JPH0410452B2 - - Google Patents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカルボキシル基を有する化合物の脱炭
酸反応に関する。更に詳しくは該脱炭酸反応にお
いて、触媒としてビニルケトン類を使用すること
からなる。
酸反応に関する。更に詳しくは該脱炭酸反応にお
いて、触媒としてビニルケトン類を使用すること
からなる。
従来、脱炭酸の容易な化合物は、直接加熱する
ことによつて脱炭酸反応が行なわれている。しか
し、直接加熱法では化合物自体が分解したりし
て、脱炭酸反応がうまくいかない等の場合は、溶
剤の存在下で行なわれることが多い。しかし、こ
の反応においても種々の欠点を有する。例えばア
ミノ酸化合物をテトラリンやシクロヘキサノール
の存在下で触媒に過酸化物を用いて脱炭酸を行う
反応(薬学雑誌,85巻,531頁,1965年)におい
ては、触媒として危険な過酸化物を使用するこ
と、収率が低いこと等の欠点を有する。また、ト
リプトフアンを微生物ミクロコツカス・ペルシト
レウスと接触させて脱炭酸を行う反応(フランス
特許第2239459号)においては、微生物の培養、
生成物の採取等に煩雑な操作を要すること等の欠
点を有する。また、9−フエナントリル酢酸を
240℃で24時間反応させて脱炭酸を行う反応
(Can.J.Chem.,56巻,5号,628頁,1978年)に
おいては、反応が高温で行なわれること、反応時
間が長いこと等の欠点を有する。また、ドデシル
酸を臭化銅当モルの存在下で320℃で脱炭酸を行
う反応(米国特許第4262157号)においては、反
応が高温で行なわれること、臭化銅を大量に使用
すること等の欠点を有する。また、チロシンをジ
フエニルメタンの存在下で260〜265℃で脱炭酸を
行う反応(Synthesis,475頁,1972年)において
は、反応が高温で行なわれること、収率が低いこ
と等の欠点を有する。
ことによつて脱炭酸反応が行なわれている。しか
し、直接加熱法では化合物自体が分解したりし
て、脱炭酸反応がうまくいかない等の場合は、溶
剤の存在下で行なわれることが多い。しかし、こ
の反応においても種々の欠点を有する。例えばア
ミノ酸化合物をテトラリンやシクロヘキサノール
の存在下で触媒に過酸化物を用いて脱炭酸を行う
反応(薬学雑誌,85巻,531頁,1965年)におい
ては、触媒として危険な過酸化物を使用するこ
と、収率が低いこと等の欠点を有する。また、ト
リプトフアンを微生物ミクロコツカス・ペルシト
レウスと接触させて脱炭酸を行う反応(フランス
特許第2239459号)においては、微生物の培養、
生成物の採取等に煩雑な操作を要すること等の欠
点を有する。また、9−フエナントリル酢酸を
240℃で24時間反応させて脱炭酸を行う反応
(Can.J.Chem.,56巻,5号,628頁,1978年)に
おいては、反応が高温で行なわれること、反応時
間が長いこと等の欠点を有する。また、ドデシル
酸を臭化銅当モルの存在下で320℃で脱炭酸を行
う反応(米国特許第4262157号)においては、反
応が高温で行なわれること、臭化銅を大量に使用
すること等の欠点を有する。また、チロシンをジ
フエニルメタンの存在下で260〜265℃で脱炭酸を
行う反応(Synthesis,475頁,1972年)において
は、反応が高温で行なわれること、収率が低いこ
と等の欠点を有する。
本発明は触媒として少量の安価で取扱いに安全
なビニルケトン類を使用すること、比較的低温で
反応が進行すること、収率が80%以上の高率であ
ること等の利点を有する。そして、本発明は広範
囲の化合物に対して適用しうることから、極めて
優れた画期的な発明であるといえる。
なビニルケトン類を使用すること、比較的低温で
反応が進行すること、収率が80%以上の高率であ
ること等の利点を有する。そして、本発明は広範
囲の化合物に対して適用しうることから、極めて
優れた画期的な発明であるといえる。
本発明を実施するに際して、脱炭酸させる化合
物としてはカルボキシル基を有する化合物が特に
限定なく挙げることができる。例えばアゼチジン
−2−カルボン酸、ピロリジン−2−カルボン
酸、ピペリジン−2−カルボン酸、ヘキサメチレ
ンイミン−2−カルボン酸、ピプラジン−2−カ
ルボン酸などの脂環状アミノカルボン酸類;ピロ
ール−2−カルボン酸、イミダゾール−5−カル
ボン酸、4−ピリドン−2,6−ジカルボン酸、
インドール−2−カルボン酸、2,3−ジヒドロ
インドール−2−カルボン酸、1,2,3,4−
テトラヒドロキノリン−2−カルボン酸、チアゾ
ール−2−カルボン酸、ベンゾチアゾール−2−
