JPH04104161A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH04104161A JPH04104161A JP2223701A JP22370190A JPH04104161A JP H04104161 A JPH04104161 A JP H04104161A JP 2223701 A JP2223701 A JP 2223701A JP 22370190 A JP22370190 A JP 22370190A JP H04104161 A JPH04104161 A JP H04104161A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- shutter
- light
- center
- exposure area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Diaphragms For Cameras (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は露光装置に関し、特にウェハ露光をする際に
、露光ショット内での積算露光量の均一性の向上を図っ
たものである。
、露光ショット内での積算露光量の均一性の向上を図っ
たものである。
第５図は従来の露光装置のシャッターを示す構成図であ
り、図（ａ）、 （Ｃ）は平面図、図（ｂ）は側面図を
示し、図において４はシャッター開口部、５はシャッタ
ー羽根、６は回転軸、７はモーター、８は固定板であり
、上記シャッター羽根５は開口部４が形成された固定板
８の前に、モーター７の回転軸６を介して取り付けられ
ている。
り、図（ａ）、 （Ｃ）は平面図、図（ｂ）は側面図を
示し、図において４はシャッター開口部、５はシャッタ
ー羽根、６は回転軸、７はモーター、８は固定板であり
、上記シャッター羽根５は開口部４が形成された固定板
８の前に、モーター７の回転軸６を介して取り付けられ
ている。
次に動作について説明する。シャッター羽根５がモータ
ー７から回転軸６を介して、一定時間おきに断続的に回
転することにより、シャッター開口部４の開閉を行って
いる。
ー７から回転軸６を介して、一定時間おきに断続的に回
転することにより、シャッター開口部４の開閉を行って
いる。
すなわち一定時間おきに断続的にシャッター羽根５が回
転することによって、図（ａ）、 Ｃｂ）に示すように
シャッター羽根５のない部分では、光は固定板８のシャ
ッター開口部４を通りウェハを露光するが、図（Ｃ）に
示すようにシャッター羽根５がさらに回転するとシャッ
ター開口部４は光を遮断し、ウェハへの露光が中断され
ることとなる。
転することによって、図（ａ）、 Ｃｂ）に示すように
シャッター羽根５のない部分では、光は固定板８のシャ
ッター開口部４を通りウェハを露光するが、図（Ｃ）に
示すようにシャッター羽根５がさらに回転するとシャッ
ター開口部４は光を遮断し、ウェハへの露光が中断され
ることとなる。
従来の露光装置は以上のように構成されており、シャッ
ター羽根５が回転することにより、シャッター開口部４
は一方の端から開きはじめ、その後シャッター開口部４
が全開した後、他方の端で閉じられる。これらの一連の
動作ではシャッター開口部４が開きはじめから全開にな
るまで、また全開から閉じ終わるまでの間で光軸のずれ
があり、そのため露光ショット内での積算露光量に不均
一が生じるという問題点があった。
ター羽根５が回転することにより、シャッター開口部４
は一方の端から開きはじめ、その後シャッター開口部４
が全開した後、他方の端で閉じられる。これらの一連の
動作ではシャッター開口部４が開きはじめから全開にな
るまで、また全開から閉じ終わるまでの間で光軸のずれ
があり、そのため露光ショット内での積算露光量に不均
一が生じるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、露光ショット内の露光量の均一性を確保する
ことのできる露光装置を得ることを目的とする。
たもので、露光ショット内の露光量の均一性を確保する
ことのできる露光装置を得ることを目的とする。
この発明に係る露光装置は、露光領域における露光光線
を露光領域中心部から外側に向けて遮光する第１のシャ
ッター機構と、露光領域における露光光線を露光領域外
側から中心部に向けて遮光する第２のシャッター機構と
を設け、これら２種のシャッター機構を交互に動作させ
て露光光線を被露光物に照射するようにしたものである
。
を露光領域中心部から外側に向けて遮光する第１のシャ
ッター機構と、露光領域における露光光線を露光領域外
側から中心部に向けて遮光する第２のシャッター機構と
を設け、これら２種のシャッター機構を交互に動作させ
て露光光線を被露光物に照射するようにしたものである
