JPH04110457A

JPH04110457A - 成膜装置

Info

Publication number: JPH04110457A
Application number: JP2227562A
Authority: JP
Inventors: Masae Fukaya; 深谷　正栄; Yuichiro Doi; 祐一郎土居
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1990-08-29
Filing date: 1990-08-29
Publication date: 1992-04-10
Anticipated expiration: 2017-05-13
Also published as: JP3282181B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は例えば光ディスク等の記録媒体の製造に用いら
れる成膜装置ｉこ係わるっ〔発明の概要〕本発明は、マスクを被成膜基板ｊ、こ当接させた状態で
パレット上ｊこ配置してその基板面；、こ成膜処理がな
される成膜装置において、パｌ／　ソトに対する被成膜
基板とマスクとを着脱する着脱手段が設けられ、マスク
を磁性体によって構成し、一方パレットには、マスクを
磁気的に吸着保持する第１のマグネットが配置される。

そして、着脱手段としては、磁性マスクを磁気的に吸着
保持する第２のマグネットが背部に配置された磁性マス
クの配置面を有するホルダーと、この配置面に磁性マス
クを介して被成膜基板を吸引する真空吸引手段とが設（
・ブられる。第２のマクネッｌ、　（ま、磁性マスクの
配置面に対する吸引力をパレットに対する第１のマグネ
ットによる吸引力に比し犬なる第１の吸弓力と小なる第
２の吸引力とに調整する調整手段が設けられる。このよ
うな構成による成膜装置によってマスクを被成膜基板の
所定位置に配置した状態でこれと共にパレッｌ’　＋こ
対して着脱するようにして作業性の向上をはかることが
できるようにするものである。

〔従来の技術〕

通常、光ディスク等の記録媒体は、蒸着法あるいはスパ
ックリング法等によってその記録薄膜例えば多層膜によ
る記録膜を基板上に被着して記録あるいは再生の機能膜
を形成させる。この薄膜形成において、この媒体の環境
に対する信頼性を確保する上で基板全面に薄膜形成を行
わずにその中心部及び外周部をマスクで遮蔽して基板上
に蒸着あるいはスパフク等によってリング状に薄膜パタ
ーンの形成を行うことが屡々行われる。

特に書換え可能な光磁気ディスクにおいては、酸化し易
い遷移金属−希土類非晶質合金をその機能膜として用い
るために、この中心部及び外周の保護は重要となる。

一方、光ディスクに機能膜等の薄膜を形成する場合、生
産性の上からバレントと呼称される搬送治具に多数枚の
基板を取付け、このバｌノットを蒸着あるいはスパック
リングをなず処理室例えば真空室に搬入する。この場合
、パレットは回転するようになっているものもあるが、
その光ディスクの基板すなわち被成膜基板は、パレット
上におがれ、各被成膜基板上にその中心部及び外周部の
マスクが被せられるものである。

一般にこのパレットは、はぼ垂直方向（重力方向）に立
てられ、その被成膜基板表面に塵埃等が付着する確率を
減じるようになされている。このため被成膜基板と中心
部及び外周部のマスクは機械的なロック機構あるいは磁
石による吸引力でバレントに保持するようになされてい
る。そして、このようなパレ７）に対する成膜前の被成
膜基板の装着あるいは成膜処理後の基板の離脱は次のよ
うな方法が一般に採られている。

まず、基板面に配置された中心部及び外周部のマスクの
みを取去る。このとき、基板のパレットから落下するの
を防止するためパレットには、マスクがとり除かれた状
態の基板をパ１ノットに保持させるだめのロック機構ま
たは真空吸引手段等の基板保持手段が設けられている。

このようにしてマスクが排除されて後、基板がパレット
から離脱される。すなわち、マスクと基板は別々のハン
ドリング機構でその離脱が行われる。また、パレットに
対する被成膜基板及びマスクの取代けは、上述したよう
にこのパレット」−において成膜処理を行って後にその
マスク及び基板を取去ってその後に、他の成膜のなされ
ていない被成膜基板を、パレット上に持ち来して、これ
を上述したパレットに設けた基板の保持手段で保持する
。次に、マスクを同様にパレットに装着する。このよう
な動作を繰り返し行って順次成膜すなわち機能膜の形成
をなして目的とする光ディスク等の記録媒体の類１告が
行われる。

