JPH04106328U - 光フアイバ母材用脱水焼結炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】マッフルの蓋の支持棒貫通孔から外気が侵入す
るのを抑制する。 【構成】マッフル１内の上部に同軸状に仕切り筒１７を
配置する。この仕切り筒１７により、マッフル１内を光
ファイバ母材２の支持棒３を貫通させる内室１８ａと、
このマッフル１の蓋１０の支持棒貫通孔１０ａにシール
ガスを供給する外室１８ｂとの二重構造にする。仕切り
筒１７の下部は、マッフル１の内周に気密に接続する。
マッフル１には、外室１８ｂにシールガスを供給するシ
ールガス供給口１９を設ける。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、光ファイバ母材中の水分等を除去するため加熱焼成し且つ透明ガラ ス化する光ファイバ母材用脱水焼結炉に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来のこの種の光ファイバ母材用脱水焼結炉は、図２に示すように、石英筒体 等からなるマッフル１を有し、該マッフル１内には多孔質の光ファイバ母材２が 支持棒３で吊下げ支持されている。該支持棒３は、ガラス棒等で構成されている 。マッフル１の下部には、ガス供給口４が設けられている。このガス供給口４に は、マッフル１内に脱水剤を含むガスを供給するガス供給系５が接続されている 。該ガス供給系５は、脱水剤となる塩素ガス等を供給する第１の経路５ａと、そ の濃度調整と空気を排除するためのヘリウムガス等を供給する第２の経路５ｂと を有し、これら両経路５ａ，５ｂからの各ガスは流量コントローラ６ａ，６ｂで 調整された後、合流されてマッフル１内の下部に供給されるようになっている。 マッフル１の外周には、光ファイバ母材２を加熱するヒータ７及び炉体８等から なる加熱部９が設けられている。

【０００３】 マッフル１の上部開口部は、支持棒３が貫通する支持棒貫通孔１０ａを備えた 蓋１０で閉塞されている。マッフル１には、通路１１ａ，１１ｂが設けられてい る。一方の通路１１ａには、圧力計１２が接続されている。他方の通路１１ｂに は、図示しない排気系スクラバーへつながった排気系１３が接続されている。該 排気系１３には、自動弁１４が接続されている。該自動弁１４は、圧力計１２か らの圧力信号で制御動作をするコントローラ１５でコントロールされるようにな っている。

【０００４】 かかる光ファイバ母材用脱水焼結炉の場合、マッフル１内の下部にガス供給系 ５から供給されたガスは、光ファイバ母材２の周囲を通り、一部は蓋１０の支持 棒貫通孔１０ａにおける該蓋１０と支持棒３との間の隙間１６から排出され、残 りは排気系１３から排出される。

【０００５】 このような光ファイバ母材用脱水焼結炉では、光ファイバに対する品質要求の 高まりにつれ、光ファイバ母材２の脱水焼結にあたっては、マッフル１内の内圧 コントロールを高精度で行う必要性がますます高まっており、また、同時に外気 の僅か流入も厳しく排除しなければならないという必要性もますます高まってい る。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の光ファイバ母材用脱水焼結炉では、ガスの排気が行われ る蓋１０の隙間１６は、支持棒３の外径と、この外径に対して少しの余裕をもっ て作られた支持棒貫通孔１０ａの内径との径差からなるものであり、その気密性 は不十分で、とてもマッフル１の内圧を高精度でコントロールすることはできな い。しかも、支持棒３は回転しながら上下動するため、あまり隙間１６を狭くす ることは機能的にも無理である。更に、支持棒３には寸法のバラツキがあるため 、やはり高い気密性の保持は望めない。

【０００７】 また、特開平２−２１２３２５号に示されるように、支持棒に対して極めて小 さい隙間をもった貫通スリーブを該支持棒に嵌める方法もあるが、該支持棒と貫 通スリーブとの擦れにより、摩耗粉が生じ、該摩耗粉がマッフル１内に落ちて該 マッフル１内を汚染することがあり、この方法も高品質を求められる光ファイバ を作る光ファイバ母材２の脱水焼結炉としては適してない。

【０００８】 本考案の目的は、マッフルの蓋の支持棒貫通孔からの外気の侵入を抑制するこ とができる光ファイバ母材用脱水焼結炉を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

上記の目的を達成するための本考案の構成を説明すると、本考案は支持棒によ り支持された光ファイバ母材を収容するマッフルと、該マッフルの中に脱水剤を 含むガスを供給するガス供給系と、前記マッフル内の光ファイバ母材を加熱する 加熱部と、前記支持棒が貫通する支持棒貫通孔を備えて前記マッフルの上部開口 部を閉塞する蓋とを備えた光ファイバ母材用脱水焼結炉において、 前記マッフル内の上部に同軸状に仕切り筒が配置されて該マッフル内が前記支 持棒を貫通させる内室と前記蓋の前記支持棒貫通孔にシールガスを供給する外室 との二重構造になっており、該仕切り筒の下部は前記マッフルの内周に気密に接 続され、前記マッフルには前記外室にシールガスを供給するシールガス供給口が 設けられていることを特徴とする。

【００１０】

【作用】

このようにマッフル内を仕切筒によって、支持棒を貫通させる内室と、蓋の支 持棒貫通孔にシールガスを供給する外室との二重構造にし、該外室にシールガス を供給すると、該シールガスは支持棒に沿って支持棒貫通孔から排出され、外部 からの外気の侵入を防止できる。従って、マッフル内の気密性の保持が十分に行 われるため、マッフル内が汚染されることがなく、またマッフル内の圧力コント ロールを容易に行うことができる。