カルボン酸、ベンゾチアゾリン−2−カルボン酸
などの複素環状アミノカルボン酸類;グリシン、
アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、ザ
ルコシン、アスパラギン、グルタミンのようなモ
ノアミノモノカルボン酸、セリン、トレオニン、
ホモセリンのようなオキシアミノ酸、メチオニ
ン、シスチンのようなイオウを含むアミノ酸、ア
ルギニン、リジン、オルニチンのような塩基性ア
ミノ酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、N−カ
ルボキシメチルロイシンのような酸性アミノ酸な
どの脂肪族アミノ酸類;フエニルアラニン、チロ
シン、3−ニトロチロシン、N−カルボキシメチ
ルフエニルアラニン、N−カルボキシメチルチラ
ミンなどの芳香族環を有する脂肪族アミノ酸類;
トリプトフアン、ヒスチジン、2−チエニルグリ
シン、3−チエニルグリシンなど複素環を有する
脂肪族アミノ酸類;アントラニル酸、m−アミノ
安息香酸、p−アミノ安息香酸などの芳香族アミ
ノ酸類;等である。好ましくはα,β,γ位等に
アミノ基を有するカルボン酸化合物が好適であ
る。そして、これらの化合物は反応に関与しない
基を置換分として有していてもよい。このような
置換分としては例えばメチル、エチル、プロピル
のようなアルキル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシのようなアルコキシ、クロル、ブロムのよう
なハロゲン、ヒドロキシなどを挙げることができ
る。なお、これらの化合物は、立体異性体、例え
ば光学異性体であつても反応により影響を受ける
ことはない。
物としてはカルボキシル基を有する化合物が特に
限定なく挙げることができる。例えばアゼチジン
−2−カルボン酸、ピロリジン−2−カルボン
酸、ピペリジン−2−カルボン酸、ヘキサメチレ
ンイミン−2−カルボン酸、ピプラジン−2−カ
ルボン酸などの脂環状アミノカルボン酸類;ピロ
ール−2−カルボン酸、イミダゾール−5−カル
ボン酸、4−ピリドン−2,6−ジカルボン酸、
インドール−2−カルボン酸、2,3−ジヒドロ
インドール−2−カルボン酸、1,2,3,4−
テトラヒドロキノリン−2−カルボン酸、チアゾ
ール−2−カルボン酸、ベンゾチアゾール−2−
カルボン酸、ベンゾチアゾリン−2−カルボン酸
などの複素環状アミノカルボン酸類;グリシン、
アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、ザ
ルコシン、アスパラギン、グルタミンのようなモ
ノアミノモノカルボン酸、セリン、トレオニン、
ホモセリンのようなオキシアミノ酸、メチオニ
ン、シスチンのようなイオウを含むアミノ酸、ア
ルギニン、リジン、オルニチンのような塩基性ア
ミノ酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、N−カ
ルボキシメチルロイシンのような酸性アミノ酸な
どの脂肪族アミノ酸類;フエニルアラニン、チロ
シン、3−ニトロチロシン、N−カルボキシメチ
ルフエニルアラニン、N−カルボキシメチルチラ
ミンなどの芳香族環を有する脂肪族アミノ酸類;
トリプトフアン、ヒスチジン、2−チエニルグリ
シン、3−チエニルグリシンなど複素環を有する
脂肪族アミノ酸類;アントラニル酸、m−アミノ
安息香酸、p−アミノ安息香酸などの芳香族アミ
ノ酸類;等である。好ましくはα,β,γ位等に
アミノ基を有するカルボン酸化合物が好適であ
る。そして、これらの化合物は反応に関与しない
基を置換分として有していてもよい。このような
置換分としては例えばメチル、エチル、プロピル
のようなアルキル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシのようなアルコキシ、クロル、ブロムのよう
なハロゲン、ヒドロキシなどを挙げることができ
る。なお、これらの化合物は、立体異性体、例え
ば光学異性体であつても反応により影響を受ける
ことはない。
本発明で使用させる触媒のビニルケトン類とし
ては、式 (式中、R1およびR2は有機基を示す。そして、
R1およびR2は一緒に結合して、環を形成しても
よい。)で示される化合物である。このような化
合物としては、下記の如き化合物を列挙すること
ができる。即ち、置換分としてメチル、エチル、
プロピルのようなアルキル、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニルの
ようなアルコキシカルボニル、クロル、ブロムの
ようなハロゲン、ビニル、1−プロペニル、イソ
