JPH04109884A - 静電モータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、静電モータに関する。

従来の技術 従来、マイクロマシンニングにおけるアクチュエータを
有する装置としては種々のものが発案されている。その
第一の従来例として、第１０図に示すように、中央部に
設けられたロータ（回転子）１の回りにステータ電極（
固定子）２が取り囲むようにして配設されているものが
ある。この場合、周囲のステータ電極２に順次電圧が印
加されることにより、その静電引力によりロータ１が回
転をし、これにより動力を発生するものである。

また、その第二の従来例として、第１１図に示すように
、基板３上に短冊形状をした多数のステータ電極４が配
設され、絶縁膜５を介して、円筒状のロータ６が上部に
置かれている。

この場合、直線状に配列されたステータ１ｉ極４に順次
電圧を印加していくことにより、静電引力によりロータ
６がステータ電極４の表面上を転がり、これにより動力
を発生することができる。

さらに、その第三の従来例として、第１２図に示すよう
に、直線運動を直接取り出すために、インチウオーム（
尺取り虫）の形をしたアクチュエータがある。これは、
ガイドレール７上に置かれた移動可能な拡大機構８にピ
エゾ圧電素子９を取付けたものであり、これにより、そ
のピエゾ圧電素子９に適当に順次電圧を印加することに
より、拡大機構８に直線運動を発生させることができる
ものである。

発明が解決しようとする課題 第一の従来例の場合、ステータ電極１がロータ２の周囲
に配設されているため、これにより得られる駆動力は回
転運動である。従って、このような機構から直線方向の
力を取り出すためには、その回転運動を一旦直線運動に
変換する必要があり、このためその変換する機構が必要
となり装置が複雑化する。

第二の従来例の場合、円筒状のロータ６が転がる構造と
なっているため、直接、直線運動を取り出すことは可能
となるが、しかし、実際にはそのロータ６の上部に「負
荷」を乗せる荷台が必要になり、また、そのような荷台
を設けるためには軸受が必要となり、これにより装置全
体の構成が複雑化する恐れがある。

第三の従来例の場合、拡大機構８を直線状に推進させる
ためにピエゾ圧電素子９に電圧を印加させるためのケー
ブルが必要となり、その分、部品点数が増えこのケーブ
ル自体がムダな負荷となる。

この場合、マクロな大きさのアクチュエータならそのケ
ーブルもさほど問題とはならないが、μｍオーダーの大
きさを有するアクチュエータ（いわゆる、マイクロマシ
ン）では、電力供給のためのケーブルは荷重負荷が増加
するためほとんど実現不可能である。しかも、電力供給
用の架線、レール等を設けても、摩擦、摩耗、接触不良
などの点からほとんど実用に適していない。

課題を解決するための手段 請求項１記載の発明は、非直線な形状を有し弾性体から
なる伸縮可能なアクチュエータを少なくとも１個設けて
なる移動子を設け、この移動子を挾む移動方向に沿って
配列された多数のステータ電極によりなるガイドレール
を少なくとも２本配設し、前記移動子とこの移動子が載
置されている基板表面との間の摩擦係数が前記移動子を
移動させたい方向に小さくその反対方向に大きくなるよ
うに前記移動子の前記基板と接触する脚部を波状の溝に
形成した。

請求項２記載の発明は、非直線な形状を有し弾性体から
なる伸縮可能なアクチュエータを少なくとも１個連設し
てなる移動子を設け、この移動子を挾む移動方向に沿っ
て配列された多数のステー夕電極によりなるガイドレー
ルを少なくとも２本配設し、前記移動子とこの移動子が
載置されている基板表面との間の摩擦係数が前記移動子
を移動させたい方向に小さくその反対方向に大きくなる
ように前記基板の前記移動子の脚部と接触する面を波状
の溝に形成した。

