JPH04106951A - 基板の受渡し方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は基板の受渡し方法に関し、特に、ウェハなどの
基板を縦にして取扱うシンクロトロン放射光を光源とす
るＸ線露光装置に好適な基板の受渡し方法に関するもの
である。

［従来の技術］ 従来、遠紫外光を光源とする半導体露光装置では、ウェ
ハなどの基板を横にしたまま露光を行うため、基板を搬
送する基板搬送ハンドと露光が行われるステージとの間
の基板の受渡しは、一般に、次のようにして行われてい
る。

（１）基板搬送ハンドは、複数枚の基板が収納されてい
るカセットから一枚だけ基板を取出し、その裏面を横に
したまま真空吸着または静電吸着して該基板を保持する
。

（２）基板搬送ハンドは、たとえばパルスモータなどの
アクチュエータを使った駆動系により駆動され、コント
ローラおよびドライバにより所定のパルス量がパルスモ
ータに与えられることによって制御されて、ステージ上
の基準位置もしくはステージの吸着面と基板とが接触す
る位置にまで移動させられたのち、ステージへ基板を受
渡す。

（３）ステージへの基板の受渡しの確認は、真空センサ
や静電センサを用いて、所定の時間内にステージ側の保
持が確実になったか否かをチエツクすることにより行わ
れる。

（４）ステージから基板搬送ハンドへの受渡しも、同様
にして行われる。

ここで、誤動作などにより、基板の受取り側の保持が不
完全な状態で受渡し側の保持が解除されたとしても、基
板搬送ハンドおよびステージは基板を横にしたまま保持
しているため、基板が落下することはないので、基板の
受渡しを行う際の基板の落下防止に関しては、特に対策
する必要がない。

ところが、近年、半導体メモリの大容量化が進むにつれ
て、半導体製造装置における微細化技術の向上が重要な
課題となってきており、その−手段として、シンクロト
ロン放射光（以下、ｒｓＯＲ光」と称する。）を光源と
するＸ線露光装置が注目されている。

このようなＸ線露光装置では、ＳＯＲ光が必ず水平方向
に出射されること、およびＳＯＲ光に対する適当な反射
鏡がないことから、ウェハやマスクなどを縦にしたまま
露光を行う構成が用いられる（たとえば、特開平２−１
００３１１号公報）。

したがって、このようなＸ線露光装置においては、次に
示す理由により、縦向きの基板を基板搬送ハンドで裏面
吸着して縦にしたまま搬送するとともに、基板を縦にし
たまま縦型ステージと基板搬送ハンドとの間での基板の
受渡しが行われる。

（１）基板は縦型ステージに設置されて露光されるため
、従来のように基板を横にして搬送するものでは、縦型
ステージあるいは基板搬送ハンドのいずれかに基板を縦
にする機能が必要となる。

（２）基板上に描かれるパターンの線幅の微細化に伴な
い、従来のように基板を横にして搬送するものでは、該
基板搬送時のごみの付着が問題となる。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、このようなＸ線露光装置において、基板
搬送ハンドと縦型ステージとの間の基板の受渡しを前述
した従来方法で行うと、以下に示す理由により、受渡し
時に基板の落下が生じやすくなり、信頼性の点で問題が
生じる。

基板搬送ハンドから縦型ステージへ基板を受渡す場合、
基板搬送ハンドは縦型ステージ上の基準位置、もしくは
縦型ステージの吸着面と基板とが接触する位置にまでパ
ルスモータにより移動させられる。しかし、この移動量
は、パルスモータに与えられるパルス量に依存するため
、たとえば、パルス量エラー、基板搬送ハンドの組付は
誤差および基板の反りなどの影響により、前記位置の位
置決めが精度よく行われず、縦型ステージ側の吸着状態
が不完全なままで基板搬送ハンドの吸着が解除された場
合には、基板の落下が生じる。

縦型ステージから基板搬送ハンドへ基板を受渡す場合も
、同様である。

本発明の目的は、ＳＯＲ光を光源とするＸ線露光装置の
ように、基板を縦にしたままで行なわれる縦型ステージ
と基板搬送ハンドとの間の基板の受渡しにおいても、高
い信頼性を確保できる基板の受渡し方法を提供すること
にある。