プロペニルのようなアルケニル、フエニル、ヒド
ロキシ、アミノなどを有していてもよいΔ2−シ
クロアルケノン類;例えば2,3−ジフエニルシ
クロプロペノンのようなΔ2−シクロプロペノン
類、2,3−ジヒドロ−4−オキソ−Δ2−シク
ロブテノン、2,3,4,4−テトラクロロ−
Δ2−シクロブテノンのようなΔ2−シクロブテノ
ン類、Δ2−シクロペンテノン、3−メチル−Δ2
−シクロペンテノンのようなΔ2−シクロペンテ
ノン類、Δ2−シクロヘキセノン、2−メチル−
Δ2−シクロヘキセノン、3−メチル−Δ2−シク
ロヘキセノン、6−メチル−Δ2−シクロヘキセ
ノン、3−アミノ−Δ2−シクロヘキセノン、2
−エチル−4−エトキシカルボニル−3−メチル
−Δ2−シクロヘキセノン、4−エトキシカルボ
ニル−3−メチル−Δ2シクロヘキセノン、2,
6−ジメチル−Δ2−シクロヘキセノン、5−イ
ソプロペニル−2−メチル−Δ2−シクロヘキセ
ノン、2−クロロ−Δ2−シクロヘキセノン、3
−クロロ−Δ2−シクロヘキセノンのようなΔ2−
シクロヘキセノン類、Δ2−シクロドデセノン、
4−メチル−Δ2−シクロドデセノンのようなΔ2
−シクロドデセノン類など:置換分としてメチレ
ン、エチリデン、イソプロピリデンのようなアル
キリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリ
デン、シクロヘプチリデンのようなシクロアルキ
リデンなどを有していてもよいシクロアルカノン
類;例えば2−メチレンシクロペンタノン、2−
メチレンシクロペンタン−1,3−ジオン、2−
シクロペンチリデンシクロペンタノンのようなシ
クロペンタノン類、2−メチレンシクロヘキサノ
ン、2−イソプロピリデンシクロヘキサノン、2
−シクロヘキシリデンシクロヘキサノンのような
シクロヘキサノン類など:置換分としてメチル、
エチル、プロピルのようなアルキル、クロル、ブ
ロムのようなハロゲン、ビニル、1−プロペニ
ル、イソプロペニルのようなアルケニル、フエニ
ルなどを有していてもよい1−アシルシクロヘキ
セン類;例えば1−ホルミルシクロヘキセン、1
−アセチルシクロヘキセン、4−イソプロペニル
−1−ホルミルシクロヘキセンなど:ナフトキノ
ン類、例えば1,2−ナフトキノン−4−スルホ
ン酸カリウムなど:脂肪族ビニルケトン類;例え
ば1−オクテン−3−オン、4−メチル−3−ペ
ンテン−2−オン、5−メチル−3−ヘキセン−
2−オン、6−メチル−5−ヘプテン−4−オン
など:を挙げることができる。触媒の使用量は原
料化合物に対して1〜10%V/W、好ましくは3
〜5%V/Wである。
ては、式 (式中、R1およびR2は有機基を示す。そして、
R1およびR2は一緒に結合して、環を形成しても
よい。)で示される化合物である。このような化
合物としては、下記の如き化合物を列挙すること
ができる。即ち、置換分としてメチル、エチル、
プロピルのようなアルキル、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニルの
ようなアルコキシカルボニル、クロル、ブロムの
ようなハロゲン、ビニル、1−プロペニル、イソ
プロペニルのようなアルケニル、フエニル、ヒド
ロキシ、アミノなどを有していてもよいΔ2−シ
クロアルケノン類;例えば2,3−ジフエニルシ
クロプロペノンのようなΔ2−シクロプロペノン
類、2,3−ジヒドロ−4−オキソ−Δ2−シク
ロブテノン、2,3,4,4−テトラクロロ−
Δ2−シクロブテノンのようなΔ2−シクロブテノ
ン類、Δ2−シクロペンテノン、3−メチル−Δ2
−シクロペンテノンのようなΔ2−シクロペンテ
ノン類、Δ2−シクロヘキセノン、2−メチル−
Δ2−シクロヘキセノン、3−メチル−Δ2−シク
ロヘキセノン、6−メチル−Δ2−シクロヘキセ
ノン、3−アミノ−Δ2−シクロヘキセノン、2
−エチル−4−エトキシカルボニル−3−メチル
−Δ2−シクロヘキセノン、4−エトキシカルボ
ニル−3−メチル−Δ2シクロヘキセノン、2,
6−ジメチル−Δ2−シクロヘキセノン、5−イ
ソプロペニル−2−メチル−Δ2−シクロヘキセ
ノン、2−クロロ−Δ2−シクロヘキセノン、3
−クロロ−Δ2−シクロヘキセノンのようなΔ2−
シクロヘキセノン類、Δ2−シクロドデセノン、
4−メチル−Δ2−シクロドデセノンのようなΔ2
−シクロドデセノン類など:置換分としてメチレ
ン、エチリデン、イソプロピリデンのようなアル
キリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリ
デン、シクロヘプチリデンのようなシクロアルキ
リデンなどを有していてもよいシクロアルカノン