請求項３記載の発明は、非直線な形状を有し弾性体から
なる伸縮可能なアクチュエータを少なくとも１個連設し
てなる移動子を設け、この移動子を挾む移動方向に沿っ
て配列された多数のステータ電極によりなるガイドレー
ルを少なくとも２本配設し、前記移動子とこの移動子が
載置されている基板表面との間の摩擦係数が前記移動子
を移動させたい方向に小さくその反対方向に大きくなる
ように前記移動子の前記基板と接触する脚部及び前記基
板の前記移動子の前記脚部と接触する面を波状の溝に形
成した。

作用 従って、移動子の脚部の溝が基板表面に対してその摩擦
係数が一方向のみ大きくなっているため、移動子を挾む
ステータ電極に一様の電圧を印加するだけでその移動子
のアクチュエータが伸縮して移動することができ、これ
により、従来のように多数の別個のステータ電極から電
圧を印加する電極を選択して順次印加していく必要がな
くなるためその動作回路が一段と簡素化され、しかも、
このような動作回路の簡素化に伴い移動子の移動範囲を
広くとることができるため、運動エネルギーの範囲を広
くとることができる。

実施例 本発明の第一の実施例を第１図ないし第４図に基づいて
説明する。まず、第１図（ａ）に示すように、移動子１
０は、パンタグラフ部１１と電極部１２と脚部１３を有
する１個のアクチュエータ１４により形成されている。

前記パンタグラフ部１１の対向する１組の頂点に前記電
極部１２が配設されており、もう１組の対向する頂点に
前記脚部１３が配設されている。第１図（Ｃ）は第１図
（ａ）のＢ−Ｂ断面形状を示し、第１図（ｂ）は第１図
（ａ）のＡ−Ａ断面形状を示すものであり、前記脚部１
３の裏面は波状（鋸歯状）に形成されている。その脚部
１３とこれに接触する基板１５との摩擦係数はａ方向に
は小さくｂ方向には大きくなっている。また、ここでは
、基板１５の表面にも鋸歯状の溝１５ａが形成されてお
り、これにより脚部１３の摩擦係数の方向依存性がさら
に高まるようになっている。なお、そのような鋸歯の形
状は脚部１３又は基板１５のどちらか一方にだけ形成す
るようにしてもよい。ただし、このようなどちらか一方
に形成するような場合には、方向依存性はないが、他方
の面を多少粗く形成し摩擦係数を高くするようにした方
がよい。

また、前記移動子１０を挾む両側には多数のステータ電
極１６が直線状に配列されてなるガイドレール１７が設
けられている。この場合、ステータ電極１６は、第１図
（ｂ）に示すように、移動子１０の厚みとほぼ等しい高
さをもつように形成されており、その移動方向Ｍへの長
さは前記移動子１０を動かしたい距離だけの長さだけ設
けられている。また、前記ステータ電極１６にはこれに
電圧を供給するためのリード線１８が接続されている。

前記移動子１０及び前記ステータ電極１６には、高濃度
に不純物をドーピングし比抵抗を低くした導電体となっ
ており、それらの表面にはステータ電極１６間が前記移
動子１０を介して短絡しないように絶縁膜（Ｓｉ○、）
が形成されている。

このような構成において、本装置の動作原理を第２図（
ａ）〜（Ｃ）に基づいて説明する。なお、図中、記号旦
はＣｏｍｐｒｅｓｓｉｏｎを示し電圧印加によりアクチ
ュエータが縮む場合を表わし、また、記号旦はＦ　ｒｅ
ｅを示し電圧を印加しない自由状態を表わすものとする
。

（ａ）は初期状態を示すものであり、ステータ電極１６
には電圧は印加されていない。

（ｂ）はステータ電極１６間に電圧を印加した場合を示
すものであり、これによりステータ電極１６間の静電容
量が増加するように移動子１０の電極部１２がステータ
電極１６の方向に引っ張られるため、その移動子１０は
縦方向に伸び、横方向に縮むことになる。この時、移動
子１０の図中右側の脚部１３はｂ方向に引っ張られ、移
動子１０の図中左側の脚１ｔ（１３はａ方向に引っ張ら
れることになるが、ｂ方向への摩擦係数は高いため右側
の脚部１３は動かず、ａ方向への摩擦係数は低いため左
側の脚部１３はそのａ方向に動くことになる。