［課題を解決するための手段〕 本発明の基板の受渡し方法は、 縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板
搬送ハンドから、前記基板を縦にして保持する縦型ステ
ージへ、前記基板を縦にしたまま該基板の受渡しを行う
ときには、 前記縦型ステージのステージ吸着面と前記基板とが互い
に接触することなく対向する不干渉位置にまで、前記基
板搬送ハンドを移動し、前記不干渉位置と前記ステージ
吸着面との間に予め設定したステージ吸着開始位置まで
、前記基板搬送ハンドを所定の速度で移動したのち、前
記縦型ステージによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の押付は距離たけ前記不干
渉位置の反対側に予め設定した受渡し位置まで、前記基
板搬送ハンドを前記速度よりも低速度で移動して、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を確認すると、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除したの
ち、 前記受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反対側に
予め設定した退避位置まで、前記基板搬送ハンドを移動
する。

また、縦向きの基板を縦にして保持する縦型ステージか
ら、前記基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板
搬送ハンドへ、前記基板を縦にしたまま該基板の受渡し
を行うときには、前記縦型ステージのステージ吸着面よ
りも該縦型ステージ側に予め設定した退避位置まで、前
記基板搬送ハンドを移動し、 前記退避位置と前記ステージ吸着面との間に予め設定し
たハンド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記基
板搬送ハンドを所定の速度で移動したのち、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の押付は距離たけ前記ハン
ド吸着開始位置の反対側に予め設定した受渡し位置まで
、前記基板搬送ハンドを前記速度よりも低速度で移動し
て、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認すると
、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を解除し、 前記ステージ吸着面と前記基板とが互いに接触すること
なく対向する不干渉位置まで、前記基板搬送ハンドを移
動する。

さらに、縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送
する基板搬送ハンドと、前記基板を樅にして保持する縦
型ステージとの間で、前記基板を縦にしたまま該基板の
受渡しを行うときには、前記基板搬送ハンドから前記縦
型ステージに前記基板を受渡す場合には、 前記縦型ステージのステージ吸着面と前記基板とが互い
に接触することなく対向する不干渉位置にまで、前記基
板搬送ハンドを移動し、前記不干渉位置と前記ステージ
吸着面との間に予め設定したステージ吸着開始位置まで
、前記基板搬送ハンドを所定の第１の速度で移動したの
ち、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の第１の押付は距離だけ前
記不干渉位置の反対側に予め設定した第１の受渡し位置
まで、前記基板搬送ハンドを前記第１の速度よりも低速
度で移動して、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を確認すると、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除したの
ち、 前記第１の受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反
対側に予め設定した退避位置まで、前記基板搬送ハンド
を移動し、 一方、前記縦型ステージから前記基板搬送ハンドに前記
基板を受渡す場合には、 前記退避位置と前記第１の受渡し位置との間に予め設定
したハンド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記
基板搬送ハンドを所定の第２の速度で移動したのち、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の第２の押付は距離だけ前
記不干渉位置側に予め設定した第２の受渡し位置まで、
前記基板搬送ハンドを前記第２の速度よりも低速度で移
動して、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認すると
、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を解除し、 前記不干渉位置まで、前記基板搬送ハンドを移動する。

［作用〕 基板搬送ハンドから縦型ステージに基板を受渡す場合（
二基板搬送ハンドをステージ吸着開始位置で一旦止めた
のち、縦型ステージによる基板の吸着を開始し、縦型ス
テージのステージ吸着面から所定の第１の押付は距離だ
け不干渉位置の反対側に予め設定した第１の受渡し位置
まで、基板搬送ハンドをそれまでよりも低速度で移動す
ることにより、受渡される基板を前記ステージ吸着面に
十分接触させることができるため、また、基板の受渡し
時には、基板搬送ハンドと縦型ステージの両方で基板を
吸着し、かつ受渡される側である縦型ステージによる基
板の吸着を確認したのちに、受渡す側である基板搬送ハ
ンドによる基板の吸着を解除するため、基板の受渡しを
確実に行うことができる。

一方、縦型ステージから基板搬送ハンドに基板を受渡す
場合には、基板搬送ハンドをハンド吸着開始位置で一旦
止めたのち、基板搬送ハンドによる基板の吸着を開始し
、縦型ステージのステージ吸着面から所定の第２の押付
は距離だけ不干渉位置側に予め設定した第２の受渡し位
置まで、基板搬送ハンドをそれまでよりも低速度で移動
することにより、受渡される基板を基板搬送ハンドのハ
ンド吸着面に十分接触させることができるため、また、
基板の受渡し時には、基板搬送ハンドと縦型ステージの
両方で基板を吸着し、かつ受渡される側である基板搬送
ハンドによる基板の吸着を確認したのちに、受渡す側で
ある縦型ステージによる基板の吸着を解除するため、基
板の受渡しを確実に行うことができる。

