JPH0944914A - ディスク脱着装置 - Google Patents
ディスク脱着装置Info
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- JPH0944914A JPH0944914A JP19226495A JP19226495A JPH0944914A JP H0944914 A JPH0944914 A JP H0944914A JP 19226495 A JP19226495 A JP 19226495A JP 19226495 A JP19226495 A JP 19226495A JP H0944914 A JPH0944914 A JP H0944914A
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- disc
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディスク基板上に薄膜層を成膜する際、マス
ク材の表面からの剥離物のディスク基板への付着量が少
なくて済むディスク脱着装置を提供する。 【解決手段】 本発明のディスク脱着装置は、マスク材
によって一部がマスクされたディスク基板をパレットに
取り付けた上でディスク基板に薄膜層を成膜することに
よってディスク状記録媒体を製造する際に、マスク材及
びディスク基板のパレットへの取り付け、並びにマスク
材及びディスク基板のパレットからの取り外しに使用さ
れるものであり、上記マスク材を真空吸着によって保持
する真空吸着装置を備えていることを特徴としている。
ク材の表面からの剥離物のディスク基板への付着量が少
なくて済むディスク脱着装置を提供する。 【解決手段】 本発明のディスク脱着装置は、マスク材
によって一部がマスクされたディスク基板をパレットに
取り付けた上でディスク基板に薄膜層を成膜することに
よってディスク状記録媒体を製造する際に、マスク材及
びディスク基板のパレットへの取り付け、並びにマスク
材及びディスク基板のパレットからの取り外しに使用さ
れるものであり、上記マスク材を真空吸着によって保持
する真空吸着装置を備えていることを特徴としている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスク等
のディスク状記録媒体を製造する際に、マスク材及びデ
ィスク基板のパレットへの取り付け、並びにマスク材及
びディスク基板のパレットからの取り外しに使用される
ディスク脱着装置に関する。
のディスク状記録媒体を製造する際に、マスク材及びデ
ィスク基板のパレットへの取り付け、並びにマスク材及
びディスク基板のパレットからの取り外しに使用される
ディスク脱着装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスク、光磁気ディスク又は磁気デ
ィスク等のようなディスク状記録媒体は、大量の情報を
記録することが可能な円盤状の記録媒体であり、ディス
ク基板上に記録層等となる薄膜層が成膜されて構成され
る。
ィスク等のようなディスク状記録媒体は、大量の情報を
記録することが可能な円盤状の記録媒体であり、ディス
ク基板上に記録層等となる薄膜層が成膜されて構成され
る。
【0003】このようなディスク状記録媒体を製造する
際は、先ず、複数のディスク基板を、薄膜層の成膜時に
ディスク基板を支持するためのパレットに取り付ける。
このとき、図5に示すように、パレット100には、デ
ィスク基板101の落下の防止、及びディスク基板10
1の不要な部分への成膜の防止を目的として、ディスク
基板101と共にマスク材102が取り付けられる。す
なわち、ディスク基板101は、マスク材102によっ
て一部がマスクされた状態でパレット100に取り付け
られる。ここで、マスク材102には、ディスク基板1
01の外周部分を覆うように配されるアウターマスク1
02aと、ディスク基板101の内周部分を覆うように
配されるインナーマスク102bとがある。
際は、先ず、複数のディスク基板を、薄膜層の成膜時に
ディスク基板を支持するためのパレットに取り付ける。
このとき、図5に示すように、パレット100には、デ
ィスク基板101の落下の防止、及びディスク基板10
1の不要な部分への成膜の防止を目的として、ディスク
基板101と共にマスク材102が取り付けられる。す
なわち、ディスク基板101は、マスク材102によっ
て一部がマスクされた状態でパレット100に取り付け
られる。ここで、マスク材102には、ディスク基板1
01の外周部分を覆うように配されるアウターマスク1