（Ｃ）はステータ電極１６への電圧印加を止めた状態を
示すものであり、移動子１０は横方向（移動方向Ｍ）に
伸びもとの状態に復帰するが、この時、（ｂ）とは逆に
、摩擦係数の方向依存性により、右側の脚部１３はａ方
向に動くが、左側の脚部１３はｂ方向に動くことができ
ない。

以上のような（ａ）〜（ｃ）に示すようなシーケンスを
繰り返して行うことによレバ移動子１０はａ方向に進ん
でいくことになる。

次に、本装置の作製プロセスを第３図及び第４図に基づ
いて説明する。なお、第３図（ａ）〜（ｇ）は第１図の
Ａ−Ａ断面図を示し、第４図（ａ）〜（ｇ）は第１図の
Ｂ−Ｂ断面図を示すものである。

第３図（ａ）及び第４図（ａ）では、基板１５に（１０
０）面から（０１１）軸を中心に角度がずれた面をもつ
単結晶５ｉ（Ｃ−ｓｉ）を用いる。

そのずれの角度は鋸歯の傾斜角を決定するので、これを
最適化した角度とすればよく、通常の場合、１０°〜８
０°の範囲に設定する。次に、基板１５の表面を酸化さ
せ、この酸化によるＳｉ０．１９の膜を所望の鋸歯のピ
ッチのストライプ状のパターンにエツチングする。この
ストライプは、（０１１）方向に平行に形成する。なお
、このストライプは酸化膜だけでなく、Ｓｉ、Ｎ４、炭
素膜、その他のＳｉ異方性エツチングのエッチャントに
餠えられるものであればよい。次に、そのストライプを
エツチングマスクとして、ＫＯＨ水溶液、ヒドラジン、
ＦＤＰ　（エチレンジアミン−パイロカテコール−水）
等のＳｉ結晶軸異方性エツチングのエッチャントにより
Ｃ−３ｉをエツチングすることによって、その結晶面に
より鋸歯状の溝１５ａの断面形状が得られる。

第３図（ｂ）及び第４図（ｂ）では、Ｓｉｎ。

１９をバッフアートフッ酸（ＢＨＦ）等により除去した
後、Ｓｉ、Ｎ、２０．Ｓｉｎ、２１を積層する。なお、
Ｓｉｎ、２１は脚部１３と基板１５とを分離する犠牲層
となる。

第３図（ｃ）及び第４図（ｃ）では、Ｓｉｎ。

２１上にｐｏｌｙ−３ｉを積層し、さらに、エツチング
により脚部１３とリード線１８となる部分を形成する。

第３図（ｄ）及び第４図（ｄ）では、ｐｏｌｙ−３ｉの
上部にさらにＳｉｎ、２２を積層する。

これにより、アクチュエータ１４のパンタグラフ部１１
と脚部１３との接触及びステータ電極１６とリード線１
８との接触をとるためのコンタクトホール２３を形成す
る。なお、Ｓｉｎ、２２は基板１５とパンタグラフ部１
１とを分離する犠牲層となる。

第３図（ｅ）及び第４図（ｅ）では、ｐｏｌｙ−３ｉを
積層し、パンタグラフ部１１及びステータ電極１６の形
状にエツチングする。パンタグラフ部１１の膜厚方向へ
の剛性を高めるために、そのｐｏｌｙ−３ｉの膜厚は２
μｍ以上に積層する。

第３図（ｆ）及び第４図（ｆ）では、ＢＨＦにより、Ｓ
ｉｎ、２１．２２を除去する。これによリ、パンタグラ
フ部１１と脚部１３とは基板１５から分離され移動が可
能となる。