【００１１】

【実施例】

図１は、本考案に係る光ファイバ母材用脱水焼結炉の一実施例を示したもので ある。なお、前述した図２と対応する部分には、同一符号を付けて示している。 本実施例では、マッフル１の上部に着脱可能な着脱マッフル部１ａが設けられて いる。該着脱マッフル部１ａ内には、仕切り筒１７が同軸状に配置されている。 これにより該着脱マッフル部１ａ内が、支持棒３を貫通させる内室１８ａと、蓋 １０の支持棒貫通孔１０ａにシールガスを供給する外室１８ｂとの二重構造にな っている。該仕切り筒１７の下部は、着脱マッフル部１ａの内周に気密に接続さ れている。

【００１２】 該着脱マッフル部１ａには、外室１８ｂに例えばＮ₂ ガスの如きシールガスを 供給するシールガス供給口１９が設けられている。

【００１３】 このような光ファイバ母材用脱水焼結炉においては、シールガス供給口１９か らシールガスを外室１８ｂに供給する。外室１８ｂ内に供給されたシールガスは 、仕切り筒１７の周囲に沿って上昇し、支持棒３に沿って蓋１０の支持棒貫通孔 １０ａから外部に排出される。このように、支持棒貫通孔１０ａからシールガス を排出させると、外部からの外気の侵入を防止できる。従って、マッフル１内の 気密性の保持が十分に行われるため、マッフル１内が汚染されることがなく、ま たマッフル１内の圧力コントロールを容易に行うことができる。

【００１４】 この場合、シールガスは過剰に供給し過ぎないようにコントロールする。この ため、図示しない圧力計で外室１８ｂの圧力Ｐ₁ を測り、マッフル１の内圧Ｐ₂ に対し、大気圧＜Ｐ₁ ＜Ｐ₂ となるようにコントロールする。

【００１５】 従来の例では、ガス供給系５から供給するＨｅガス量は約35 l／分の流量を必 要とした。これに対し、本実施例では、Ｈｅ＝８ l／分、Ｎ₂ ＝５ l／分、Ｐ₁ ＝10mmＨ₂ Ｏ、Ｐ₂ ＝20mmＨ₂ Ｏであった。

【００１６】 透明ガラス化後に線引きした光ファイバの波長 1.24 μm でのＯＨロスは、従 来の炉で作った光ファイバ母材から得た光ファイバも、本考案の炉で作った光フ ァイバ母材から得た光ファイバも、いずれも０dB／kmであった。同様に、波長 1 .39 μm でのＯＨロスは、従来例では 0.27 dB／km、本考案例では 0.23 dB／km であり、ほとんど差は認められなかった。

【００１７】 このように本考案によればＨｅの使用量を減らし、コストダウンを図ることが できると共に品質の面では従来例と同等かそれ以上であった。

【００１８】 上記実施例では、マッフル１に着脱マッフル部１ａを設けたが、一体物のマッ フルに本発明を適用することもできる。

【００１９】

【考案の効果】

以上説明したように本考案に係る光ファイバ母材用脱水焼結炉においては、マ ッフル内の上部に同軸状に仕切り筒を配置することにより、該マッフル内を支持 棒を貫通させる内室と、蓋の支持棒貫通孔にシールガスを供給する外室との二重 構造にし、該外室からシールガスを蓋の支持棒貫通孔に供給して外部に排出させ るようにしているので、外部からの外気の侵入を確実に防止することができる。 従って、本考案によれば、マッフル内の気密性の保持が十分に行われるため、マ ッフル内が汚染されることがなく、またマッフル内の圧力コントロールを容易に 行うことができる。加えて、本考案はシールガス量も減らすことができるので、 光ファイバのコスト低減にも効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る光ファイバ母材用脱水焼結炉の一
実施例を示す縦断面図である。

【図２】従来の光ファイバ母材用脱水焼結炉の一実施例
を示す縦断面図である。

【符号の説明】

１ マッフル ２ 光ファイバ母材 ３ 支持棒 ４ ガス供給口 ５ ガス供給系 ５ａ 第１の経路 ５ｂ 第２の経路 ６ａ 流量コントローラ ６ｂ 流量コントローラ ７ ヒータ ８ 炉体 ９ 加熱部 １０ 蓋 １０ａ 支持棒貫通孔 １１ａ 通路 １１ｂ 通路 １２ 圧力計 １３ 排気系 １４ 自動弁 １５ コントローラ １６ 隙間 １７ 仕切り筒 １８ａ 内室 １８ｂ 外室 １９ シールガス供給口

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持棒により支持された光ファイバ母材
   を収容するマッフルと、該マッフルの中に脱水剤を含む
   ガスを供給するガス供給系と、前記マッフル内の光ファ
   イバ母材を加熱する加熱部と、前記支持棒が貫通する支
   持棒貫通孔を備えて前記マッフルの上部開口部を閉塞す
   る蓋とを備えた光ファイバ母材用脱水焼結炉において、
   前記マッフル内の上部に同軸状に仕切り筒が配置されて
   該マッフル内が前記支持棒を貫通させる内室と前記蓋の
   前記支持棒貫通孔にシールガスを供給する外室との二重
   構造になっおり、該仕切り筒の下部は前記マッフルの内
   周に気密に接続され、前記マッフルには前記外室にシー
   ルガスを供給するシールガス供給口が設けられているこ
   とを特徴とする光ファイバ母材用脱水焼結炉。