このように通常の成膜装置においては、パレットに対し
てここにその基板と被成膜基板とこれに対するマスクの
取代（）、取外しをそれぞれ独立のハンドリング機構に
よって行うものであり、したがってパレットにおいても
、側音をそれぞれ装脱自在に保持するだめの保持手段を
設ける必要がある。したがってパレッ１−に対する装Ｍ
離脱には時間が掛り生産性の向」二が明害され、またそ
の機構が複雑であることから、ハンドリング機構スが多
く発生し、信頼性の向」二と稼働率の向上を阻害してい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、上述した被成膜装置において、その構成の簡
略化、動作の簡素化をはかって作業性の向」二と信頼性
の向」二をはかることをユの目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、第１図Ａ−Ｃに本発肋装首の各動作部での断
面図を示し、第２図にパレットの一半部の断面図を示す
ように、マスク（］）を被成膜基板（２）の基板面（２
ａ）に当接させた状態でバｌ／　ツ）　（３）上に配設
して基板面（２ａ）に成膜処理がなされる成膜装置にお
いて、パレッＩ−（３）に対する被成膜基板（２）とマ
スク（］）とを着脱する着脱手段（４）が設けられる。

そして、マスク（］）は磁性体によって構成する。

また、パレット（３）には、マスク（１）を磁気的に吸
着保持する第１のマグネッｌ−（５）が配置される。

また、着脱手段（４）は、磁性マスク（１）を磁気的に
吸着保持する第２のマグネット（６）が背部に配置され
た磁性マスク（］）の配置面（７ａ）を有するホルダー
（７）と、この配置面（７ａ）に磁性マスク（１）を介
して被成膜基板（２）を吸引する真空吸引手段（８）を
設けてなる。

この第２のマグネット（６）には、磁性マスク（１）に
対するその配置面（７ａ）での吸引力をパレット（３）
に対する第１のマグネット（５）による吸引力に比し犬
なる第１の吸引力と小なる第２の吸引力とを調整し得る
調整手段（９）が設けられる。

〔作用〕

上述の本発明構成によれば、ホルダー（７）の配置面（
７ａ）に第２のマグネッｌ−（６）を上述した第１の吸
引力とし、かつ真空吸引手段（８）による吸引力によっ
て磁性マスク（１）とこれの上から成膜を行おうとする
被成膜基板（２）を吸引する第１図Ａに示す第１の態様
と、ホルダー（７）をパ１ノット（３）と対向する位置
に持ち来して第２のマグネン）（６）を上述の第２の吸
引力に調整すると共に上述の真空吸引力を解除して、パ
レッｌ−（３）の第１のマグネット（５）によって磁性
マスク（１）をパレッｌ−（３）に被成膜基板（２）を
挟み込んでこの基板（２）と共に吸着保持させる第１図
Ｃに示す第２の態様と、第２のマグネット（６）の吸引
力を第ｆの吸引力にすると共に、真空吸引力を作用させ
ることによって被成膜基板（２）と磁性マスク（１）と
をホルダー（７）に吸引移行させてパレット（３）から
の離脱を行う第１図已に示す第３の態様と、ホルダー（
７）を真空吸引手段（８）による吸引力を解除して基板
（２）をホルダー（７）より離脱させる第４の態様と、
ホルダー（７）の第２のマグネット（６）の吸引力を第
２の吸引力とすることによって磁性マスク（１）をホル
ダー（７）から離脱させ得る第５の態様とを採ることが
できる。

このような各態様を採ることによって共通の着脱手段（
４）にマスク（１）と被成膜基板（２）とを同時にパレ
ット（３）に対し着脱することができるし、さらにパレ
ット（３）においては、１つのマグネットすなわち第１
のマグネット（５）によって被成膜基板（２）をも保持
することができるようにしたので、その構成の簡略化と
動作の簡素化がはかられ、したがって作業時間の短縮化
したがって生産性の向」二と、さらにハンドリング時の
基板の破損、成膜の破損等が回避され信頼性の高い成膜
を行うことができる、。

〔実施例〕

第１図及び第２図を参照してさらに本発明の一実施例を
詳細に説明する。

本発明においては、マスク（１）をステンレス等の磁性
材によって構成する。このマスク（１）は中心マスク（
ＩＣ）と外周マスク（ＩＳ）とを有してなる。中心マス
ク（ＩＣ）は例えば断面Ｔ字型をなし中心部に突起（ｌ
ｃ、）　　が設けられ、その周縁に円形フランジ部（ｌ
ｃ２）　　が一体に有してなる。フランジ部＜ＩＣ２＞
　　はその相対向する主面（ｌｃａ）　　及び（ＩＣｂ
）　　がそれぞれ平行平坦面に形成されろ。外周マスク
（ＩＳ）は口形リング状の例えば断面口字状に形成され
中心マスク（ＩＣ）のフランジ部（ｌｃ２）　　に対応
して両生面（ｌｓａ）及び（ＩＳｂ）　　がそれぞれフ
ランジ部（ｌｃ２）　　と同一の厚さをなしかつフラン
ジ部（ＩＣ２＞　　の各主面（ＩＣａ）及び（ＩＣｂ）
　　とそれぞれ同一平面を形成、シ得る平坦面を形成す
る。