第３図（ｇ）及び第４図（ｇ）では、ｐｏｌｙ−３ｉに
より形成される移動子１０とステータ電極１６との表面
を酸化してＳｉｎ、の絶縁膜を形成する。これにより、
ステータ電極１６と移動子１０の電極部１２とが接触し
てステータ電極１６間が短絡し発熱により移動子１０が
破壊されるような現象をなくすことができる。

以上、第３図及び第４図（ａ）〜（ｇ）に示すようなプ
ロセスにより第１図（ｂ）に示すような装置を作製する
ことができる。

次に、本発明の第二の実施例を第５図ないし第７図に基
づいて説明する。ここでは、前述した第一の実施例の構
成に加え、パンタグラフ部１１の電極部１２の内側にも
新たにステータ電極を設けたものである。すなわち、第
５図（ａ）に示すように、移動子１０の電極部１２は外
側のステータ電極１６と内側のステータ電極２４との間
に挾まれる形で設けられ、また、そのパンタグラフ部ｌ
ｌは内側のステータ電極１６間に挾まれる形で設けられ
ている。

このような構成において、第６図に基づいて本装置の動
作説明を行う。なお、図中、記号旦はＣｏｍｐｒｅｓｓ
ｉｏｎを示し電圧印加によりアクチュエータが縮む場合
を表わし、また、記号旦はＦ　ｒｅｅを示し電圧を印加
しない自由状態を表わし、さらに、記号ＴはＴｅｎ５ｉ
ｏｎを示し内側のステータ電極２４に電圧を印加して伸
びた状態を示すものである。

（ａ）は、ステータ電極１６．２４に電圧の印加されて
いない初期状態を示すものである。

（ｂ）は、外側のステータ電極１６に電圧を印加した状
態を示し、これにより、移動子１０の電極部１２は外側
に引っ張られ縦方向に伸びる。この場合にも、第一の実
施例の第２図（ｂ）と同様な理由により、移動子１０の
脚部１３はｂ方向よりもａ方向への摩擦係数が小さいた
め、その移動子１０はａ方向へ移動する。

（Ｃ）は、外側のステータ電極１６への印加を止め、内
側のステータ電極２４に電圧を印加したものである。こ
れにより、電極部１２は内側のステータ電極２４に引っ
張られ縦方向に縮み、第一の実施例の第２図（ｃ）と同
様な理由により、摩擦係数の小さい脚部１３だけがａ方
向に移動する。

（ｄ）は、（ｂ）と同様に外側のステータ電極１６に電
圧を印加した状態を示すものである。これにより、摩擦
係数の小さい脚部１３がａ方向に移動することになる。

以上、（ａ）〜（ｄ）に示すようなシーケンスをくり返
して行うことにより移動子１０はａ方向に移動すること
になる。

移動子１０の１シーケンスの移動距離は移動子１０の左
右への伸び縮みの幅の差により決定する。

本実施例のその移動する幅の差は第一の実施例の移動の
幅の差よりも大きいために、■シーケンスの移動距離は
第一の実施例の時よりも大きくなる。

次に、本実施例の作製プロセスを第７図（ａ）〜（ｋ）
に基づいて説明する。なお、第７図は第５図のＡ−Ａ断
面を示すものである。

（ａ）は、第３図及び第４図の（ａ）〜（ｃ）と同様な
プロセスを経た状態を示すものである。

この場合、内側のステータ電極２４と接続されるｐｏｌ
ｙ−３ｉからなるリード線２５が形成されている。

（ｂ）は、層間絶縁膜Ｓｉ、Ｎ、２６を成膜しパターン
ニングを行うものであり、これにより、内側のステータ
電極２４のリード線２５が外側のステータ電極１６と短
絡しないような状態となる。