。
この発明においては、露光光線が、第１のシャッター機
構により露光領域中心部から遮光され、第２のシャッタ
ー機構により露光領域外側から遮光されるため、シャッ
ター開閉時の光軸のずれが低減され、露光領域内の露光
量の均一性を向上させることができる。
構により露光領域中心部から遮光され、第２のシャッタ
ー機構により露光領域外側から遮光されるため、シャッ
ター開閉時の光軸のずれが低減され、露光領域内の露光
量の均一性を向上させることができる。
〔実施例］
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図〜第４図はこの発明の一実施例による露光装置のシャ
ッターの構成を示し各図中図（ａ）は正面図、（ロ）は
側面図である。図において１はシャッター開口部、２は
回転遮光プレート（第１のシャッター機構）、３はスラ
イド遮光プレート（第２のシャッター機構）である。
図〜第４図はこの発明の一実施例による露光装置のシャ
ッターの構成を示し各図中図（ａ）は正面図、（ロ）は
側面図である。図において１はシャッター開口部、２は
回転遮光プレート（第１のシャッター機構）、３はスラ
イド遮光プレート（第２のシャッター機構）である。
次に動作について説明する。
まず第１図に示すように、回転遮光プレート２はシャッ
ター開口部１を通る光を遮断している。
ター開口部１を通る光を遮断している。
次に第２図に示すように、回転遮光プレート２が９０°
回転しシャッター開口部１を通る光を通過させる。この
時露光物における露光領域は、回転遮光プレート２が回
転するこによって露光領域側外側から中心部に向けて広
がり、露光時間は露光領域側外側の方が中心部よりも長
くなる。
回転しシャッター開口部１を通る光を通過させる。この
時露光物における露光領域は、回転遮光プレート２が回
転するこによって露光領域側外側から中心部に向けて広
がり、露光時間は露光領域側外側の方が中心部よりも長
くなる。
そして第３図に示すように左右のスライド遮光プレート
３が互いに内側に移動し、シャッター開口部１を通る光
を遮断する。この時露光物における露光領域は、スライ
ド遮光プレート２が露光領域側外側から内側に向けて移
動するこによって、露光領域両サイド側から中心部に向
けて減少し、露光時間は上記第２図の場合とは逆に、露
光領域両サイド側の方が中心部よりも短くなり、これに
より露光領域での露光量が均一となる。
３が互いに内側に移動し、シャッター開口部１を通る光
を遮断する。この時露光物における露光領域は、スライ
ド遮光プレート２が露光領域側外側から内側に向けて移
動するこによって、露光領域両サイド側から中心部に向
けて減少し、露光時間は上記第２図の場合とは逆に、露
光領域両サイド側の方が中心部よりも短くなり、これに
より露光領域での露光量が均一となる。
そしてさらに第４に示すように、左右のスライド遮光プ
レート３が互いに外側に移動し、シャッター開口部１を
通る光を通過させる。その後回転遮光プレート２が９０
°回転し、再び第１図の状態に戻る。
レート３が互いに外側に移動し、シャッター開口部１を
通る光を通過させる。その後回転遮光プレート２が９０
°回転し、再び第１図の状態に戻る。
以上のように１枚の回転遮光プレート２と２枚のスライ
ド遮光プレート３が一連の動作をすることによって、シ
ャッターの開閉時にシャッター開口１の中心から見て露
光光線の光軸が常に対称になり、またシャッター開口中
の積算露光量が開口単位面積当たり等しくなり、露光シ
ョット内の露光量の均一性を向上させることができる。
ド遮光プレート３が一連の動作をすることによって、シ
ャッターの開閉時にシャッター開口１の中心から見て露
光光線の光軸が常に対称になり、またシャッター開口中
の積算露光量が開口単位面積当たり等しくなり、露光シ
ョット内の露光量の均一性を向上させることができる。
なお、上記実施例では１つの回転式の遮光プレートと２
つのスライド式の遮光プレートでシャッターの開閉を行
なうようにしたが、第６図に示すようにスライド式の遮
光プレート３に代わって、回転遮光プレート９を用いた
構造のものを用いてもよく上記実施例と同様の効果を奏
する。
つのスライド式の遮光プレートでシャッターの開閉を行
なうようにしたが、第６図に示すようにスライド式の遮
光プレート３に代わって、回転遮光プレート９を用いた
構造のものを用いてもよく上記実施例と同様の効果を奏
する。
以上のように、この発明に係る露光装置によれば、被露
光物に照射される露光光線を、第１のシャッター機構を
用い、露光領域における露光光線を露光領域中心部から
外側に向けて遮光し、第２のシャッター機構を用い、露
光領域における露光光線を露光領域外側から中心部に向
けて遮光するようにしたので、シャッター開閉時にシャ
ッター開口部の中心から見て露光光線の光軸が常に対称