類;例えば2−メチレンシクロペンタノン、2−
メチレンシクロペンタン−1,3−ジオン、2−
シクロペンチリデンシクロペンタノンのようなシ
クロペンタノン類、2−メチレンシクロヘキサノ
ン、2−イソプロピリデンシクロヘキサノン、2
−シクロヘキシリデンシクロヘキサノンのような
シクロヘキサノン類など:置換分としてメチル、
エチル、プロピルのようなアルキル、クロル、ブ
ロムのようなハロゲン、ビニル、1−プロペニ
ル、イソプロペニルのようなアルケニル、フエニ
ルなどを有していてもよい1−アシルシクロヘキ
セン類;例えば1−ホルミルシクロヘキセン、1
−アセチルシクロヘキセン、4−イソプロペニル
−1−ホルミルシクロヘキセンなど:ナフトキノ
ン類、例えば1,2−ナフトキノン−4−スルホ
ン酸カリウムなど:脂肪族ビニルケトン類;例え
ば1−オクテン−3−オン、4−メチル−3−ペ
ンテン−2−オン、5−メチル−3−ヘキセン−
2−オン、6−メチル−5−ヘプテン−4−オン
など:を挙げることができる。触媒の使用量は原
料化合物に対して1〜10%V/W、好ましくは3
〜5%V/Wである。
反応は溶剤の存在下または不存在下で行なわれ
る。好ましくは溶剤の存在下で行なわれる。使用
される溶剤としては反応に関与しないものであれ
ば特に限定はなく、例えばシクロヘキサノール、
シクロヘプタノールのようなシクロアルカノール
類;テトラリン、Δ9,10−オクタリン、1,2−
ジヒドロナフタレン、1,4−ジヒドロナフタレ
ンのようなナフタレン類;シクロヘキサノン、シ
クロヘプタノンのようなシクロアルケノン類、キ
ノリン、キナルジン、レピジンのようなキノリン
類などを挙げることができる。反応温度は通常は
120〜250℃位、好ましくは140〜160℃位である。
る。好ましくは溶剤の存在下で行なわれる。使用
される溶剤としては反応に関与しないものであれ
ば特に限定はなく、例えばシクロヘキサノール、
シクロヘプタノールのようなシクロアルカノール
類;テトラリン、Δ9,10−オクタリン、1,2−
ジヒドロナフタレン、1,4−ジヒドロナフタレ
ンのようなナフタレン類;シクロヘキサノン、シ
クロヘプタノンのようなシクロアルケノン類、キ
ノリン、キナルジン、レピジンのようなキノリン
類などを挙げることができる。反応温度は通常は
120〜250℃位、好ましくは140〜160℃位である。
反応は原料化合物を溶剤に懸濁もしくは溶解し
た後、触媒を加え、好ましくは窒素気流下で加熱
撹拌する。反応終了後、得られた生成物は反応混
合物より、例えばハロゲン化水素酸塩として析出
させるか、または蒸留に付すことによつて単離さ
れる。このようにして得られた生成物は必要に応
じて再結晶法、カラムクロマトグラフ法などに付
すことによつて精製される。
た後、触媒を加え、好ましくは窒素気流下で加熱
撹拌する。反応終了後、得られた生成物は反応混
合物より、例えばハロゲン化水素酸塩として析出
させるか、または蒸留に付すことによつて単離さ
れる。このようにして得られた生成物は必要に応
じて再結晶法、カラムクロマトグラフ法などに付
すことによつて精製される。
次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
実施例 1
3−ヒドロキシピロリジン
4−ヒドロキシ−L−プロリン90gをシクロヘ
キサノール450mlに懸濁し、次いでΔ2−シクロヘ
キセノン4.5mlを加えて窒素気流下で加熱撹拌し
た。反応混合物を154±2℃で2時間撹拌すると
均一な溶液が得られた。反応終了後、反応混合物
を10℃に冷却し、次いでこれに酢酸エチル850ml
を加えて0〜5℃に冷却した。次いで、反応混合
物に塩化水素27.5gおよびイソプロパノール80ml
の混合液を内温5℃以下に保ちながら加えた。次
いで反応混合物を1時間撹拌し、析出物をろ取し
た。析出物をイソプロパノール90ml、次いで酢酸
エチル90mlで洗浄後、乾燥すると目的化合物の塩
酸塩76g(90%)が得られた。
キサノール450mlに懸濁し、次いでΔ2−シクロヘ
キセノン4.5mlを加えて窒素気流下で加熱撹拌し
た。反応混合物を154±2℃で2時間撹拌すると
均一な溶液が得られた。反応終了後、反応混合物
を10℃に冷却し、次いでこれに酢酸エチル850ml
を加えて0〜5℃に冷却した。次いで、反応混合
物に塩化水素27.5gおよびイソプロパノール80ml
の混合液を内温5℃以下に保ちながら加えた。次
いで反応混合物を1時間撹拌し、析出物をろ取し
た。析出物をイソプロパノール90ml、次いで酢酸
エチル90mlで洗浄後、乾燥すると目的化合物の塩
酸塩76g(90%)が得られた。