［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第２図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例を示すウ
ェハ搬送装置の概略構成図、第３図は第２図に示したウ
ェハ搬送装置が有する制御装置２０のブロック図である
。

このウェハ搬送装置は、縦向きの基板であるウェハ１を
裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板搬送ハンドであ
るウェハ搬送ハンド２と、ウェハ１を縦にしたままウェ
ハ搬送ハンド２とウェハ１の受渡しを行う、ウェハ１を
縦にして保持する縦型ステージ３と、第３図に示す制御
装置２０とから構成されている。

ウェハ搬送ハンド２は、ハンドＹ軸方向駆動用パルスモ
ータ７で駆動される公知のボールねじ機構により第２図
図示Ｙ軸方向に往復移動させられるハンドＹ軸方向支持
台６上に載設され、また、ハンドＹ軸方向支持台６は、
不図示のハンドＸ軸方向駆動用パルスモータで駆動され
るボールねじ機構により図示Ｘ軸方向に往復移動させら
れるハンドｘ軸方向支持台８上に摺動自在に設けられて
いる。したがって、ウェハ搬送ハンド２は、図示Ｘ軸お
よびＹ軸方向に移動可能となっている。

縦型ステージ３は、ステージＺ軸方向駆動用パルスモー
タ４０（第３図参照）で駆動されるボールねじ機構によ
り図示Ｚ軸方向に往復移動させられるステージＺ軸方向
支持台１２上に載設されている。また、ステージＺ軸方
向支持台１２は、ステージベース台９に図示Ｚ軸方向に
摺動自在に取付けられている。

不図示の真空発生源と接続された配管１３が設けられて
おり、配管１３はハンド用配管１５とステージ用配管１
４とに２分岐され、ハンド用配管１５はウェハ搬送ハン
ド２に、またステージ用配管１４は縦型ステージ３にそ
れぞれ接続されている。その結果、ウェハ１は前記真空
発生源によりウェハ搬送ハンド２および縦型ステージ３
に真空吸着されて保持される。

ハンド用配管１５とステージ用配管１４とには、ウェハ
搬送ハンド２と縦型ステージ３とにおけるウェハ１の吸
着および非吸着の制御を行うハンド用電磁バルブ１１と
ステージ用電磁バルブ１０とがそれぞれ介在されている
。

ハンド用配管１５のウェハ搬送ハンド２とハンド用電磁
バルブ１１との間には、ハンド用圧力センサ５が介在さ
れ、またステージ用配管１４の縦型ステージ３とステー
ジ用電磁バルブｌＯとの間には、ステージ用圧力センサ
４が介在されており、ウェハ搬送ハンド２および縦型ス
テージ３におけるウェハ１の吸着力の検出がそれぞれ行
われる。

次に、このウェハ搬送装置が有する制御装置２０の構成
について、第３図を用いて説明する。

この制御装置２０は、ステージ用圧力センサ４およびハ
ンド用圧力センサ５の出力信号をそれぞれ増幅する第１
および第２のアンプ２１゜２２と、第１のアンプ２１の
出力信号の電圧と第１の基準電圧Ｖ　０１との大小比較
を行い、第１のアンプ２１の出力信号を２値化する第１
のコンパレータ２３と、第２のアンプ２２の出力信号の
電圧と第２の基準電圧■。２との大小比較を行い、第２
のアンプ２２の出力信号を２値化する第２のコンパレー
タ２４と、該２つのコンパレータ２３゜２４の出力信号
をホストコンピュータであるマイクロコントローラ（以
下、ｒＣＰＵＪと称する。）２７に入力させるための入
力側インターフェース２５とを有する。

また、この制御装置２０は、ステージ用電磁バー　　ル
ブ１０．ハンド用電磁バルブ１１．ステージＺ軸方向駆
動用パルスモータ４０およびハンドＹ軸方向駆動用パル
スモータ７をそれぞれ駆動する第１．第２．第３および
第４のトライバ３１〜３４と、第１および第２のトライ
バ３１．３２の制御を行うバルブコントローラ２９と、
第３および第４のドライバ３３．３４の制御を行うパル
スモータコントローラ３０と、ＣＰＵ２７の出力信号を
バルブコントローラ２９およびパルスモータコントロー
ラ３０に出力させる出力側インタルフェース２８とを有
する。