（ｃ）は、外側のステータ電極１６と接続されるｐｏｌ
ｙ−Ｓｉからなるリード線２７を成膜しパターンニング
を行うものである。

（ｄ）は、Ｓｉ０，２８を積層したものであり、これに
より、パンタグラフ部１１と電極部１３とが基板１５か
ら分離できるようになる。また、パンタグラフ部１１と
脚部１３とが接続されるようにコンタクトホール２９を
形成し、さらに、内側のステータ電極２４とリード線２
５とが接続されるようにコンタクトホール３０を形成す
る。

（ｅ）は、それらコンタクトホール２９，３０の設けら
れた表面部分にｐｏｌｙ−Ｓｉ３１の膜を約２μｍ以上
積層するものである。

（ｆ）は、このｐｏｌｙ−Ｓｉ３１の膜をパンタグラフ
部１１と電極部１２とステータ電極１６゜２４の形状に
それぞれエツチングしてパターンニングを行うものであ
る。

（ｇ）は、エツチングされた領域にＳｉ０．３２の膜を
積層する。

（ｈ）は、パンタグラフ部１１と電極部１２とを接続す
るために、Ｓｉｎ、３２にコンタクトホール３３を設け
る。

（１）は、コンタクトホール３３にｐｏｌｙ−８１３４
を積層し、パターンニングする。これにより、パンタグ
ラフ部１１と電極部１２とを接続することができる。

（Ｊンは、ＢＨＦにより５１０２３２の犠牲層を除去し
、これにより、移動子１０は基板１５から離れ自由に移
動することができる。

（ｋ）は、ステータ電極１６．２４の短絡を防止するた
めにｐｏｌｙ−３ｉ３４の表面を酸化し、その表面に絶
縁層Ｓｉｎ、３５を形成する。

以上、（ａ）〜（ｋ）に示すようなプロセスにより第５
図（ｂ）のような構造をもつ装置を作製することができ
る。

次に、本発明の第三の実施例を第８図及び第９図に基づ
いて説明する。これまで述べた２つの実施例はいずれも
ステータ電極１６．２４を直線状に配設することにより
移動子１０を直線的に運動させるものであったが、ここ
では直線ではなく円状に運動させるようにしたものであ
り、これにより回転モータを得ることができる。

すなわち、移動子１ｏを挾んで外側には円弧状をしたス
テータ電極３６が配設されており、また、そのステータ
電極３６の内側の中心部に円盤状をしたステータ電極３
７が配設されている。また、基板１５の表面には、摩擦
係数が一方向のみに大きい鋸首状の溝３８が円周状に形
成されている。

この溝３８の表面に４個の移動子１０が置かれている。

この移動子１ｏの脚部１３の裏面は鋸歯状に形成されて
おり、また、その一方の脚部１３は、アーム３９を介し
て、外側の円板４０に連設されている。

このような構成において、ステータ電極３６゜３７間に
電圧を印加、非印加を繰り返して行うことにより、移動
子１０は摩擦係数の少ない一方向のみへ回転運動をする
ことになり、これにより円板４０から回転力を取り出す
ことができる。

次に、基板１５上に溝３８を形成する方法について説明
する。第一の実施例及び第二の実施例では、単結晶Ｓ１
の結晶軸異方性エツチングにより鋸歯状の溝１５ａを形
成したが、ここでは溝を円周状に作らなければならない
ため、第一の実施例及び第二の実施例とは異なる方法で
溝３８を作る必要がある。以下、その溝３８の作製方法
について述べる。

（ａ）では、単結晶Ｓｉ基板（Ｃ−３ｉ）１５上にＳｉ
、Ｎ４４０（又はＳｉｎ、）、ｐｏｌｙ−８１４１、Ｓ
　ｉ　Ｏ，（又ハ７オｈ　Ｉ、ｉシスｈ）　４２を積層
する。