02aと、ディスク基板101の内周部分を覆うように
配されるインナーマスク102bとがある。
【0004】その後、マスク材102によって一部がマ
スクされたディスク基板101が取り付けられたパレッ
ト100を成膜室へ入れて、ディスク基板101上に薄
膜層を成膜する。ここで、通常、薄膜層は複数の薄膜か
ら構成されるので、ディスク基板101が取り付けられ
たパレット100は、複数の成膜室を経ることとなる。
このとき、当然のことながら、マスク材102の表面に
も薄膜層が成膜される。
スクされたディスク基板101が取り付けられたパレッ
ト100を成膜室へ入れて、ディスク基板101上に薄
膜層を成膜する。ここで、通常、薄膜層は複数の薄膜か
ら構成されるので、ディスク基板101が取り付けられ
たパレット100は、複数の成膜室を経ることとなる。
このとき、当然のことながら、マスク材102の表面に
も薄膜層が成膜される。
【0005】そして、薄膜層の成膜が終了したら、ディ
スク基板101が取り付けられたパレット100を成膜
室から取り出し、パレット100からディスク基板10
1を取り外す。このとき、マスク材102もディスク基
板101と共にパレット100から取り外される。
スク基板101が取り付けられたパレット100を成膜
室から取り出し、パレット100からディスク基板10
1を取り外す。このとき、マスク材102もディスク基
板101と共にパレット100から取り外される。
【0006】以上の工程により、ディスク基板101へ
の薄膜層の成膜が完了する。ここで、マスク材102
は、成膜済みのディスク基板101から取り外され、新
たなディスク基板の薄膜層の成膜に使用される。
の薄膜層の成膜が完了する。ここで、マスク材102
は、成膜済みのディスク基板101から取り外され、新
たなディスク基板の薄膜層の成膜に使用される。
【0007】ところで、以上のようにディスク基板上に
薄膜層を成膜する際には、塵や埃等のダストを除去する
ことが大きな課題となっている。すなわち、薄膜層の成
膜前のディスク基板にダストが付着していると、ダスト
に遮られた部分には薄膜層が成膜されず、この部分にピ
ンホールが生じてエラーとなってしまう。あるいは、薄
膜層の成膜後のディスク基板にダストが付着すると、こ
のダストが記録再生時のエラーの原因となってしまう。
このように、ディスク基板上に薄膜層を成膜してディス
ク状記録媒体を作製する際には、ディスク状記録媒体の
エラーレートを低減するために、薄膜層の成膜時におけ
るダストを除去することが重要となっている。
薄膜層を成膜する際には、塵や埃等のダストを除去する
ことが大きな課題となっている。すなわち、薄膜層の成
膜前のディスク基板にダストが付着していると、ダスト
に遮られた部分には薄膜層が成膜されず、この部分にピ
ンホールが生じてエラーとなってしまう。あるいは、薄
膜層の成膜後のディスク基板にダストが付着すると、こ
のダストが記録再生時のエラーの原因となってしまう。
このように、ディスク基板上に薄膜層を成膜してディス
ク状記録媒体を作製する際には、ディスク状記録媒体の
エラーレートを低減するために、薄膜層の成膜時におけ
るダストを除去することが重要となっている。
【0008】そこで、従来は、薄膜層の成膜時における
ダストの発生を防止するために、薄膜層の成膜時におけ
るディスク基板の取り扱いを、ドライクリーンルーム内
で、人手を介することなく、ディスク脱着装置を用いて
自動的に行うようにしている。すなわち、従来は、ディ
スク脱着装置により、自動的に成膜前のディスク基板を
受け取ってマスク材と共にディスク基板をパレットに取
り付けるとともに、自動的に成膜後のディスク基板をマ
スク材と共にパレットから取り外すようにしている。こ
こで、通常、ディスク脱着装置によるマスク材の取り付
け及び取り外しは、ディスク脱着装置に備えられた電磁
石によって行われる。
ダストの発生を防止するために、薄膜層の成膜時におけ
るディスク基板の取り扱いを、ドライクリーンルーム内
で、人手を介することなく、ディスク脱着装置を用いて
自動的に行うようにしている。すなわち、従来は、ディ
スク脱着装置により、自動的に成膜前のディスク基板を
受け取ってマスク材と共にディスク基板をパレットに取
り付けるとともに、自動的に成膜後のディスク基板をマ
スク材と共にパレットから取り外すようにしている。こ
こで、通常、ディスク脱着装置によるマスク材の取り付
け及び取り外しは、ディスク脱着装置に備えられた電磁
石によって行われる。
【0009】このように、薄膜層の成膜時におけるディ