次Ｃね　このウェハ搬送装置の動作について、第１図〜
第５図を参照して説明する。

（１）ウェハ搬送ハンド２から縦型ステージ３へのウェ
ハ１の受渡しく第４図参照） まず、不図示のハンドＸ軸方向駆動用パルスモータが制
御装置２０（第３図参照）とは別の制御装置によって駆
動されて、第２図に示すハンドｘ軸方向支持台８が所定
の距離だけ移動させられることにより、ウェハ搬送ハン
ド２はウェハ１を縦にしたまま真空吸着して保持しなが
らＸ、第１図（ａ）に示す不干渉位置へ〇まで移動させ
られる。ここで、不干渉位置へ〇は、縦型ステージ３の
ステージ吸着面３．とウェハ１とが互いに接触すること
なく対向する位置となるように予め設定されている。

ウェハ搬送ハンド２が不干渉位置Ａ。まで移動すると、
制御装置２０のＣＰＵ２７は、ハンド用圧力センサ５の
出力信号を第２のアンプ２２、第２のコンパレータ２４
および入力側インターフェース２５を介して取込み、該
出力信号が示すハンド用配管１５内の圧力より、ウェハ
搬送ハンド２がウェハ１を保持しているか確認する（ス
テップ５１）。

ウェハ搬送ハンド２がウェハ１を保持していることを確
認すると、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８
．パルスモータコントローラ３０および第４のドライバ
３４を介してハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、
所定の周波数および所定のクロック数のパルスと回転方
向を指示する信号とを出力することにより、ハンドＹ軸
方向支持台６を−Ｙ軸方向に移動させて、ウェハ搬送ハ
ンド２を第１図（ｂ）に示すステージ吸着開始位置Ａ１
まで、所定の第１の速度で移動させる（ステップ５２）
。ここで、ステージ吸着開始位置ＡＩは、不干渉位置Ａ
。

と縦型ステージ３のステージ吸着面３１との間に予め設
定されており、ウェハ１の裏面が前記ステージ吸着面３
．に接触しない位置（たとえば、ウェハ１の裏面と該ス
テージ吸着面３Ｉとの間隔が０．３ｍｍの位置）となっ
ている。

ウェハ搬送ハンド２がステージ吸着開始位置Ａ＋　まで
移動すると、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２
８．バルブコントローラ２９および第１のドライバ３１
を介してステージ用電磁バルブ１０を開かせて、前記ス
テージ吸着面３１と不図示の真空発生源とを連通させる
ことにより、縦型ステージ３によるウェハ１の真空吸着
を開始させる（ステップ５３）。

縦型ステージ３によるウェハ１の真空吸着が開始される
と、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．パル
スモータコントローラ３０および第４のトライバ３４を
介してハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、該パル
スモータ７の自起動周波数と等しい周波数および所定の
クロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを出力
して、前記第１の速度よりも低速度でハンドＹ軸方向支
持台６を−Ｙ軸方向に移動させることにより、ウェハ搬
送ハンド２のハンド吸着面２、を第１図（Ｃ）に示す第
１の受渡し位置Ａ２まで移動させる（ステップ５４）、
ここで、第１の受渡し位置Ａ２は、縦型ステージ３のス
テージ吸着面３．よりも第１の押付は距離ΔＡ（たとえ
ば、ΔＡ　＝　０．０５ｍｍ）だけ不干渉位置Ａ。の反
対側（すなわち、同図（Ｃ）で上にくる位置）に予め設
定されているため、ウェハ１は前記ステージ吸着面３１
に押付けられた状態となっている。

また、ウェハ搬送ハンド２には、第１の押付は距離ΔＡ
に対して前記第１の速度よりも低い速度でウェハ搬送ハ
ンド２を移動させてウェハ１を縦型ステージ３に接触さ
せてもウェハ１を脱落させない程度の剛性をもたせであ
る。すなわち、第１図（ｃ）では、第１の押付は距離△
Ａを明確に示すため、ウェハ搬送ハンド２の剛性が非常
に強い場合の状態を示したが、実際には、ウェハ搬送ハ
ンド２は、第１の受渡し位置Ａ２まで移動させられても
、ウェハ搬送ハンド２のハンド吸着面２１と縦型ステー
ジ３のステージ吸着面３Ｉとの位置が等しくなる程度の
剛性ＣＹ軸方向）としている。したがって、このとき、
ウェハ１は、その裏面と前記ステージ吸着面３Ｉと前記
ハンド吸着面２．とが一致する位置において、その裏面
が前記ステージ吸着面３Ｉと前記ハンド吸着面２１の両
方に接触した状態で、縦型ステージ３とウェハ搬送ハン
ド２との両方で真空吸着されているため、ウェハ１の落
下を防ぐことができる。

