JPH0410453B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0410453B2
JPH0410453B2 JP11156184A JP11156184A JPH0410453B2 JP H0410453 B2 JPH0410453 B2 JP H0410453B2 JP 11156184 A JP11156184 A JP 11156184A JP 11156184 A JP11156184 A JP 11156184A JP H0410453 B2 JPH0410453 B2 JP H0410453B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
ebh
peak
compound
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP11156184A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60255740A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP11156184A priority Critical patent/JPS60255740A/ja
Publication of JPS60255740A publication Critical patent/JPS60255740A/ja
Publication of JPH0410453B2 publication Critical patent/JPH0410453B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なハロゲン化炭化水素、更に詳し
くは次式() (式中、XはCl又はBrを示し、波線は置換位
置がエキソ又はエンドであることを示す) で表わされる1−エチル−3−ハロゲノ−トリシ
クロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン及びその製造法に関す
る。
従来、次式() で表わされるエチリデンビシクロヘプテン(以
下、「EBH」と略記する)は強酸の存在下、種々
の付加反応を生起すること、例えばカルボン酸
〔特公昭49−30105号、Zh、Org.Khim.,13
2085(1977)〕、アルコール(米国特許第4308159
号)あるいはイソシアン酸(特開昭49−11222号)
と反応させると、次の反応式に従つて構造の異な
る2種の化合物()及び()の混合物を生ず
ることが知られている。
(式中、Nu-は求核基を示し、波線の意味は前
記と同じ) 斯かる実状において、本発明者はEBHへのハ
ロゲン化水素の付加反応について検討を行い、ガ
ス状のハロゲン化水素を反応せしめたが、()
の構造の化合物と従来知られていない異性体との
混合物が得られ、その選択性には特に改善はみら
れなかつた。ところが、EBHにハロゲン化水素
酸を反応せしめたところ、意外にも()式の新
規化合物のみが極めて選択的に、しかも高収率で
得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は()式で表わされる1−
エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ〔2.2.1.02,6
ヘプタン、並びにその製造法を提供するものであ
る。
本発明化合物()は、EBHを溶媒中又は無
溶媒で次式 HX (式中、Xは前記と同じ) で表わされるハロゲン化水素酸と反応させること
によつて製造される。
本発明を実施するには、EBHと塩酸又は臭化
水素酸を撹拌混合すればよい。塩酸のHCl濃度は
5〜36%が、また臭化水素酸のHBr濃度は5〜
47%が好ましい。
ハロゲン化水素の量は、EBHに対し当量以上
あれば良いが経済性、後処理の点から考えて当量
ないし10倍当量が好ましい。反応温度は0℃〜
100℃好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応
は無溶媒でも良いが、反応終了後の分層の容易さ
を考えて溶媒を用いるのが好ましい。溶媒として
は、例えばn−ヘキサン、エーテル、ベンゼン、
トルエン、クロロホルム等が挙げられる。溶媒量
は特に限定されないが、単離の際の容易さを考慮
してEBHに対し同容量から2倍容量が好ましい。
叙上の如くして得られる反応生成物が()式
で示す構造であることは次の事実により立証され
る。すなわち、反応生成物はキヤピラリーカラム
(メチルシリコン、50m)を用いたガスクロマト
グラフイー(GC)に付すと2本のピークに分か
れる〔()式中X=Br:GC比、34/66,X=
Cl:GC比、23/77〕。そして反応生成物のガスマ
ス分析の結果より、この2本のピークはいずれも
ハロゲン原子を1個有する組成式C9H15Xに対応
し、かつ2つのピークのマススペクトルが極めて
類似していることから、2種の異性体に対応する
ことが予想される。そこで反応生成物をリチウム
及びt−ブタノールと反応させて脱ハロゲンする
ことにより炭化水素に導くと単一の化合物が得ら
れた。更にその13C−NMRスペクトルは文献記
載の次式() で表わされる化合物の13C−NMRスペクトルと
一致した〔Zh.Org.Khim.,13、2085(1977)〕。従
つて、当該反応生成物は式()で示される構造
の化合物でハロゲン原子の立体配置が異なる2種
の化合物(エキソ体及びエンド体)の混合物であ
ると結論される。
本発明化合物()は反応性に富むハライドで
あるので、例えば医薬、農薬、香料等の炭素母核
又は修飾基として使用しうる重要な中間体であ
る。
例えば次式() (式中、R1、R2は、例えば同一若しくは異なつ
てメチル基又はエチル基を示す)で表わされる化
合物は、香料として重要であることが知られてい