着脱手段（４）は、マスク（１）が配置される平坦な配
置面（７ａ）を有する例えばステンレス等。つ磁１生体
よりなる。この配置面（７ａ）の背部ｊこは例え：よ゛
永久磁石による第２のマグネット（６）が配置され、−
の第２のマグネット（６）にはこれの配置面（７，ｊ　
ｌごおける磁性体すなわぢマスク（］）の吸引力を調整
する調整手段（９）が設けられる。

この調整手段（９）；ま、例えば第１図Ｃに示すように
例えはエアンリンダ構成を採ｊつ、圧縮空気■供給及び
解除によって第２のマグネット（６）を取着したピスト
ン（９ａ）を配置面（７）に向って近接ないしは離間さ
せるようにして配置面（７ａ）における第２のマグネッ
ト（６）の実質的磁気的吸引力の調整を行うことができ
るようにし得る３、一方、ボルダ−（７）の配置面（７ａ）に臨んで真空吸
引手段（８）を設ける。３二の吸引手段（８）は外端が
真空ポンプ（図示せず）に連結された吸引管の吸引口（
８ａ）が配置面（７ａ）の夕）面に臨むように設けられ
、第２のマグネｙ　ｌ・（６）によって配置面（７ａ）
上に、マスク（ＩＩ）の中心マスク（ＩＣ）及び外周マ
スク（ＩＳ）がそれぞれ吸引された状態で被成膜基板（
２）をこれの−ヒにすなわぢ各主面（Ｉ　Ｃ＋））　　
及び（ＩＳｂ）　　上に乗せたとき、この吸引手段（８
）によって基板（２）と配置面（７ａ）間の空間を負圧
にして基板（２）をマスク（１）に向って吸着保持し得
るようになされる。この場合、被成膜基板（２）の中心
孔（２ｈ’１が中心マスク（ＩＣ）の間柱突起＜ＩＣ，
）　　に嵌合するようになされる。

この着脱手段（４）は、パレ：／）（３）に対して第１
図、・へ、Ｂ及びＣに示すように、順次その位置を離間
、近接するように移動可能に構成される。

一方、パｌ／ツｌ−（３）には、第１のマグネット（５
）が設けられる。この第１のマグネット（５）は、第２
図に示すように中心マスク（ＩＣ）を吸引する中心マグ
ネソｈ（５ｃ）と、外周マスク（１ｓ）を吸引する外周
マクネン１１５ｓ）とを有し、それぞれとめねじ（１６
）によってパレ７１・（３）に取着されマグネットホル
ダー（１５Ｃ）　　及び（１５Ｓ）ｊ、こよって所定位
置、すなわちパ１／　ン）　（３：ｌの中心部と外周部
とに１配役されろ。

このような構成によって、パレット（１）に対する被成
膜基板（２）の着脱操作について説明する。この場合、
まず初期の状態においてバレ７）（３）の所定部に第１
のマグネット（５）によってマスク０）がすなわち中心
マスク（ＩＣ）と外周マスク（ＩＳ）が、それぞれ所定
位置に配置される。この場合、まず着脱手段（４）がバ
レンｌ−（３）側に近つき図示しなし）がパｌ／　ソ）
（３）ｊ二のマスク（１）をそのホルダー（７）の配置
面（７ａ）に第１の吸引力状態とされてし）る第２のマ
グネット（６）によって吸引させる。この場合、第２の
マグ不ン）・（６）は、配置面（７ａ）側に近接する位
置に界１整手段（９）によって持ぢ来され、第１の吸引
力が与えられるようにしてマスク（］）の吸引を行う。

次に、このマスク（」）を吸引したポルター（７）すな
わち着脱手段（４）を、第１図へに示ずパレ７１・（３
）から離間した所定位置に持ち来し、この状態で被成膜
基板（２）をマスク（コ）」−に、その中心マスク（Ｉ
Ｃ）に被成膜基板（２）の中心孔（２ＩＩ　）を嵌合さ
ぜると共にリング状の外周マスク（ＩＳ）内に、その基
板面（２ａ）が中心マスク（ＩＣ）及び外周マスク（Ｉ
Ｓ）の各上面（ｌｃｂ）及び（ｌｓｂ）　　上に当接さ
せるように載置し、この基板（２）を吸引手段（８）に
よって吸引保持する第１の態様（第１図△）とする。

このようにしてホルダー（７）の配置面（７ａ）上にマ
スク（」）及びこれの上に被成膜基板（２）が載置され
た着脱手段（４）を、バ１／ツト（３）の面に持来し、
吸引手段（８）の真空ポンプの動作を停止して基板（２
）と配置面（７ａ）間の空間を例えは大気圧程度とし、
さらに調整手段（９）においてそのシリンダー内の空気
を排除してピストンを後退させる。つまり第２のマグネ
ット（６）を後退させて配置面（７ａ）におけるマスク
（１）に対する吸引力を弱めたすなわち第２の吸引力例
えば吸引力が零の状態にする。このようにすることによ
って第１のマグネット（５：ｌが支配的にマスク（１）
に作用するようにし、基板（２）を挟み込んだ状態で、
つまりマスク（１）と基板（２）とを共にパ１ツノ＋−
（３）に保持させる第２の態様（第１図Ｂ）とする。

