JPH0410568B2 - - Google Patents
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- JPH0410568B2 JPH0410568B2 JP13563683A JP13563683A JPH0410568B2 JP H0410568 B2 JPH0410568 B2 JP H0410568B2 JP 13563683 A JP13563683 A JP 13563683A JP 13563683 A JP13563683 A JP 13563683A JP H0410568 B2 JPH0410568 B2 JP H0410568B2
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- dimensional
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 46
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/20—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring contours or curvatures, e.g. determining profile
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は表面形状測定装置に係り、特に、表面
が曲面状に形成された被測定物の表面形状を測定
するのに好適な表面形状測定装置に関する。
が曲面状に形成された被測定物の表面形状を測定
するのに好適な表面形状測定装置に関する。
表面が曲面状に形成された被測定物の表面形状
を測定する場合、三次元測定機などが従来から用
いられていた。
を測定する場合、三次元測定機などが従来から用
いられていた。
従来の三次元測定機によつて被測定物の表面形
状を測定する場合、第１図に示されるように、被
測定物１０の測定点１２に対する測定基準点１４
の測定情報として三次元の座標値を定めると共
に、被測定物１０の形状に合わせて、座標軸Ｘ，
Ｙ，Ｚのうち１つの座標軸を測定座標軸として定
め、三次元方向に移動可能な測定子１６を基準座
標軸に垂直となるように移動させ、測定子１６が
被測定物１０の表面に当接したときの座標値を求
め、この座標値と測定基準点１４の座標値との偏
差により被測定物の表面形状を測定するようにな
つていた。
状を測定する場合、第１図に示されるように、被
測定物１０の測定点１２に対する測定基準点１４
の測定情報として三次元の座標値を定めると共
に、被測定物１０の形状に合わせて、座標軸Ｘ，
Ｙ，Ｚのうち１つの座標軸を測定座標軸として定
め、三次元方向に移動可能な測定子１６を基準座
標軸に垂直となるように移動させ、測定子１６が
被測定物１０の表面に当接したときの座標値を求
め、この座標値と測定基準点１４の座標値との偏
差により被測定物の表面形状を測定するようにな
つていた。
この三次元測定機によつて被測定物１０の表面
形状を測定する場合、被測定物１０の表面がほぼ
平面状に形成されているときは、被測定物１０の
表面形状を精密に測定することができる。しか
し、被測定物１０の表面が曲面状に形成され、測
定点１２の部位が急な傾斜となつているときに
は、測定子１６が測定点１２に当接した際、測定
子１６の先端が滑り、被測定物１０の表面形状を
高精度に測定することができなかつた。
形状を測定する場合、被測定物１０の表面がほぼ
平面状に形成されているときは、被測定物１０の
表面形状を精密に測定することができる。しか
し、被測定物１０の表面が曲面状に形成され、測
定点１２の部位が急な傾斜となつているときに
は、測定子１６が測定点１２に当接した際、測定
子１６の先端が滑り、被測定物１０の表面形状を
高精度に測定することができなかつた。
そこで、測定子１６が被測定物１０の表面に当
接した際滑るのを防止するために、被測定物１０
の形状とは無関係に被測定物１０に干渉しない位
置から長時間にかけて徐々に測定子１６を被測定
物１０側に近づけ、測定子１６が被測定物１０の
表面に当接した際、滑るのを防止するようにして
被測定物１０の表面形状を測定する三次元測定機
が提案された。しかし、この三次元測定機では測
定時間が長くなるので、測定作業を円滑に効率良
く行なうことができない。
接した際滑るのを防止するために、被測定物１０
の形状とは無関係に被測定物１０に干渉しない位
置から長時間にかけて徐々に測定子１６を被測定
物１０側に近づけ、測定子１６が被測定物１０の
表面に当接した際、滑るのを防止するようにして
被測定物１０の表面形状を測定する三次元測定機
が提案された。しかし、この三次元測定機では測