(1) 融点 107.8℃(塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 内部基準にTMSを用いて、60MHzで測定し
た(以下の実施例においても同じ)。
ppm 内部基準にTMSを用いて、60MHzで測定し
た(以下の実施例においても同じ)。
1.75〜2.10(2H,m)
3.05〜3.35(4H,dとtの重複、J=2Hz,
J=6Hz) 4.42(1H,m) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3300,2460,1600,1340,1210 実施例 2 ピロリジン L−プロリン90gを用いて、実施例1と同様に
行うと目的化合物の塩酸塩77.4g(92%)が得ら
れた。
J=6Hz) 4.42(1H,m) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3300,2460,1600,1340,1210 実施例 2 ピロリジン L−プロリン90gを用いて、実施例1と同様に
行うと目的化合物の塩酸塩77.4g(92%)が得ら
れた。
(1) 融点 87〜88℃(塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 1.6〜1.78(4H,m) 2.7〜2.9(4H,m) (3) 赤外線吸収スペクトル νnaxcm-1: 3250,1350,1070 実施例 3 1,5−ジアミノペンタン L−リジン塩酸塩20gをシクロヘキサノール
100mlに懸濁し、次いで28%ナトリウムメトキシ
ド21.2mlを加えた後、3−メチル−Δ2−シクロヘ
キセノン1mlを加えた。反応混合物を155℃で3
時間加熱撹拌した。反応終了後、反応混合物に塩
化水素4gを含むイソプロパノール溶液20mlを加
えた。次いで反応混合物より析出する析出物をろ
取した。析出物を乾燥すると目的化合物の二塩酸
塩16.3g(85%)が得られた。
ppm 1.6〜1.78(4H,m) 2.7〜2.9(4H,m) (3) 赤外線吸収スペクトル νnaxcm-1: 3250,1350,1070 実施例 3 1,5−ジアミノペンタン L−リジン塩酸塩20gをシクロヘキサノール
100mlに懸濁し、次いで28%ナトリウムメトキシ
ド21.2mlを加えた後、3−メチル−Δ2−シクロヘ
キセノン1mlを加えた。反応混合物を155℃で3
時間加熱撹拌した。反応終了後、反応混合物に塩
化水素4gを含むイソプロパノール溶液20mlを加
えた。次いで反応混合物より析出する析出物をろ
取した。析出物を乾燥すると目的化合物の二塩酸
塩16.3g(85%)が得られた。
(1) 融点 255〜257℃(二塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 1.45〜1.95(6H,m) 2.65〜3.30(4H,m) 8.20(4H,s) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3350,1600 実施例 4 (−)−1−アミノ−2−プロパノール L−トレオニン35.7g、シクロヘキサノール
180mlおよびΔ2−シクロヘキセノン1.8mlを用い
て、実施例1と同様に行い、シユウ酸で処理する
と目的化合物のシユウ酸塩39.6g(80%)が得ら
れた。
ppm 1.45〜1.95(6H,m) 2.65〜3.30(4H,m) 8.20(4H,s) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3350,1600 実施例 4 (−)−1−アミノ−2−プロパノール L−トレオニン35.7g、シクロヘキサノール
180mlおよびΔ2−シクロヘキセノン1.8mlを用い
て、実施例1と同様に行い、シユウ酸で処理する
と目的化合物のシユウ酸塩39.6g(80%)が得ら
れた。
(1) 融点 140〜142℃(重シユウ酸塩)
97℃(塩酸塩)
(2) 沸点 160℃(遊離体)
(3) 比旋光度
塩酸塩 〔α〕20 D=−32.00°(C=2.925,
H2O) 重シユウ酸塩 〔α〕20 D=−22.65°(C=
2.052,H2O) (4) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 1.25(3H,d,=6Hz) 2.38〜2.50(2H,m) 3.6〜3.8(1H,m) (5) 赤外線吸収スペクトル νnaxcm-1: 3350,1600,1460,1140,1050 実施例 5 β−フエネチルアミン 1−(−)−フエニルアラニン10g、シクロヘキ