る(特開昭59−10536号)。そして、化合物()
は特開昭59−10536号公報及び特開昭59−10542号
公報の記載によれば、次の反応式に従つて合成さ
れる。
(式中、X1は例えばクロル基、Rは例えばエチ
ル基を示し、R1及びR2は前記と同じ) 更に化合物()の合成法については、上記公
開公報には記載されていないが、文献記載の方法
によれば化合物()は次式に従つて合成される
〔Zh.Org.Khim.,13、2085(1977)〕。
すなわち、EBHにカルボン酸を強酸の存在下
付加させて得られる(XI)と(XII)の混合物を蒸
留等で分別した後化合物(XII)を加水分解してア
ルコール()となし、更にこれを酸化して得
られる。
このように、従来、化合物()を得るために
は、EBHから7ステツプを要し、しかも中間体
(XI)と(XII)を分別しなければならないという
煩雑な操作を必要とした。
これに対し、本発明化合物()はBauveault
反応に付すと()式の化合物が得られるので、
本発明によれば下式に従つてEBHから2ステツ
プで化合物()を、従つてEBHから4ステツ
プで化合物()を得ることができる。また本発
明によればノルトリシクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン
骨格を有する化合物のみを選択的に合成できるた
め、実質的に収率を高めることができ、更に途中
で異性体を分別する必要がなく有利に合成でき
る。
()HX ―――→ ()Li/DMF ―――――――→ () →()→() (式中、Xは前記と同じ。DMFはジメチルホル
ムアルデヒドを示す) 次に実施例及び参考例を挙げて本発明を説明す
る。
実施例 1 1−エチル−3−ブロモ−トリシクロ
〔2.2.1.02,6〕ヘプタン: EBH(120g、1モル)のエーテル(200ml)溶
液に47%臭化水素酸(344g、HBr2モル)を激
しく撹拌しつつ、室温で2時間かけて加える。更
に4時間撹拌した後、静置して有機層を水層から
分離し、水層からエーテル(100ml)で3回抽出
したものと一緒にする。有機層は飽和食塩水(50
ml)で2回、飽和重曹水(50ml)で一回洗い、更
に飽和食塩水(50ml)で2回洗つた後、硫酸ナト
リウムで乾燥する。次いで有機層からエーテルを
ロータリーエバポレーターで除き、減圧蒸留によ
り目的物169g(仕込みEBHに対して収率84.0
%)を得る。
沸点:88.0〜90.0℃/15mmHg 元素分析: 分析値:C,53.9%、H,6.7% 計算値:C,54.9%、H,6.5% IR(液膜,cm-1):3060(νC-H1 H−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δ):
0.93(CH3,3重線)、1.1〜2.3(複雑な多重線)、
4.0(CH−Br) GC−Mass(相対強度):GC分析では、キヤピラ
リーカラム(メチルシリコン,50m)を用いる
事により、2本のピークに分かれる。それぞれ
のマスパターンは非常に類似しており、ブロム
のエンド、エキソの異性体のものである。
ピーク1(GC比,34%) 202(M++2,2),200(M+,2), 121(82),105(58),93(62), 91(91),79(84),66(100), 55(50),43(43) ピーク2(GC比,66%) 202(M+2,1),200(M+,1), 121(80),105(54),93(62), 91(84),79(80),66(100), 55(52),43(38)13 C−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δc,多
重度): GCピーク2に相当する異性体のもの。
11.8(q),17.7(d),22.6(t), 24.0(d),28.7(s),32.0(t), 34.7(t),39.5(d),57.6(d) 実施例 2 1−エチル−3−クロロ−トリシクロ
〔2.2.1.02,6〕ヘプタン: EBH(120g、1モル)のエーテル(200ml)溶
液に36%塩酸(203g、HCl2モル)を激しく撹拌
しつつ、反応温度が著しく上昇しないように(20
〜30℃)適度に水で冷しながら1時間かけて加え
る。更に12時間撹拌した後、静置して有機層を水
層から分け、水層からエーテル(150ml)で3回
抽出したものと一緒にする。次いで有機層を実施
例1と同様に洗浄、乾燥を行なつた後、減圧蒸留
により目的物141g(仕込みEBHに対して収率
90.1%)を得る。
沸点:89.0〜90.5℃/26mmHg 元素分析: 分析値:C,68.8%、H,8.6% 計算値:C,69.0%、H,8.4% IR(液膜,cm-1):3070(νC-H1 H−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δ):
0.9(CH3,3重線)、1.2〜2.1(複雑な多重線)、
3.9(CH−Br) GC−Mass(相対強度) キヤピラリーカラム(メチルシリコン,50m)
を用いたGC分析では、2種の化合物の混合物で
あり、2つのマスパターンが非常に類似している
事からクロルのエンド、エキソの異性体である事
が判る。
ピーク1(GC比,23%); 158(M++2,5),156(M+,16), 120(37),105(61),93(34), 91(87),79(67),77(31), 66(100),65(31) ピーク2(GC比,77%); 158(M++2,5),156(M+,16), 120(38),105(59),93(34), 91(95),79(62),77(36), 66(100),65(32)13 C−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δc,多
重度) GCピーク2に相当する異性体のもの。