このようにしてパｌ／ント（３）に基板（２）をマスク
（１）と共に保持させて後、保持着脱手段（４）をパレ
ｙ　ｔ・（３）から離間させる。

一方、バレンｌ−（３）上にマスク（」〕が所定位置に
配置されて保持された被成膜基Ｖｊ、（２）は、バレン
１．　ｉこよって例えばスパッタないしは真空蒸着によ
って成膜がなされる成膜処理部に搬送されてここにおい
て基板（２）に対しマスク（１）によって遮才゛うれた
所定のパクーンの成膜が施されて、再び第１図Ｃに示す
位置に持ち来される。

この状態で再び着脱手段（４）がパｌ／　ン）　（３）
に近づくようになされ、調整手段（８）のシリンダー内
に空気が供給されピストン（９ａ）が配置面（７ａ）側
に向って押し出されて第２のマグネット（６）が第１の
マグネット（５）の吸引力に勝つ大きい第１の吸引力と
され、これによってマク、り（１）をバｌノット（３）
イ汚離脱させて配置面（７ａ）側に吸引する。このとき
それと共こ吸引手段（９）の真空ポンプを作用させて吸
引口（８ａ）から吸引し、配置面（７ａ）と基板（２）
間の空間を可び負圧にして基板（２）の吸引をなし、着
脱手段をパｌ／ット（３）から離間させた第１図Ｂに示
す第３の態様とする。このようにしてマスク（１）及び
基板（２）をホルダー（７）の配置面（７ａ）　ｊ：に
保持した着脱手段（４）を、例えば第１図Ａに示す位置
に持ぢ来して吸引口（８ａ）からの吸引を停止し、基板
（２）を他のロポ７）によって着脱手段（４）から取り
はずして他の所定位置に搬送させろ第４の態様と、調整
手段（９）によって上述した第２の吸引力として、この
マスク（］）をロボ７１’ｉこよってとりはずす第５の
態様を採る。

尚、上述した例においては、第１及び第２のマグネット
（５）及び（６）が永久マグネットである場合について
説明したが、これらを電磁コイルとすることによって例
えば第２のマグネット（５）に対するその通電の制御に
よって第１の吸引力と第２の吸弓力を得るようにして調
整手段（９）を構成することもできる。

その他、」二連した例に限らず種々の変形変更をなし得
る。

〔発明の効果〕

上述したように本発明構成によれば、共通の着脱手段（
４）によってマスク（」）と被成膜基板（２）とをパレ
ット（３）に対し同時に着脱することができるようにし
、さらにパレット（３）においては、第１のマグネット
（５）によって被成膜基板（２）をも保持することがで
きるようにしたのでその構成の簡略化と動作の簡素化が
はかられてしたがって作業時間の短縮化したがって生産
性の向上と、さらに信頼性の向上ずなわぢハンドリング
時の基板の破損、成膜の破損等が回避され信頼性の高い
成膜を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ−Ｃは本発明装置の一例の各動作部ての路線的
断面図、第２図はそのパレｙ　’ｌ・の−半部の断面図
である。（１）はマスク、（２）は被成膜基板、（３）はパレッ
ト、（４）は着脱手段、（５）及び（６）は第１及び第
２のマグネット、（７）はホルダー、（７ａ）は配置面
、（８）は吸引手段、（９）は調整手段である。代　　理　　人松　　隈　　秀　　盛

Claims

【特許請求の範囲】　マスクを被成膜基板面に当接させた状態でパレット上
に配置して上記基板面に成膜処理がなされる成膜装置に
おいて、上記パレットに対する上記被成膜基板と上記マスクとを
着脱する着脱手段が設けられ、上記マスクは磁性体よりなり、上記パレットには、上記マスクを磁気的に吸着保持する
第１のマグネットが配置され、上記着脱手段は、上記磁性マスクを磁気的に吸着保持す
る第２のマグネットが背部に配置された磁性マスクの配
置面を有するホルダーと、この配置面に上記磁性マスク
を介して上記被成膜基板を吸引する真空吸引手段とを有
し、上記第２のマグネットは、上記磁性マスクに対する上記
磁性マスクの配置面における吸引力を、上記パレットに
対する上記第１のマグネットによる吸引力に比し大なる
第１の吸引力と小となる第２の吸引力とに調整し得る調
整手段が設けられて成ることを特徴とする成膜装置。