定時間が長くなるので、測定作業を円滑に効率良
く行なうことができない。
本発明は、前記従来の課題を鑑みて為されたも
のであり、その目的は、表面が曲面状に形成され
た被測定物の表面形状を高精度にかつ短時間で測
定することができる表面形状測定装置を提供する
ことにある。
のであり、その目的は、表面が曲面状に形成され
た被測定物の表面形状を高精度にかつ短時間で測
定することができる表面形状測定装置を提供する
ことにある。
上記目的を達成するために、本発明の表面形状
測定装置は、三次元曲面状の被測定物の測定点に
対応する測定基準点の三次元座標値と、測定基準
点を通り前記三次元曲面に垂直な面直ベクトルと
のデータが予め格納されたデータベースと、 該データベース内に格納されたデータを基にし
て、測定子を現在座標位置から被測定物の測定点
に当接させるのに必要な測定子の移動量と、測定
子を被測定物に面直ベクトルに沿つた方向に当接
させる測定子の移動方向とを設定する設定手段
と、 該設定手段で設定した移動量と移動方向に従つ
て測定子を移動させる駆動手段と、 測定子が移動して被測定物に当接したとき、そ
の測定子の座標値を検出する検出手段と、 該検出手段で検出した座標値と前記測定基準点
の座標値との偏差から被測定物の表面形状を算出
する算出手段と、 を具備したものである。
測定装置は、三次元曲面状の被測定物の測定点に
対応する測定基準点の三次元座標値と、測定基準
点を通り前記三次元曲面に垂直な面直ベクトルと
のデータが予め格納されたデータベースと、 該データベース内に格納されたデータを基にし
て、測定子を現在座標位置から被測定物の測定点
に当接させるのに必要な測定子の移動量と、測定
子を被測定物に面直ベクトルに沿つた方向に当接
させる測定子の移動方向とを設定する設定手段
と、 該設定手段で設定した移動量と移動方向に従つ
て測定子を移動させる駆動手段と、 測定子が移動して被測定物に当接したとき、そ
の測定子の座標値を検出する検出手段と、 該検出手段で検出した座標値と前記測定基準点
の座標値との偏差から被測定物の表面形状を算出
する算出手段と、 を具備したものである。
上記構成によれば、被測定物の表面形状を測定
する場合、設定手段によつて、被測定物の測定点
に対応する測定基準点の三次元座標値と、測定基
準点を通る面直ベクトルとのデータがデータベー
スから読み出され、三次元座標値と面直ベクトル
とのデータに基づき、三次元座標値のデータから
は測定子の移動量が、面直ベクトルのデータから
は測定子の移動方向がそれぞれ設定される。
する場合、設定手段によつて、被測定物の測定点
に対応する測定基準点の三次元座標値と、測定基
準点を通る面直ベクトルとのデータがデータベー
スから読み出され、三次元座標値と面直ベクトル
とのデータに基づき、三次元座標値のデータから
は測定子の移動量が、面直ベクトルのデータから
は測定子の移動方向がそれぞれ設定される。
そして、その移動量と移動方向に基づいて、駆
動手段は測定子を移動させて被測定物の表面に測
定子を当接させる。測定子が被測定物の表面に当
接したときの測定子の座標値は検出手段で検出さ
れ、その検出結果は算出手段に送られる。算出手
段では、検出手段で検出した座標値とデータベー
ス内に格納されていた測定基準点の座標値との偏
差が計算され、その計算結果から被測定物の表面
形状が算出される。
動手段は測定子を移動させて被測定物の表面に測
定子を当接させる。測定子が被測定物の表面に当
接したときの測定子の座標値は検出手段で検出さ
れ、その検出結果は算出手段に送られる。算出手
段では、検出手段で検出した座標値とデータベー
ス内に格納されていた測定基準点の座標値との偏
差が計算され、その計算結果から被測定物の表面
形状が算出される。
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を
説明する。
説明する。
第２図には、本発明の表面形状測定装置の全体
構成が示されている。
構成が示されている。
第２図において、三次元の測定エリア内におけ
る位置が三次元の座標値で定められた測定子２０
を有する三次元測定機２２の測定台２４上には、
表面が曲面状に形成された被測定物２６が載置さ
れている。三次元測定機２２は、後述する制御装
置からの指令により測定子２０を三次元の各座標
軸に沿つて移動させることができる。
る位置が三次元の座標値で定められた測定子２０
を有する三次元測定機２２の測定台２４上には、
表面が曲面状に形成された被測定物２６が載置さ
れている。三次元測定機２２は、後述する制御装
置からの指令により測定子２０を三次元の各座標
軸に沿つて移動させることができる。
ここで、本実施例においては、三次元測定機２
２をオンラインによつて作動させるために、２群
の制御装置２８，３０を備え、制御装置２８と制