11.8(q),1.73(d),22.8(t), 23.7(d),28.4(s),31.2(t), 34.7(t),39.4(d),65.3(d) 参考例 1 実施例1で得た1−エチル−3−クロモ−トリ
シクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン(10.0g、49.8m
mol)及びtert−ブタノール(11.0g、148mmol)
のTHF(20ml)溶液にLi片(3.46g、0.498グラム
当量)を室温で加えよく撹拌する。8時間撹拌し
た後、温度をTHFが還流するまで上げ、30分間
この温度で撹拌を続け氷冷する。次に、氷冷下、
注意深くメタノール(10ml)を滴下して過剰Liと
反応させる。金属Liが消失した事を確認した後水
(100ml)をさらに滴下し、次に、水層からn−ヘ
キサン(100ml)で生成物を抽出する。抽出した
有機層は、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥処理して、常圧蒸留すると、138〜140℃の
留分でエチルトリシクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン
3.49g(収率57.4%)が得られる。
このものの13C−NMR分析を行えば、標品の
エチルトリシクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン〔Zh.
Org.Khim.,15(2),320(1979)〕のそれと全く一
致し、構造が確認された。13 C−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δ、多
重度): 12.4(q),16.1(d),23.1(t), 24.4(s),31.8(d),34.2(t),36.4(t) 参考例 2 1−エチルトリシクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン−
3−カルボキシアルデヒド: 実施例1に従い合成した1−エチル−3−プロ
モ−トリシクロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン(20.1g、
100ミリモル)、乾燥ジメチルホルムアミド(7.31
g、100ミリモル)及びリチウムサンド(5.10g、
7.3当量)を乾燥THF(40ml)に加え超音波洗浄
器(200W、45KHz)を使用して反応させる。反
応開始時は激しく発熱するので氷冷し、反応温度
は40℃を超えないよう注意する。反応時間は15分
程度である。
次に反応溶液に氷冷下で5%塩酸を滴下し、未
反応リチウムを分解させた後、エーテル(300ml)
を加えて分層させ、エーテル層を飽和食塩水(50
ml)で3回洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥し
たエーテル層は減圧エバポレーターで濃縮し、さ
らに減圧蒸留すると、1−エチルトリシクロ
〔2.2.1.02,6〕ヘプタン−3−カルボキシアルデヒ
ド6.54g(収率43.6%)を得る。
沸点:58.0〜60.0℃/1mmHg 元素分析: 分析値:C,80.0%、H,9.5% 計算値:C,80.0%、H,9.4% IR(液膜,cm-1):3060(νC-H)、1720(νC=O1 H−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δ):
0.93(CH3,3重線)、1.2〜1.7(複雑な多重線)、
2.3(−C−CHO),9.7(−CO) GC−Mass(相対強度) GC分析では、キヤピラリーカラム(メチルシ
リコン、50m)を用いる事により2本のピークに
分かれ、それぞれのマスパターンが非常に類似し
ている事から、ホルミルのエンド、エキソの異性
体である事が判る。
ピーク1(GC比,58%); 150(M+,5),121(100),103(27) 93(26),91(42),79(49),77(26), 55(36),46(24),41(30) ピーク2(GC比,42%); 150(M+,4),121(100),103(25), 93(31),91(38),79(49),77(26), 55(36),43(24),41(29) 参考例 3 EBH(100g、0.833モル)に塩化水素ガスを氷
冷下吹き込む。発熱により反応温度は上昇し、15
℃になる。この温度を保つようガスの吹き込み速
度を調節する。GC分析で反応を追跡すると、3
時間程度でEBHのピークは完全に消失し、反応
が完結したことが判る。この反応溶液を減圧蒸留
すると、EBHに塩化水素が付加した化合物が沸
点79.5〜86.0℃/15mmHgの範囲に12.27g(収率
94.1%)得られる。
この化合物を、Polyester FF(1m)のカラム
を用いてGC分析すると、4つのピークに分かれ、
4種の異性体混合物である事が判つた。
ピーク1(GC比);60% ピーク2( 〃 );20% ピーク3( 〃 );15% ピーク4( 〃 ); 5%13 C−NMR(CDCl3溶媒,TMS内部標準,δc,多
重度): 13C−NMR分析では、化合物()に相当す
るピークは検出されなかつた。また、主生成物で
あるピーク1及びピーク2に相当する化合物はそ
れぞれ次式()及び()で表わされる化
合物であると推定された。
ピーク1:14.1(q),34.6(t),36.0(t),36.8
(d),42.8(t),54.6(d),61.2(d),116.7(d),141.2
(s) ピーク 2;10.0(q),36.0(t),42.5(t),
44.0(t),49.0(d),54.6(d),81.2(s),133.3(d)

139.2(d)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中、XはCl又はBrを示し、波線は置換位
