動
装置によりルツボ底を上昇させることにより、ルツボ内
の昇華性金属原料の蒸発面（上表面）のルツボ内での高
さ位置が略同じに維持し得ると同時に、予めルツボ内に
昇華性金属原料を多めに収容しておくことにより下から
の原料供給がなされ、原料金属を安定して蒸発させなが
ら原料金属を補給することができ、長時間連続して且つ
均一な蒸着めっき皮膜の真空蒸着ができる。
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
裏−隻一±−土
第１図は、本発明に係わる昇華性金属の真空蒸着装置の
断面説明図である。図において、ｌは真空チャンバーで
ある。２は電子銃であって、真空チャンバー１の側壁に
据えられている。３はベースであって、真空チャンバー
１に固定され、その中央に貫通孔４が穿設されている。
断面説明図である。図において、ｌは真空チャンバーで
ある。２は電子銃であって、真空チャンバー１の側壁に
据えられている。３はベースであって、真空チャンバー
１に固定され、その中央に貫通孔４が穿設されている。
５はルツボであって、その底６は側壁７に対して摺動可
能に分離され、底６の外底面にはロッド８が同定され、
側壁７はベース３上にバネ９により支持されて構成され
ている。１０は加振装置であって、ルツボ５の側壁７の
外表面に固定されている。１１は駆動用シリンダであっ
て、真空チャンバー１の外底に設けられ、そのロッド１
２は真空チャンバー１の底部を気密に貫通して真空チャ
ンバーＩ内に導入され、ロッド１２の上端と前記ルツボ
５の底６に固定したロッド８の下端とは球面軸受は状に
形成されて接続されている。１３は昇華性金属原料であ
って、細かい粒状に成形されルツボ５内に収容されてい
る。１４は鋼板であって、ルツボ５の上方に設けられて
いる。
能に分離され、底６の外底面にはロッド８が同定され、
側壁７はベース３上にバネ９により支持されて構成され
ている。１０は加振装置であって、ルツボ５の側壁７の
外表面に固定されている。１１は駆動用シリンダであっ
て、真空チャンバー１の外底に設けられ、そのロッド１
２は真空チャンバー１の底部を気密に貫通して真空チャ
ンバーＩ内に導入され、ロッド１２の上端と前記ルツボ
５の底６に固定したロッド８の下端とは球面軸受は状に
形成されて接続されている。１３は昇華性金属原料であ
って、細かい粒状に成形されルツボ５内に収容されてい
る。１４は鋼板であって、ルツボ５の上方に設けられて
いる。
上述の如く構成された昇華性金属の真空蒸着装置におい
て、鋼Ｆｉ１４の表面への昇華性金属原料１３の真空蒸
着は次の如くして行われる。真空チャンバー１内を所望
の真空状態にした後、加振装置１０を作動してルツボ５
を振動させながら、電子銃２を作動してルツボ５内の昇
華性金属原料１３を加熱する。この加熱により昇華性金
属原料１３は蒸発を始め、蒸発した昇華性金属は鋼板１
４の表面に付着する。一方昇華性金属原料１３は蒸発に
より消失するが、その蒸発面（上表面）は振動によって
略水平に保たれ所定量消失したら、その都度駆動用シリ
ンダ１１を作動してルツボ底６を上昇させ、昇華性金属
原料】３の蒸発面を押し上げ、蒸発面のレベルを略一定
に保持する。このように昇華性金属原料１３の蒸発面を
略水平に保持しながら、且つそのレベルを略一定位置に
保持しながら、さらに蒸発により消失した昇華性金属原
料１３をルツボ底６を上昇させて補給しながら真空蒸着
できるので、長時間連続して且つ均一な蒸着めっき皮膜
の真空蒸着ができる。
て、鋼Ｆｉ１４の表面への昇華性金属原料１３の真空蒸
着は次の如くして行われる。真空チャンバー１内を所望
の真空状態にした後、加振装置１０を作動してルツボ５
を振動させながら、電子銃２を作動してルツボ５内の昇
華性金属原料１３を加熱する。この加熱により昇華性金
属原料１３は蒸発を始め、蒸発した昇華性金属は鋼板１
４の表面に付着する。一方昇華性金属原料１３は蒸発に
より消失するが、その蒸発面（上表面）は振動によって
略水平に保たれ所定量消失したら、その都度駆動用シリ
ンダ１１を作動してルツボ底６を上昇させ、昇華性金属
原料】３の蒸発面を押し上げ、蒸発面のレベルを略一定
に保持する。このように昇華性金属原料１３の蒸発面を
略水平に保持しながら、且つそのレベルを略一定位置に
保持しながら、さらに蒸発により消失した昇華性金属原
料１３をルツボ底６を上昇させて補給しながら真空蒸着
できるので、長時間連続して且つ均一な蒸着めっき皮膜
の真空蒸着ができる。
尚、上記実施例では、駆動用シリンダ１１を真空チャン
バー１の外底に設置した例を述べたが、本発明はこれに
特定されるものでは無く、真空チャンバー１の内底に設
置してもよい。
バー１の外底に設置した例を述べたが、本発明はこれに
特定されるものでは無く、真空チャンバー１の内底に設
置してもよい。
また駆動用シリンダ１１のロッド１２の上端とルツボ５
の底６に固定したロッド８の下端との接続構造として球
面軸受は構造を例に説明したが、本発明はこれに特定さ
れるものでは無く、例えばユニバーサル軸継手状の構造
であってもよく、要は振動を吸収するとともに上下動が
できればよい。
の底６に固定したロッド８の下端との接続構造として球
面軸受は構造を例に説明したが、本発明はこれに特定さ
れるものでは無く、例えばユニバーサル軸継手状の構造
であってもよく、要は振動を吸収するとともに上下動が
できればよい。
裏−旌一、ＬＪ−
第２図は、本発明に係わる別層様の昇華性金属の真空蒸
着装置の断面説明図である。尚、図において、上記実施
例１と同構成のものは同符号で示す。
着装置の断面説明図である。尚、図において、上記実施
例１と同構成のものは同符号で示す。
この例では、ベース３を真空チャンバー１の内庭にハ２
９により支持して設ける一方、加振装置１０をベース３
の外側壁面上に、および駆動用シリンダ１１をベース３
の内底の中心部にそれぞれ固定して設け、さらに駆動用
シリンダ１１のロッド１２の上端面にルツボ５の底６の
外底面を固定して設けた構成とし、一方ベース３内の内
壁面には鍔１５を設けてその鍔１５上にルツボ５の側壁
７の下端面を固定して設けた構成としている。
９により支持して設ける一方、加振装置１０をベース３
の外側壁面上に、および駆動用シリンダ１１をベース３
の内底の中心部にそれぞれ固定して設け、さらに駆動用