ウェハ搬送ハンド２が第１の受渡し位置Ａ２まで移動す
ると、ＣＰＵ２７は、第１のアンプ２１、第１のコンパ
レータ２３および入力側インターフェース２５を介して
ステージ用圧力センサ４の出力信号を所定のタイミング
で取込み、該出力信号が示すステージ用配管１４内の圧
力より、縦型ステージ３によるウェハ１の真空吸着を確
認する（ステップ５５）。

縦型ステージ３によるウェハ１の真空吸着を確認すると
、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．バルブ
コントローラ２９および第２のドライバ３２を介してハ
ンド用電磁バルブ１１を閉じさせ、前記ハンド吸着面２
１と不図示の真空発生源との連通を断たせることにより
、ウェハ搬送ハンド２によるウェハ１の真空吸着を解除
させる（ステップ５６）。一方、ステージ用配管１４内
の圧力が、縦型ステージ３がウェハ１を保持するのに十
分な値でない場合には、ＣＰＵ２７は所定のタイミング
での前記圧力の取込み動作を繰返す（ステップ５５）。

ウェハ搬送ハンド２の真空吸着が解除されると、ＣＰＵ
２７は、出力側インターフェース２８、パルスモータコ
ントローラ３０および第４のドライバ３４を介してハン
ドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、所定の周波数およ
び所定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信号
とを出力することにより、ハンドＹ軸方向支持台６を−
Ｙ軸方向にさらに移動させることにより、ウェハ搬送ハ
ンド２を不図示の退避位置まで移動させる（ステップ５
７）、ここで、該退避位置は、第１の受渡し位置Ａ２よ
りもさらに不干渉位置Ａ。の反対側に予め設定されてい
る。

ウェハ搬送ハンド２が前記退避位置まで移動すると、Ｃ
ＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．パルスモー
タコントローラ３０および第３のドライバ３３を介して
ステージＺ軸方向駆動用パルスモータ４０に、所定の周
波数および所定のクロック数のパルスと回転方向を指示
する信号とを出力することにより、縦型ステージ３を露
光位置まで第２図図示Ｚ軸方向へ移動させる（ステップ
５８）。

（２）縦型ステージ３からウェハ搬送ハンド２へのウェ
ハ１の受渡しく第５図参照） まず、制御装置２０のＣＰＵ２７は、ステージ用圧力セ
ンサ４の出力信号を第１のアンプ２１、第１のコンパレ
ータ２３および入力側インターフェース２５を介して取
込み、該出力信号が示すステージ用配管１４内の圧力よ
り、縦型ステージ３がウェハ１を保持しているか確認す
る（ステップ６１）。

縦型ステージ３がウェハ１を保持していることを確認す
ると、ＣＰＵ２７は、出力側インタテフェース２８．パ
ルスモータコントローラ３０および第３のドライバ３３
を介してステージＺ軸方向駆動用パルスモータ４０に、
所定の周波数および所定のクロック数のパルスと回転方
向を指示する信号とを出力することにより、縦型ステー
ジ３を前記露光位置から第２図に示す位置である受渡し
位置まで移動させる（ステップ６２）。

縦型ステージ３が前記受渡し位置まで移動すると、ＣＰ
Ｕ２７は、出力側インターフェース２８、パルスモータ
コントローラ３０および第４のトライバ３４を介してハ
ンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、所定の周波数お
よび所定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信
号とを出力することにより、ハンドＹ軸方向支　　−持
合６をＹ軸方向に移動させて、前記退避位置にあるウェ
ハ搬送ハンド２を第１図（ｄ）に示すハンド吸着開始位
置Ｂ１まで、所定の第２の速度で移動させる（ステップ
６３）。ここで、ハンド吸着開始位置Ｂ＋は、縦型ステ
ージ３のステージ吸着面３．から第１の受渡し位置Ａ２
よりもさらに不干渉位置へ〇の反対側に予め設定されて
おり、ウェハ１の裏面が前記ハンド吸着面２１に接触し
ない位置（たとえば、該ハンド吸着面２１と前記ステー
ジ吸着面３１との間隔が０．３ｍｍの位置）となってい
る。

ウェハ搬送ハンド２がハンド吸着開始位置Ｂ、まで移動
すると、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．
バルブコントローラ２９および第２のドライバ３２を介
してハンド用電磁バルブ１１を開かせて、ウェハ搬送ハ
ンド２のハンド吸着面２．と不図示の真空発生源とを連
通させることにより、ウェハ搬送ハンド２によるウェハ
１の真空吸着を開始させる（ステップ６４）。