サノール50mlおよび3−メチル−Δ2シクロヘキ
セノン0.5mlを用いて、実施例1と同様に行うと
目的化合物の塩酸塩8.6g(90%)が得られた。
H2O) 重シユウ酸塩 〔α〕20 D=−22.65°(C=
2.052,H2O) (4) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 1.25(3H,d,=6Hz) 2.38〜2.50(2H,m) 3.6〜3.8(1H,m) (5) 赤外線吸収スペクトル νnaxcm-1: 3350,1600,1460,1140,1050 実施例 5 β−フエネチルアミン 1−(−)−フエニルアラニン10g、シクロヘキ
サノール50mlおよび3−メチル−Δ2シクロヘキ
セノン0.5mlを用いて、実施例1と同様に行うと
目的化合物の塩酸塩8.6g(90%)が得られた。
(1) 融点 217℃(塩酸塩)
(2) 沸点 197〜200℃(遊離体)
(3) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 2.55〜2.85(4H,m) 7.22(5H,s) 実施例 6 イソブチルアミン バリン20g、シクロヘキサノール100mlおよび
3−メチル−Δ2−シクロペンテノン1mlを用い
て、実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩
16.8g(90%)が得られた。
ppm 2.55〜2.85(4H,m) 7.22(5H,s) 実施例 6 イソブチルアミン バリン20g、シクロヘキサノール100mlおよび
3−メチル−Δ2−シクロペンテノン1mlを用い
て、実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩
16.8g(90%)が得られた。
(1) 融点 158〜160℃(塩酸塩)
(2) 沸点 66〜71℃(遊離体)
(3) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 0.92(6H,d−d,J=6Hz) 1.35〜1.70(1H,m) 2.50(2H,d,J=6Hz) (4) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 1610,1515,1405 実施例 7 3−メチルチオプロピルアミン メチオニン10g、シクロヘキサノール50mlおよ
びΔ2−シクロヘキセノンを用いて、実施例1と
同様に行うと目的化合物の塩酸塩8.1g(85%)
が得られた。
ppm 0.92(6H,d−d,J=6Hz) 1.35〜1.70(1H,m) 2.50(2H,d,J=6Hz) (4) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 1610,1515,1405 実施例 7 3−メチルチオプロピルアミン メチオニン10g、シクロヘキサノール50mlおよ
びΔ2−シクロヘキセノンを用いて、実施例1と
同様に行うと目的化合物の塩酸塩8.1g(85%)
が得られた。
(1) 融点 143〜144℃(塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 2.06(3H,s) 2.45〜3.15(4H,m) 3.42(1H,s) 8.30(2H,s) 実施例 8 N−メチルフエネチルアミン N−カルボキシメチル−L−フエニルアラニン
5gをテトラリン50mlに懸濁し、次いで3−メチ
ル−Δ2−シクロヘキセノン0.5mlを加えて4時間
加熱還流した。反応終了後、反応混合物を以下、
実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩3.1
g(80%)が得られた。
ppm 2.06(3H,s) 2.45〜3.15(4H,m) 3.42(1H,s) 8.30(2H,s) 実施例 8 N−メチルフエネチルアミン N−カルボキシメチル−L−フエニルアラニン
5gをテトラリン50mlに懸濁し、次いで3−メチ
ル−Δ2−シクロヘキセノン0.5mlを加えて4時間
加熱還流した。反応終了後、反応混合物を以下、
実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩3.1
g(80%)が得られた。
(1) 融点 162℃(塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 2.30(3H,s) 2.50〜2.58(4H,m) 7.20(5H,s) 実施例 9 3−ヒドロキシピロリジン 実施例1において、Δ2−シクロヘキセノンの