御装置３０とがインターフエイス回路３２、回線
３３を介して接続されており、制御装置３０と三
次元測定機２２とが回線３４、インターフエイス
回路３５を介して接続されている。
２をオンラインによつて作動させるために、２群
の制御装置２８，３０を備え、制御装置２８と制
御装置３０とがインターフエイス回路３２、回線
３３を介して接続されており、制御装置３０と三
次元測定機２２とが回線３４、インターフエイス
回路３５を介して接続されている。
制御装置２８はRAM３６，CPU３８，ROM
４０を備え、CPU３８が入力装置４２と外部記
憶装置４４に接続されている。ROM４０には
CPU３８を制御するための各種の制御プログラ
ムが格納されており、CPU３８は、この制御プ
ログラムに従つて外部記憶装置４４から必要とさ
れるデータをRAM３６に取り込んだり、あるい
はインターフエイス回路３２からRAM３６に取
り込んだデータの演算を行ない、演算結果を外部
記憶装置４４に出力するように構成されている。
４０を備え、CPU３８が入力装置４２と外部記
憶装置４４に接続されている。ROM４０には
CPU３８を制御するための各種の制御プログラ
ムが格納されており、CPU３８は、この制御プ
ログラムに従つて外部記憶装置４４から必要とさ
れるデータをRAM３６に取り込んだり、あるい
はインターフエイス回路３２からRAM３６に取
り込んだデータの演算を行ない、演算結果を外部
記憶装置４４に出力するように構成されている。
外部記憶装置４４には被測定物の形状を１対１
で表示する三次元曲面の基準データベース情報記
憶領域４４ａが設けられ、この基準データベース
情報記憶領域４４ａには、被測定物２６の測定点
４６に対する三次元曲面上の測定基準点の三次元
座標値（Ｘ，Ｙ，Ｚ）と、測定基準点を通り前記
三次元曲面に垂直な面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）
のデータが格納されている。
で表示する三次元曲面の基準データベース情報記
憶領域４４ａが設けられ、この基準データベース
情報記憶領域４４ａには、被測定物２６の測定点
４６に対する三次元曲面上の測定基準点の三次元
座標値（Ｘ，Ｙ，Ｚ）と、測定基準点を通り前記
三次元曲面に垂直な面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）
のデータが格納されている。
制御装置３０はRAM５０，CPU５２，ROM
５４を備え、各部がバスラインで接続されてい
る。ROM５４には、CPU５２を制御するための
各種制御プログラム及び各種データが格納されて
いる。CPU５２は、制御プログラムに従つて、
回線３３を介してインターフエイス回路３２から
供給される各種のデータをRAM５０に取り込む
と共に、RAM５０に取り込まれたデータと、
ROM５４に予め格納された各種データとの演算
を行ない、演算結果を回線３４、インターフエイ
ス回路３５を介して三次元測定機２２に出力する
ように構成されている、即ち、制御装置３０は、
外部記憶装置４４の基準データベース情報記憶領
域４４ａに格納された測定情報を基に、被測定物
２６の測定点４６に対する測定子２０の移動量
と、少なくとも被測定物２６に当接するときの測
定子２０の移動方向が面直ベクトル（ｉ，ｊ，
ｋ）に沿つた方向になる移動方向とを演算し、こ
の演算結果を回線３４、インターフエイス回路３
５を介して三次元測定機２２に伝送するように構
成されている。そのため、三次元測定機２２は、
前記移動量と前記移動方向が定められた指令に従
つて測定子２０を移動させることができ、又測定
子２０が被測定物２６の表面に当接したときに
は、被測定物２６に当接したときの測定子２０の
座標値がインターフエイス回路３５、回線３４、
制御装置３０、回線３３、インターフエイス回路
３２、制御装置２８を介して外部記憶装置４４の
測定データ記憶領域４４ｂに格納されるように構
成されている。
５４を備え、各部がバスラインで接続されてい
る。ROM５４には、CPU５２を制御するための
各種制御プログラム及び各種データが格納されて
いる。CPU５２は、制御プログラムに従つて、
回線３３を介してインターフエイス回路３２から
供給される各種のデータをRAM５０に取り込む
と共に、RAM５０に取り込まれたデータと、
ROM５４に予め格納された各種データとの演算
を行ない、演算結果を回線３４、インターフエイ
ス回路３５を介して三次元測定機２２に出力する
ように構成されている、即ち、制御装置３０は、
外部記憶装置４４の基準データベース情報記憶領
域４４ａに格納された測定情報を基に、被測定物
２６の測定点４６に対する測定子２０の移動量
と、少なくとも被測定物２６に当接するときの測
定子２０の移動方向が面直ベクトル（ｉ，ｊ，