ウェハ搬送ハンド２によるウェハ１の真空吸着が開始さ
れると、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．
パルスモータコントローラ３０および第４のドライバ３
４を介してハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、該
パルスモータフの自起動周波数と等しい周波数および所
定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを
出力して、前記第２の速度よりも低速度でハンドＹ軸方
向支持台６をＹ軸方向に移動させることにより、ウェハ
搬送ハンド２のハンド吸着面２、を第１図（ｅ）に示す
第２の受渡し位置Ｂ２まで移動させる（ステップ６５）
。ここで、第２の受渡し位置Ｂ２は、縦型ステージ３の
ステージ吸着面３１よりも第２の押付は距離ΔＢ（たと
えば、ΔＢ＝０．０５ｍｍ）だけ不干渉位置へ〇側（す
なわち、同図（ｅ）で下にくる位置）に予め設定されて
いるため、ウェハ１はウェハ搬送ハンド２に押付けられ
た状態となっている。

また、ウェハ搬送ハンド２には、第２の押付は距離ΔＢ
に対して前記第２の速度よりも低い速度でウェハ搬送ハ
ンド２を移動させてウェハ１をウェハ搬送ハンド２に接
触させてもウェハ１を脱落させない程度の剛性をもたせ
である。

すなわち、第１図（ｅ）では、第２の押付は距離ΔＢを
明確に示すため、ウェハ搬送ハンド２の剛性が非常に強
い場合の状態を示したが、実際には、ウェハ搬送ハンド
２は第２の受渡し位置Ｂ２まで移動させられても、ウェ
ハ搬送ハンド２のハンド吸着面２．と縦型ステージ３の
ステージ吸着面３１との位置が等しくなる程度の剛性（
−Ｙ軸方向）としている。したがって、このとき、ウェ
ハ１は、その裏面と前記ステージ吸着面３．と前記ハン
ド吸着面２１とが一致する位置において、その裏面が前
記ステージ吸着面３Ｉと前記ハンド吸着面２１の両方に
接触した状態で、縦型ステージ３とウェハ搬送ハンド２
との両方で真空吸着されているため、ウェハ１の落下を
防ぐことができる。

ウェハ搬送ハンド２が第２の受渡し位置Ｂ２まで移動す
ると、ＣＰＵ２７は、第２のアンプ２２、第２のフンパ
レータ２４および入力側インターフェース２５を介して
ハンド用圧力センサ５の出力信号を所定のタイミングで
取込み、該出力信号が示すハンド用配管１５内の圧力よ
り、ウェハ搬送ハンド２によるウェハ１の真空吸着を確
認する（ステップ６６）。

ウェハ搬送ハンド２によるウェハ１の真空吸着を確認す
ると、ＣＰＵ２７は、出力側インターフェース２８．バ
ルブコントローラ２９および第１のドライバ３１を介し
てステージ用電磁バルブ１０を閉じさせ、前記ステージ
吸着面３、と不図示の真空発生源との連通を断たせるこ
とにより、縦型ステージ３によるウェハ１の真空吸着を
解除させる（ステップ６７）。−方、ハンド用配管１５
内の圧力が、ウェハ搬送ハンド２がウェハ１を保持する
のに十分な値でない場合には、ＣＰＵ２７は所定のタイ
ミングでの前記圧力の取込み動作を繰返す（ステップ６
６）。

縦型ステージ３の真空吸着が解除されると、ＣＰＵ２７
は、出力側インターフェース２８゜パルスモータコント
ローラ３０および第４のドライバ３４を介してハンドＹ
軸方向駆動用パルスモータ７に、所定の周波数および所
定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを
出力することにより、ハンドＹ軸方向支持台６をＹ軸方
向にさらに移動させることにより、ウェハ搬送ハンド２
を不干渉位置へ〇まで移動させる（ステップ６８）。

以上説明した実施例においては、ウェハ搬送ハンド２お
よび縦型ステージ３は真空吸着によりウェハ１を保持し
たが、静電吸着によりウェハ１を保持するものであって
もよい。この場合には、ウェハ搬送ハンド２および縦型
ステージ３におけるウェハ１の保持の確認は、ハンド用
圧力センサ５およびステージ用圧力センサ４の代わりに
、ハンド用静電センサおよびステージ用静電センサを用
いて行えばよい。