になり、またシャッター開口中の積算露光量が開口単位
面積当たり等しくなり、これによりウェハ上の露光ショ
ット内での積算露光量が均一となり、この結果、一定の
幅でパターンをレジストに転写することができるという
効果がある。
光物に照射される露光光線を、第１のシャッター機構を
用い、露光領域における露光光線を露光領域中心部から
外側に向けて遮光し、第２のシャッター機構を用い、露
光領域における露光光線を露光領域外側から中心部に向
けて遮光するようにしたので、シャッター開閉時にシャ
ッター開口部の中心から見て露光光線の光軸が常に対称
になり、またシャッター開口中の積算露光量が開口単位
面積当たり等しくなり、これによりウェハ上の露光ショ
ット内での積算露光量が均一となり、この結果、一定の
幅でパターンをレジストに転写することができるという
効果がある。
第１図〜第４図はこの発明の一実施例による露光装置の
シャッターの構成図、第５図は従来の露光装置のシャッ
ターの構成図、第６図はこの発明の変形例による露光装
置のシャッターの構成図である。 １はシャッター開口部、２は回転遮光プレート（第１の
シャッター機構）、３はスライド遮光プレート（第２の
シャッター機構）である。４はシャッター開口部である
。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
シャッターの構成図、第５図は従来の露光装置のシャッ
ターの構成図、第６図はこの発明の変形例による露光装
置のシャッターの構成図である。 １はシャッター開口部、２は回転遮光プレート（第１の
シャッター機構）、３はスライド遮光プレート（第２の
シャッター機構）である。４はシャッター開口部である
。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）被露光物に照射される露光光線の露光量をシャッ
ター機構を用いて調整する露光装置において、露光領域
における露光光線を露光領域中心部から外側に向けて遮
光する第１のシャッター機構と、露光領域における露光
光線を露光領域外側から中心部に向けて遮光する第２の
シャッター機構とを備え、上記第１、第２のシャッター
機構を交互に開閉させて被露光物を露光することを特長
とする露光装置。 - （２）上記第１のシャッター機構に回転式のプレートを
用い、第２のシャッター機構にスライド式のプレートを
用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の露
光装置。 - （３）上記第１、第２のシャッター機構共に回転式のプ
レートを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223701A JPH04104161A (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223701A JPH04104161A (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04104161A true JPH04104161A (ja) | 1992-04-06 |
Family
ID=16802304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2223701A Pending JPH04104161A (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04104161A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008219000A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
| JP2013038357A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Taiyo Kikai Seisakusho:Kk | シャッター装置およびそれを備えた露光装置 |
-
1990
- 1990-08-23 JP JP2223701A patent/JPH04104161A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008219000A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
| JP2013038357A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Taiyo Kikai Seisakusho:Kk | シャッター装置およびそれを備えた露光装置 |
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