ｋ）に沿つた方向になる移動方向とを演算し、こ
の演算結果を回線３４、インターフエイス回路３
５を介して三次元測定機２２に伝送するように構
成されている。そのため、三次元測定機２２は、
前記移動量と前記移動方向が定められた指令に従
つて測定子２０を移動させることができ、又測定
子２０が被測定物２６の表面に当接したときに
は、被測定物２６に当接したときの測定子２０の
座標値がインターフエイス回路３５、回線３４、
制御装置３０、回線３３、インターフエイス回路
３２、制御装置２８を介して外部記憶装置４４の
測定データ記憶領域４４ｂに格納されるように構
成されている。
本実施例は以上の構成から成り、次に、第５図
のフローチヤートに基づいてその作用を説明す
る。
のフローチヤートに基づいてその作用を説明す
る。
第５図において、まずCPU３８が制御プログ
ラムに従つて処理の実行を開始するとステツプ１
００の処理が行なわれる。即ち、ステツプ１００
においては、外部記憶装置４４の基準データベー
ス情報記憶装置４４ａから測定情報が読み出され
RAM３６内に格納される。次にステツプ１０２
に移りRAM３６に格納された測定情報がインタ
ーフエイス回路３２、回線３３を介して制御装置
３０のRAM５０に格納されステツプ１０４に移
る。
ラムに従つて処理の実行を開始するとステツプ１
００の処理が行なわれる。即ち、ステツプ１００
においては、外部記憶装置４４の基準データベー
ス情報記憶装置４４ａから測定情報が読み出され
RAM３６内に格納される。次にステツプ１０２
に移りRAM３６に格納された測定情報がインタ
ーフエイス回路３２、回線３３を介して制御装置
３０のRAM５０に格納されステツプ１０４に移
る。
ステツプ１０４においてはRAM５０に格納さ
れた測定情報を基に被測定物２６の測定点４６に
対する測定子２０の移動量と、少なくとも被測定
物２６に当接するときの測定子２０の移動方向が
面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）に沿つた方向になる
移動方向とが演算される。即ち、第３図に示され
る測定動作点６０，６２，６４、移動方向Ｄ１，
Ｄ２が求められ、これらの情報が回線３４、イン
ターフエイス回路３５を介して三次元測定機２２
に伝送される。
れた測定情報を基に被測定物２６の測定点４６に
対する測定子２０の移動量と、少なくとも被測定
物２６に当接するときの測定子２０の移動方向が
面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）に沿つた方向になる
移動方向とが演算される。即ち、第３図に示され
る測定動作点６０，６２，６４、移動方向Ｄ１，
Ｄ２が求められ、これらの情報が回線３４、イン
ターフエイス回路３５を介して三次元測定機２２
に伝送される。
次にステツプ１０６に移り三次元測定機２２に
よる測定が開始される。即ち、測定子２０を測定
動作点６０から移動方向Ｄ１に沿つて移動させる
と共に測定動作点６２で測定子２０の移動方向を
Ｄ２方向に定めて測定子２０を測定動作点６４側
に移動させる。この移動によつて測定子２０が被
測定物２６の表面に当接したとき、測定子２０は
移動方向Ｄ３に沿つて測定動作点６６まで移動す
る。測定子２０が被測定物２６に当接した測定点
４６の三次元の座標値が測定データとしてインタ
ーフエイス回路３５、回線３４を介して制御装置
３０に伝送される。（ステツプ１０８）。制御装置
３０に伝送された測定データはさらに回線３３、
インターフエイス回路３２を介して制御装置２８
に伝送され、この測定データがRAM３６に格納
される（ステツプ１１０）。
よる測定が開始される。即ち、測定子２０を測定
動作点６０から移動方向Ｄ１に沿つて移動させる
と共に測定動作点６２で測定子２０の移動方向を
Ｄ２方向に定めて測定子２０を測定動作点６４側
に移動させる。この移動によつて測定子２０が被
測定物２６の表面に当接したとき、測定子２０は
移動方向Ｄ３に沿つて測定動作点６６まで移動す
る。測定子２０が被測定物２６に当接した測定点
４６の三次元の座標値が測定データとしてインタ
ーフエイス回路３５、回線３４を介して制御装置
３０に伝送される。（ステツプ１０８）。制御装置
３０に伝送された測定データはさらに回線３３、
インターフエイス回路３２を介して制御装置２８
に伝送され、この測定データがRAM３６に格納
される（ステツプ１１０）。
次にCPU３８はRAM３６に格納された測定デ
ータと、外部記憶装置４４の基準データベース情
報記憶領域４４ａに格納された測定基準点の座標
値との偏差を求め、この偏差を被測定物２６の測
定点４６に対する表面形状の測定値として外部記
憶装置４４の測定データ記憶領域４４ｂに伝送す
る（ステツプ１１２）。この後ステツプ１１４に