また、ウェハ搬送ハンド２および縦型ステージ３の移動
は、パルスモータを用いて行ったが、ＤＣモータとエン
コーダとを組合せたものを用いて行ってもよい。ただし
、第１図に示したステージ吸着開始位置Ａ＋およびハン
ド吸着開始位置Ｂ１は、縦型ステージ３およびウェハ搬
送ハンド２による吸着の開始を行わせるためのものであ
ることから、また第１の受渡し位置Ａ２および第２の受
渡し位置Ｂ２は、ウェハ搬送ハンド２の剛性に依存する
ものであることから、これらの位置の位置決め精度はパ
ルスモータによる位置決め精度であれば十分である。

第１図に示した実施例では、ウェハ搬送ハンド２と縦型
ステージ３との間で、ウェハ１を受渡する方法について
示したが、ウェハ搬送ハンド２から縦型ステージ３ヘウ
エハ１を受渡すだけでよい場合（縦型ステージ３からは
他の手段によりウェハｌを受取る場合）には、第４図に
示したステップ５１からステップ５８までの動作をさせ
ればよい。一方、縦型ステージ３からウェハ搬送ハンド
２ヘウエハ１を受渡すだけでよい場合には、ウェハ搬送
ハンド２を前記退避位置に移動させたのち、第５図に示
したステップ６１からステップ６８までの動作をさせれ
ばよい。

また、本発明の基板の受渡し方法は、マスクまたはレチ
クルなどの基板を縦にしたまま搬送する基板搬送系にお
いても、第２図に示したウェハ搬送ハンド２のハンド吸
着面２．および縦型ステージ３のステージ吸着面３１の
構造をマスクまたはレチクルの外周部の裏面を吸着・保
持するように変えるだけで、適用可能である。