    置がエキソ又はエンドであることを示す) で表わされる1−エチル−3−ハロゲノ−トリシ
    クロ〔2.2.1.02,6〕ヘプタン。 2 一般式() で表わされるエチリデンビシクロヘプテンを溶媒
    中又は無溶媒で次式 HX (式中、XはCl又はBrを示す) で表わされるハロゲン化水素酸と反応させること
    を特徴とする次式() (式中、Xは前記と同じ。波線は置換位置がエ
    キソ又はエンドであることを示す)で表わされる
    1−エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ
    〔2.2.1.02,6〕ヘプタンの製造法。
JP11156184A 1984-05-31 1984-05-31 1−エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ〔2.2.1.0↑2’↑6〕ヘプタン及びその製造法 Granted JPS60255740A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11156184A JPS60255740A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 1−エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ〔2.2.1.0↑2’↑6〕ヘプタン及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11156184A JPS60255740A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 1−エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ〔2.2.1.0↑2’↑6〕ヘプタン及びその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60255740A JPS60255740A (ja) 1985-12-17
JPH0410453B2 true JPH0410453B2 (ja) 1992-02-25

Family

ID=14564498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11156184A Granted JPS60255740A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 1−エチル−3−ハロゲノ−トリシクロ〔2.2.1.0↑2’↑6〕ヘプタン及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60255740A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60255740A (ja) 1985-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023548666A (ja) 3-フルオロ-5-(((1S,2aR)-1,3,3,4,4-ペンタフルオロ-2a-ヒドロキシ-2,2a,3,4-テトラヒドロ-1H-シクロペンタ[cd]インデン-7-イル)オキシ)-ベンゾニトリルを調製する方法
EP0463162A1 (en) PREPARATION OF 5,6,7-TRINOR-4,8-INTER-m-PHENYLENE PGI 2 DERIVATIVES
Yamaguchi et al. Regioselective Preparation of Allylgermanes.
JP3200099B2 (ja) パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法
JPH0410453B2 (ja)
JP2533506B2 (ja) 含フツ素カルボン酸エステルの製法
JP4649733B2 (ja) トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法
JP3905340B2 (ja) 有機金属化合物の新規調製法
Chen et al. Perfluoroalkylations and perfluorooxaalkylations. Part 1. Bromoaromatics as substrates in copper-mediated cross-coupling
JP7825591B2 (ja) 1-ハロ-2,6,14-トリメチルオクタデカン化合物、並びにそれを用いた5,13,17-トリメチルアルカン化合物の製造方法
JP4516831B2 (ja) シス−ジャスモンの製造方法
Abou et al. Selective lithiation of 1, 6-dihalohex-1-enes and 1, 6-dihalohex-1-ynes
JP4635251B2 (ja) 有機ビスマス化合物およびその製法
JPS6411620B2 (ja)
JP3056360B2 (ja) γ−コロナールの製法
JPH0244459B2 (ja)
JP2024160423A (ja) 17-メチルアルカン化合物の製造方法
JP3634874B2 (ja) トリフルオロメチルアセチレン誘導体、その製造方法およびその中間体の製造方法
JPH0546345B2 (ja)
JPS6358812B2 (ja)
JP2782512B2 (ja) トリシクロ〔5.3.1.0 ▲上3▼’▲上8▼〕ウンデカ−4−エンの製造法
JPH10130178A (ja) gem−ジフルオロオレフィン類の製造方法、同製造方法に用いるジルコノセン、及びその製造方法
JPS6356236B2 (ja)
JPS6320212B2 (ja)
JPS625137B2 (ja)