移り、ROM４０に格納された制御プログラムに
基づいて次の測定点に対する測定情報の読み出し
を行ない、前述したステツプを繰り返すことによ
つて各測定点の表面形状の測定を行なう。そして
各測定点に対する表面形状の測定が終了した場合
（ステツプ１１６）、被測定物２６に対する表面形
状の測定を全て終了することになる。
ータと、外部記憶装置４４の基準データベース情
報記憶領域４４ａに格納された測定基準点の座標
値との偏差を求め、この偏差を被測定物２６の測
定点４６に対する表面形状の測定値として外部記
憶装置４４の測定データ記憶領域４４ｂに伝送す
る（ステツプ１１２）。この後ステツプ１１４に
移り、ROM４０に格納された制御プログラムに
基づいて次の測定点に対する測定情報の読み出し
を行ない、前述したステツプを繰り返すことによ
つて各測定点の表面形状の測定を行なう。そして
各測定点に対する表面形状の測定が終了した場合
（ステツプ１１６）、被測定物２６に対する表面形
状の測定を全て終了することになる。
このように本実施例においては、被測定物２６
の測定点４６に対する測定基準点４８の測定情報
として少なくとも三次元の座標値と測定基準点４
８における面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）を定め、
この測定情報を基に被測定物２６の測定点４６に
対する測定子２０の移動量と、少なくとも被測定
物２６に当接するときの測定子２０の移動方向が
面直ベクトルに従つた方向になる移動方向とを求
め、前記移動量と前記移動方向に従つて測定子２
０を移動させるようにしたので、測定子２０を高
速度で移動させても測定子２０が被測定物２６に
当接した際滑ることがなく、被測定物２６の表面
形状を短時間でかつ高精度に測定することができ
る。
の測定点４６に対する測定基準点４８の測定情報
として少なくとも三次元の座標値と測定基準点４
８における面直ベクトル（ｉ，ｊ，ｋ）を定め、
この測定情報を基に被測定物２６の測定点４６に
対する測定子２０の移動量と、少なくとも被測定
物２６に当接するときの測定子２０の移動方向が
面直ベクトルに従つた方向になる移動方向とを求
め、前記移動量と前記移動方向に従つて測定子２
０を移動させるようにしたので、測定子２０を高
速度で移動させても測定子２０が被測定物２６に
当接した際滑ることがなく、被測定物２６の表面
形状を短時間でかつ高精度に測定することができ
る。
又前記実施例においては、制御装置２８，３
０，三次元測定機２２とのデータの授受をオンラ
インによつて行なうようにしたので、三次元測定
機２２をオフラインによつて作動する場合より
も、高速度が被測定物２６の表面形状を自動測定
することができる。
０，三次元測定機２２とのデータの授受をオンラ
インによつて行なうようにしたので、三次元測定
機２２をオフラインによつて作動する場合より
も、高速度が被測定物２６の表面形状を自動測定
することができる。
以上説明したように、本発明の表面形状測定装
置によれば、被測定物の形状を１対１で表現する
三次元曲面のデータベースが予め用意されている
ので、このデータベース内のデータに基づいて測
定子を制御することにより、測定子の位置決めを
迅速に行うことができるとともに、被測定物に当
接した際の測定子の滑りを防止でき、被測定物の
表面形状を高速かつ高精度に測定することが可能
となる。
置によれば、被測定物の形状を１対１で表現する
三次元曲面のデータベースが予め用意されている
ので、このデータベース内のデータに基づいて測
定子を制御することにより、測定子の位置決めを
迅速に行うことができるとともに、被測定物に当
接した際の測定子の滑りを防止でき、被測定物の
表面形状を高速かつ高精度に測定することが可能
となる。
また、測定子の制御を自動的に行うことができ
るため、CAD／CAM等に適用することが可能で
ある。
るため、CAD／CAM等に適用することが可能で
ある。
第１図は従来の表面形状測定装置による測定方
法を説明するための図、第２図は本発明の表面形
状測定装置の全体構成図、第３図は第２図に示す
表面形状測定装置の作用を説明するための図、第
４図は第２図の外部記憶装置に格納される測定情
報の構成を説明するための図、第５図は第２図に
示す表面形状測定装置の作用を説明するためのフ
ローチヤートである。 ２０…測定子、２２…三次元測定機、２６…被
測定物、２８，３０…制御装置、３２，３５…イ
ンターフエイス回路、３３，３４…回線、４４…
外部記憶装置。
法を説明するための図、第２図は本発明の表面形
状測定装置の全体構成図、第３図は第２図に示す
表面形状測定装置の作用を説明するための図、第
４図は第２図の外部記憶装置に格納される測定情
報の構成を説明するための図、第５図は第２図に