（ｂ）では、鋸歯状の溝のピッチでＳｉ０，４２に放射
状のストライプの穴４３をエツチングにより開ける。

（Ｃ）では、そのＳｉｎ、４２をエツチングのマスキン
グフィルムとしてポリシリコンをウェットエツチングす
る。そのエッチャントとしては、ＨＦ、ＨＮＯ，、ＣＨ
，Ｃ○○Ｈ１水の混合液を用いる。このエッチャントは
等方性のエツチングなので、ｐｏｌｙ−３ｉ４１はアン
ダーエッチされ、これによりテーパーが付く。なお、マ
スキングフィルムのパターンをエツチングしながら、ｐ
ｏｌｙ−３ｉ４１をエツチングするＲＩＥドライエツチ
ング、プラズマ等方性エツチング、ｗｅｔエツチング法
を用いても、テーパーをもった形状にすることができる
。

（ｄ）では、ＢＨＦによりＳｉｎ、４２を除去する。

（ｅ）では、ｐｏｌｙ−Ｓｉ４１の表面を酸化しＳｉｎ
、４４を形成する。

（ｆ）では、フォトレジスト４５のパターンをエツチン
グされた部分の半分が隠れるように形成する。

（ｇ）では、フォトレジスト４５のパターンにより、５
１０３４４を部分的にエツチングする。

（ｈ）では、（ｇ）で残ったＳｉｎ、４４をエツチング
のマスクにし、露出しているｐｏｌｙ−３ｉ４１をドラ
イエツチングする。

エツチングガスとしては、ｐｏｌｙ−３ｉ４１とＳ１０
，４４との選択比を大きくするために、例えば、次のよ
うなガス種と添加ガスとの組合せこのようなガス種を用
いることによって、ｐｏｌｙ−３ｉ４１とＳｉｎ、４４
との選択比が大きく、しかも、基板に対して垂直にエツ
チングすることができるため、ｐｏｌｙ−３ｉ４１のみ
を垂直にエツチングすることができる。

（ｉ）では、残った８１０．４４を除去する。

これにより、その残ったｐｏｌｙ−３ｉ４１の形状は、
その表面部分の摩擦係数がａ方向には小さくｂ方向には
大きい特性を示すものとなる。

これまでのプロセスは、第−及び第二の実施例と異なり
、Ｓｉ結晶軸の異方性エツチングを行っていないため、
どのような方向に対しても作製することが可能である。

従って、第８図に示すように、基板１５に形成される溝
３８は円周方向に鋸歯を放射状に形成することができる
。

（ｊ）では、そのｐｏｌｙ−３ｉ４１の表面にＳｉ、Ｎ
、４６、Ｓｉｎ、４７を順次積層する。

そして、これ以下のプロセスは、第二の実施例の第７図
（ａ）〜（ｋ）を順次実施していくことにより第８図の
ような回転モータを得ることができる。

なお、（ｅ）で酸化を行わず、（ｇ）においてＳｉｎ、
４４の代わりにフォトレジストを用いるようにしてもよ
い。ただし、ｐｏｌｙ−３ｉ４１との選択性を高めるた
めに、フォトレジスト４１のパターン形成後、温度１０
０〜２００’Ｃ１圧力が５〜６のチャンバー内で、３０
０μｍ以下の波長の紫外線を１０〜６０分照射した方が
よい。