［発明の効果コ 本発明は、上述のとおり構成されているので、次に記載
する効果を奏する。

基板搬送ハンドから縦型ステージに基板を受渡す場合に
、基板搬送ハンドをステージ吸着開始位置で一旦止めた
のち、縦型ステージによる基板の吸着を開始し、縦型ス
テージのステージ吸着面から所定の第１の押付は距離だ
け不干渉位置の反対側に設定された第１の受渡し位置ま
で、基板搬送ハンドをそれまでよりも低速度で移動し、
また、基板の受渡し時には、基板搬送ハンドと縦型ステ
ージの両方で基板を吸着し、かつ受渡される側である縦
型ステージによる基板の吸着を確認したのちに、受渡す
側である基板搬送ハンドによる基板の吸着を解除するこ
とにより、一方、縦型ステージから基板搬送ハンドに基
板を受渡す場合には、基板搬送ハンドをハンド吸着開始
位置で一旦止めたのち、基板搬送ハンドによる基板の吸
着を開始し、縦型ステージのステージ吸着面から所定の
第２の押付は距離だけ不干渉位置側に設定された第２の
受渡し位置まで、基板搬送ハンドをそれまでよりも低速
度で移動し、また、基板の受渡し時には、基板搬送ハン
ドと縦型ステージの両方で基板を吸着し、かつ受渡され
る側である基板搬送ハンドによる基板の吸着を確認した
のちに、受渡す側である縦型ステージによる基板の吸着
を解除することにより、基板の受渡しを確実に行うこと
ができるため、信頼性の向上が図れるという効果がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例における
ウェハ搬送ハンドの動きを示す図であり、（ａ）〜（Ｃ
）はそれぞれウェハ搬送ハンドから縦型ステージにウェ
ハを受渡すときの図、（ｄ）〜（ｆ）はそれぞれ縦型ス
テージからウェハ搬送ハンドにウェハを受渡すときの図
、第２図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例を示す
基板搬送装置の概略構成図、第３図は第２図に示した基
板搬送装置が有する制御装置のブロック図、第４図はウ
ェハ搬送ハンドから縦型ステージにウェハを受渡すとき
の第３図に示した制御装置の動作を説明するフローチャ
ート、第５図は縦型ステージからウェハ搬送ハンドにウ
ェハを受渡すときの第３図に示した制御装置の動作を説
明するフローチャートである。 ■・・・ウェハ、 ２・・・ウニへ搬送ハンド、 ２Ｉ・・・ハンド吸着面、 ３・・・縦型ステージ、 ３１・・・ステージ吸着面、 ４・・・ステージ用圧力センサ、 ５・・・ハンド用圧力センサ、 ６・・・ハンドＹ軸方向支持台、 ７・・・ハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ、８・・・
ハンドＸ軸方向支持台、 ９・・・ステージベース台、 １０・・・ステージ用電磁バルブ、 １１・・・ハンド用電磁バルブ、 １２・・・ステージＺ軸方向支持台、 １３・・・配管、　　　　１４・・・ステージ用配管、
１５・・・ハンド用配管、 ２０・・・制御装置、　２１．２２・・・アンプ、２３
．２４・・・コンパレータ、 ２５・・・入力側インターフェース、 ２７・・・　ｃｐｕ。 ２８・・・出力側インターフェース、 ２９・・・バルブコントローラ、 ３０・・・パルスモータコントローラ、３１〜３４・・
・　トライバ、 ４０・・・ステージＺ軸方向駆動用パルスモータ、八〇
・・・不干渉位置、 ＡＩ・・・ステージ吸着開始位置、 Ａ２・・・第１の受渡し位置、 Ｂ１・・・ハンド吸着開始位置、 Ｂ２・・・第２の受渡し位置、 ΔＡ・・・第１の押付は距離、 ΔＢ・・・第２の押付は距離、 ■。１．Ｖ＋Ｈ・・・　基準電圧、 ｘ、ｙ、ｚ・・・軸。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する
   基板搬送ハンドから、前記基板を縦にして保持する縦型
   ステージへ、前記基板を縦にしたまま該基板の受渡しを
   行う基板の受渡し方法において、 前記縦型ステージのステージ吸着面と前記基板とが互い
   に接触することなく対向する不干渉位置にまで、前記基
   板搬送ハンドを移動し、 前記不干渉位置と前記ステージ吸着面との間に予め設定
   したステージ吸着開始位置まで、前記基板搬送ハンドを
   所定の速度で移動したのち、前記縦型ステージによる前
   記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の押付け距離だけ前記不干
   渉位置の反対側に予め設定した受渡し位置まで、前記基
   板搬送ハンドを前記速度よりも低速度で移動して、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を確認すると、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除したの
   ち、 前記受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反対側に
   予め設定した退避位置まで、前記基板搬送ハンドを移動
   することを特徴とする基板の受渡し方法。 ２、縦向きの基板を縦にして保持する縦型ステージから
   、前記基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板搬
   送ハンドへ、前記基板を縦にしたまま該基板の受渡しを
   行う基板の受渡し方法において、 前記縦型ステージのステージ吸着面よりも該縦型ステー
   ジ側に予め設定した退避位置まで、前記基板搬送ハンド
   を移動し、 前記退避位置と前記ステージ吸着面との間に予め設定し
   たハンド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記基
   板搬送ハンドを所定の速度で移動したのち、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の押付け距離だけ前記ハン
   ド吸着開始位置の反対側に予め設定した受渡し位置まで
   、前記基板搬送ハンドを前記速度よりも低速度で移動し
   て、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認すると
   、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を解除し、 前記ステージ吸着面と前記基板とが互いに接触すること
   なく対向する不干渉位置まで、前記基板搬送ハンドを移
   動することを特徴とする基板の受渡し方法。 ３、縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する
   基板搬送ハンドと、前記基板を縦にして保持する縦型ス
   テージとの間で、前記基板を縦にしたまま該基板の受渡
   しを行う基板の受渡し方法において、 前記基板搬送ハンドから前記縦型ステージに前記基板を
   受渡す場合には、 前記縦型ステージのステージ吸着面と前記基板とが互い
   に接触することなく対向する不干渉位置にまで、前記基
   板搬送ハンドを移動し、 前記不干渉位置と前記ステージ吸着面との間に予め設定
   したステージ吸着開始位置まで、前記基板搬送ハンドを
   所定の第１の速度で移動したのち、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の第１の押付け距離だけ前
   記不干渉位置の反対側に予め設定した第１の受渡し位置
   まで、前記基板搬送ハンドを前記第１の速度よりも低速
   度で移動して、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を確認すると、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除したの
   ち、 前記第１の受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反
   対側に予め設定した退避位置まで、前記基板搬送ハンド
   を移動し、 一方、前記縦型ステージから前記基板搬送ハンドに前記
   基板を受渡す場合には、 前記退避位置と前記第１の受渡し位置との間に予め設定
   したハンド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記
   基板搬送ハンドを所定の第２の速度で移動したのち、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始し、 前記ステージ吸着面から所定の第２の押付け距離だけ前
   記不干渉位置側に予め設定した第２の受渡し位置まで、
   前記基板搬送ハンドを前記第２の速度よりも低速度で移
   動して、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認すると
   、 前記縦型ステージによる前記基板の吸着を解除し、 前記不干渉位置まで、前記基板搬送ハンドを移動するこ
   とを特徴とする基板の受渡し方法。