代りに2−シクロヘキシリデンシクロヘキサノン
9gを用いて、同様に反応を行うと目的化合物の
塩酸塩74.3g(88%)が得られた。
ppm 2.30(3H,s) 2.50〜2.58(4H,m) 7.20(5H,s) 実施例 9 3−ヒドロキシピロリジン 実施例1において、Δ2−シクロヘキセノンの
代りに2−シクロヘキシリデンシクロヘキサノン
9gを用いて、同様に反応を行うと目的化合物の
塩酸塩74.3g(88%)が得られた。
物理恒数は実施例1で得られたものと同じであ
つた。
つた。
実施例 10
3,4−ジメトキシアニリン
2−アミノ−4,5−ジメトキシ安息香酸20
g、シクロヘキサノール100mlおよび3−メチル
−Δ2−シクロペンテノン1mlを用いて、実施例
1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩16.4g(85
%)が得られた。
g、シクロヘキサノール100mlおよび3−メチル
−Δ2−シクロペンテノン1mlを用いて、実施例
1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩16.4g(85
%)が得られた。
(1) 融点 149℃(分解)(塩酸塩)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 3.82(3H,s) 3.90(3H,s) 4.82(2H,s) 6.96(3H,s) 実施例 11 アニリン p−アミノ安息香酸10gをテトラリン50mlに懸
濁し、次いで3−メチル−Δ2−シクロヘキセノ
ン1mlを加えて5時間加熱還流した。反応終了
後、反応混合物を以下、実施例1と同様に行うと
目的化合物の塩酸塩7.5g(80%)が得られた。
ppm 3.82(3H,s) 3.90(3H,s) 4.82(2H,s) 6.96(3H,s) 実施例 11 アニリン p−アミノ安息香酸10gをテトラリン50mlに懸
濁し、次いで3−メチル−Δ2−シクロヘキセノ
ン1mlを加えて5時間加熱還流した。反応終了
後、反応混合物を以下、実施例1と同様に行うと
目的化合物の塩酸塩7.5g(80%)が得られた。
(1) 融点 198℃(塩酸塩)
(2) 沸点 184〜186℃(遊離体)
(3) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 3.35(2H,s) 6.35〜7.20(5H,m) 実施例 12 トリプタミン トリプトフアン20g、シクロヘキサノール100
mlおよび1−オクテン−3−オン1mlを用いて、
実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩15.4
g(80%)が得られた。
ppm 3.35(2H,s) 6.35〜7.20(5H,m) 実施例 12 トリプタミン トリプトフアン20g、シクロヘキサノール100
mlおよび1−オクテン−3−オン1mlを用いて、
実施例1と同様に行うと目的化合物の塩酸塩15.4
g(80%)が得られた。
(1) 融点 250℃(分解)(塩酸塩)
113〜118℃(遊離体)
(2) 核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO)δ:
ppm 3.18(4H,s) 6.90〜7.70(5H,m) 8.20(1H,s) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3320,1600,1540,1240,1180 実施例 13 3R−ヒドロキシピロリジン 実施例1において、4−ヒドロキシ−L−プロ
リンの代りに4R−ヒドロキシ−L−プロリン90
gを用いて、同様に反応を行うと目的化合物の塩
酸塩78.9g(93%)が得られた。
ppm 3.18(4H,s) 6.90〜7.70(5H,m) 8.20(1H,s) (3) 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1: 3320,1600,1540,1240,1180 実施例 13 3R−ヒドロキシピロリジン 実施例1において、4−ヒドロキシ−L−プロ
リンの代りに4R−ヒドロキシ−L−プロリン90
gを用いて、同様に反応を行うと目的化合物の塩
酸塩78.9g(93%)が得られた。
(1) 融点 108℃(塩酸塩)
(2)比旋光度
塩酸塩 〔α〕20 D=−7.81°(C=3.316,H2O)
Claims (1)
- 1 カルボキシル基を有する化合物において、触