発明の効果 本発明は、非直線な形状を有し弾性体からなる伸縮可能
なアクチュエータを少なくとも１個設けてなる移動子を
設け、この移動子を挾む移動方向に沿って配列された多
数のステータ電極によりなるガイドレールを少なくとも
２本配設し、前記移動子とこの移動子が載置されている
基板表面との間の摩擦係数が前記移動子を移動させたい
方向に小さくその反対方向に大きくなるように、前記移
動子の前記基板と接触する脚部を波状の溝に形成するか
、又は、前記基板の前記移動子の脚部と接触する面を波
状の溝に形成するか、又は、前記移動子の前記基板と接
触する脚部及び前記基板の前記移動子の前記脚部と接触
する面を波状の溝に形成するようにしたので、それら移
動子の脚部の溝が基板表面に対してその摩擦係数が一方
向のみ大きくなるように設定することによって、移動子
を挾むステータ電極に一様の電圧を印加するだけでその
移動子のアクチュエータが伸縮して移動することができ
、これにより、従来のように多数の別個のステータ電極
から電圧を印加する電極を選択して順次印加していく必
要がなくなるためその動作回路を一段と簡素化したもの
とすることが可能となり、また、そのような動作回路の
簡素化に伴って移動その移動範囲を広くとることができ
るため、十分大きな運動エネルギーを取り出す機構をも
つ装置を提供することが可能となり、さらに、移動子の
脚部を波状に形成して一方向に移動できるようにしたこ
とにより架線等の電気的接触も不要となり、さらにまた
、そのような構成で直進運動のみならず回転運動を取り
出すモータを実現することができるため、軸受けや車軸
等の複雑な機構が不要な簡素化した構成の装置を得るこ
とができるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一の実施例を示す構成図、第２図は
その装置の動作原理を示す説明図、第３図及び第４図は
本装置の作製プロセスを示す工程図、第５図は本発明の
第二の実施例を示す構成図、第６図はその装置の動作原
理を示す説明図、第７図は本装置の作製プロセスを示す
工程図、第８図は本発明の第三の実施例を示す構成図、
第９図はその装置の基板部の作製プロセスを示す工程図
、第１０図は第一の従来例を示す構成図、第１１図は第
二の従来例を示す構成図、第１２図は第三の従来例を示
す構成図である。 １０・・・移動子、１１・・・アクチュエータ、１３・
・・脚部、１５・・・基板、 １５ａ・・・溝、 電極、１７・・・ガイドレール、２４゜ステータ電極、
３８・・・溝 ６・・・ステータ ３６、　３７・・・ Ｊ、Ｉ　　図 出 願 人 株式会社 リ コ 図（割） １Ｌｌｚ ｔ」 ６図（慎） −篤 ７図（幀３） 」 め 図 Ｎ −−マ ］

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非直線な形状を有し弾性体からなる伸縮可能なアク
   チュエータを少なくとも１個設けてなる移動子を設け、
   この移動子を挾む移動方向に沿って配列された多数のス
   テータ電極によりなるガイドレールを少なくとも２本配
   設し、前記移動子とこの移動子が載置されている基板表
   面との間の摩擦係数が前記移動子を移動させたい方向に
   小さくその反対方向に大きくなるように前記移動子の前
   記基板と接触する脚部を波状の溝に形成したことを特徴
   とする静電モータ。 ２、非直線な形状を有し弾性体からなる伸縮可能なアク
   チュエータを少なくとも１個連設してなる移動子を設け
   、この移動子を挾む移動方向に沿って配列された多数の
   ステータ電極によりなるガイドレールを少なくとも２本
   配設し、前記移動子とこの移動子が載置されている基板
   表面との間の摩擦係数が前記移動子を移動させたい方向
   に小さくその反対方向に大きくなるように前記基板の前
   記移動子の脚部と接触する面を波状の溝に形成したこと
   を特徴とする静電モータ。 ３、非直線な形状を有し弾性体からなる伸縮可能なアク
   チュエータを少なくとも１個連設してなる移動子を設け
   、この移動子を挾む移動方向に沿って配列された多数の
   ステータ電極によりなるガイドレールを少なくとも２本
   配設し、前記移動子とこの移動子が載置されている基板
   表面との間の摩擦係数が前記移動子を移動させたい方向
   に小さくその反対方向に大きくなるように前記移動子の
   前記基板と接触する脚部及び前記基板の前記移動子の前
   記脚部と接触する面を波状の溝に形成したことを特徴と
   する静電モータ。