示す表面形状測定装置の作用を説明するためのフ
ローチヤートである。 ２０…測定子、２２…三次元測定機、２６…被
測定物、２８，３０…制御装置、３２，３５…イ
ンターフエイス回路、３３，３４…回線、４４…
外部記憶装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 三次元曲面状の被測定物の測定点に対応する
測定基準点の三次元座標値と、測定基準点を通り
前記三次元曲面に垂直な面直ベクトルとのデータ
が予め格納されたデータベースと、 該データベース内に格納されたデータを基にし
て、測定子を現在座標位置から被測定物の測定点
に当接させるのに必要な測定子の移動量と、測定
子を被測定物に面直ベクトルに沿つた方向に当接
させる測定子の移動方向とを設定する設定手段
と、 該設定手段で設定した移動量と移動方向に従つ
て測定子を移動させる駆動手段と、 測定子が移動して被測定物に当接したとき、そ
の測定子の座標値を検出する検出手段と、 該検出手段で検出した座標値と前記測定基準点
の座標値との偏差から被測定物の表面形状を算出
する算出手段と、 を具備する表面形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13563683A JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13563683A JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6027809A JPS6027809A (ja) | 1985-02-12 |
| JPH0410568B2 true JPH0410568B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15156437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13563683A Granted JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027809A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283609A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 軌跡アナライザ |
| GB8605324D0 (en) * | 1986-03-04 | 1986-04-09 | Rank Taylor Hobson Ltd | Metrological apparatus |
| JPS62282216A (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-08 | Jiro Ishikawa | 歯車の歯形および歯すじ誤差の評価方法および装置 |
| JPS6454305A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-01 | Nec Corp | Method and device for pattern size measurement |
| US4877326A (en) | 1988-02-19 | 1989-10-31 | Kla Instruments Corporation | Method and apparatus for optical inspection of substrates |
| JPH0695009B2 (ja) * | 1989-06-29 | 1994-11-24 | オリンパス光学工業株式会社 | 撮像手段による対象部分の検査方法 |
| JP2764485B2 (ja) * | 1991-08-27 | 1998-06-11 | ファナック株式会社 | リアルタイムセンサの診断方法 |
| JP3057960B2 (ja) * | 1993-06-22 | 2000-07-04 | トヨタ自動車株式会社 | 三次元形状加工物の評価装置 |
| GB2437982B (en) * | 2006-05-08 | 2011-07-27 | Taylor Hobson Ltd | Metrological apparatus |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP13563683A patent/JPS6027809A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6027809A (ja) | 1985-02-12 |
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