シリンダ１１のロッド１２の上端面にルツボ５の底６の
外底面を固定して設けた構成とし、一方ベース３内の内
壁面には鍔１５を設けてその鍔１５上にルツボ５の側壁
７の下端面を固定して設けた構成としている。
このような構成の昇華性金属の真空蒸着装置においても
、上記実施例１と同様に加振装置１０および駆動用シリ
ンダ１１が機能し、昇華性金属原料１３の蒸発面を略水
平に保持しながら、且つそのレベルを略一定位置に保持
しながら、さらに蒸発により消失した昇華性金属原料１
３をルツボ底６を上昇させて補給しながら真空蒸着でき
るので、長時間連続して且つ均一な蒸着めっき皮膜の真
空蒸着ができる。
、上記実施例１と同様に加振装置１０および駆動用シリ
ンダ１１が機能し、昇華性金属原料１３の蒸発面を略水
平に保持しながら、且つそのレベルを略一定位置に保持
しながら、さらに蒸発により消失した昇華性金属原料１
３をルツボ底６を上昇させて補給しながら真空蒸着でき
るので、長時間連続して且つ均一な蒸着めっき皮膜の真
空蒸着ができる。
尚、上記実施例１および２において、加熱装置として電
子銃２を例に説明したが、本発明はこれに特定されるも
のではなく、要はルツボ５内の昇華性金属原料１３を加
熱し得るものであればよい。
子銃２を例に説明したが、本発明はこれに特定されるも
のではなく、要はルツボ５内の昇華性金属原料１３を加
熱し得るものであればよい。
以上に説明したように、本発明に係わる昇華性金属の真
空蒸着装置によれば、昇華性金属原料を安定して蒸発さ
せながら原料金属を補給でき、長時間連続して且つ均一
な蒸着めっき皮膜の真空蒸着ができる。
空蒸着装置によれば、昇華性金属原料を安定して蒸発さ
せながら原料金属を補給でき、長時間連続して且つ均一
な蒸着めっき皮膜の真空蒸着ができる。
第１図は、本発明に係わる昇華性金属の真空蒸着装置の
断面説明圀、第２図は、本発明に係わる別層様の昇華性
金属の真空蒸着装置の断面説明図、第３図乃至第４図は
、 ある。 １ 真空チャンバー ３ ベース ５ ルツボ ７ ルツボの側壁 ９ バネ １１ 駆動用シリンダ １３ 昇華性金属原料 １５鍔 従来技術の断面説明図で 電子銃 貫通孔 ルツボの底 ロッド 加振装置 シリンダロッド 鋼板 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
断面説明圀、第２図は、本発明に係わる別層様の昇華性
金属の真空蒸着装置の断面説明図、第３図乃至第４図は
、 ある。 １ 真空チャンバー ３ ベース ５ ルツボ ７ ルツボの側壁 ９ バネ １１ 駆動用シリンダ １３ 昇華性金属原料 １５鍔 従来技術の断面説明図で 電子銃 貫通孔 ルツボの底 ロッド 加振装置 シリンダロッド 鋼板 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
Claims (1)
- 真空排気系を有する真空チャンバー内に、加熱されて蒸
発する粒状または塊状の昇華性金属原料を収納するルツ
ボを装備してなる真空蒸着装置であって、前記ルツボの
ルツボ底をルツボ側壁内面に対し摺動可能に形成すると
ともに、ルツボ底の外底に摺動のための駆動装置を装備
し、且つルツボが加振装置により振動可能に装備されて
いることを特徴とする昇華性金属の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22224290A JPH04103760A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 昇華性金属の真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22224290A JPH04103760A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 昇華性金属の真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04103760A true JPH04103760A (ja) | 1992-04-06 |
Family
ID=16779329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22224290A Pending JPH04103760A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 昇華性金属の真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04103760A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107815647A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-03-20 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种用于oled蒸镀的蒸发源装置 |
| WO2023228400A1 (ja) * | 2022-05-27 | 2023-11-30 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 蒸着装置、表示装置の製造方法 |
-
1990
- 1990-08-22 JP JP22224290A patent/JPH04103760A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107815647A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-03-20 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种用于oled蒸镀的蒸发源装置 |
| WO2023228400A1 (ja) * | 2022-05-27 | 2023-11-30 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 蒸着装置、表示装置の製造方法 |
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