媒としてビニルケトン類を使用することを特徴と
する脱炭酸反応。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58131656A JPS6023328A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 脱炭酸反応 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58131656A JPS6023328A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 脱炭酸反応 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6023328A JPS6023328A (ja) | 1985-02-05 |
| JPH0410452B2 true JPH0410452B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15063148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58131656A Granted JPS6023328A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 脱炭酸反応 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023328A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5187094A (en) * | 1989-09-06 | 1993-02-16 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for the preparation of optically active 3-hydroxypyrrolidine derivatives |
| DE4425071C2 (de) | 1994-07-15 | 1996-08-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver Pyrrolidine mit hoher Enantiomerenreinheit |
| AU2788297A (en) * | 1996-05-14 | 1997-12-05 | Kyowa Hakko Kogyo Co. Ltd. | Process for the preparation of 3-hydroxypyrrolidine |
| JP4665185B2 (ja) * | 2000-02-09 | 2011-04-06 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | アミン類の製造法 |
| JP2006008518A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Sankyo Co Ltd | 光学活性3−アミノ−1−tert−ブトキシカルボニルピロリジンの製造法 |
| DE102006060908A1 (de) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Evonik Degussa Gmbh | Kontinuierliches Verfahren zur Decarboxylierung von Carbonsäuren |
| WO2010113736A1 (ja) | 2009-03-30 | 2010-10-07 | 東レ株式会社 | ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂組成物およびこれらからなる成形品 |
| CN103732653A (zh) | 2011-08-17 | 2014-04-16 | 东丽株式会社 | 结晶性聚酰胺树脂的制造方法 |
| JP6015494B2 (ja) * | 2013-03-01 | 2016-10-26 | 宇部興産株式会社 | アルキレンポリアミンの製造方法 |
-
1983
- 1983-07-19 JP JP58131656A patent/JPS6023328A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6023328A (ja) | 1985-02-05 |
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