スク基板の取り扱いをドライクリーンルーム内でディス
ク脱着装置を用いて自動的に行うことにより、薄膜層の
成膜時におけるディスク基板へのダストの付着は大幅に
減少し、室内のダストや作業者から発生するダスト等を
原因とするエラーを少なくすることが可能となってい
る。
スク基板の取り扱いをドライクリーンルーム内でディス
ク脱着装置を用いて自動的に行うことにより、薄膜層の
成膜時におけるディスク基板へのダストの付着は大幅に
減少し、室内のダストや作業者から発生するダスト等を
原因とするエラーを少なくすることが可能となってい
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ディスク基
板に薄膜層を成膜する際、ディスク基板にはマスク材が
取り付けられており、このマスク材の表面にも薄膜層が
成膜される。ここで、マスク材はディスク基板上への薄
膜層の成膜に繰り返し使用されるので、マスク材の表面
に成膜される薄膜層の膜厚は、だんたんと厚くなってい
く。
板に薄膜層を成膜する際、ディスク基板にはマスク材が
取り付けられており、このマスク材の表面にも薄膜層が
成膜される。ここで、マスク材はディスク基板上への薄
膜層の成膜に繰り返し使用されるので、マスク材の表面
に成膜される薄膜層の膜厚は、だんたんと厚くなってい
く。
【0011】そして、マスク材の表面に成膜された薄膜
層の膜厚が厚くなると、マスク材の取り付けや取り外し
のとき等に、ディスク脱着装置とマスク材との接触によ
り、成膜物が剥離しやすくなってくる。そして、このよ
うにマスク材の表面から剥離した剥離物はダストとな
り、このような剥離物がディスク基板上に付着すると、
上述したように、製造されたディスク状記録媒体のエラ
ーの原因となってしまう。
層の膜厚が厚くなると、マスク材の取り付けや取り外し
のとき等に、ディスク脱着装置とマスク材との接触によ
り、成膜物が剥離しやすくなってくる。そして、このよ
うにマスク材の表面から剥離した剥離物はダストとな
り、このような剥離物がディスク基板上に付着すると、
上述したように、製造されたディスク状記録媒体のエラ
ーの原因となってしまう。
【0012】すなわち、従来のディスク脱着装置を用い
たときには、マスク材を繰り返し使用するに従って、マ
スク材の表面から成膜物が剥離しやすくなり、このよう
な剥離物からなるダストがディスク基板上に付着してし
まっていた。
たときには、マスク材を繰り返し使用するに従って、マ
スク材の表面から成膜物が剥離しやすくなり、このよう
な剥離物からなるダストがディスク基板上に付着してし
まっていた。
【0013】従来、このような問題が生じた場合、マス
ク材を新しいものと交換することによって対処してお
り、成膜物がたまったマスク材は再生処理、すなわちマ
スク材の表面に成膜された成膜物の除去処理を施した上
で再使用するようにしている。しかし、このような従来
の方法では、マスク材に対する再生処理を頻繁に行う必
要があるためランニングコストが膨大なものとなってお
り、ディスク状記録媒体の製造コストの増大を招いてし
まっている。
ク材を新しいものと交換することによって対処してお
り、成膜物がたまったマスク材は再生処理、すなわちマ
スク材の表面に成膜された成膜物の除去処理を施した上
で再使用するようにしている。しかし、このような従来
の方法では、マスク材に対する再生処理を頻繁に行う必
要があるためランニングコストが膨大なものとなってお
り、ディスク状記録媒体の製造コストの増大を招いてし
まっている。
【0014】そこで本発明は、このような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、ディスク基板上に薄膜層
を成膜する際、マスク材の表面からの剥離物のディスク
基板への付着量が少なくて済むディスク脱着装置を提供
すること目的としている。
鑑みて提案されたものであり、ディスク基板上に薄膜層
を成膜する際、マスク材の表面からの剥離物のディスク
基板への付着量が少なくて済むディスク脱着装置を提供
すること目的としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに完成された本発明に係るディスク脱着装置は、マス
ク材によって一部がマスクされたディスク基板をパレッ
トに取り付けた上でディスク基板に薄膜層を成膜するこ
とによってディスク状記録媒体を製造する際に、マスク
材及びディスク基板のパレットへの取り付け、並びにマ
スク材及びディスク基板のパレットからの取り外しに使
用されるディスク脱着装置であって、上記マスク材を真
空吸着によって保持する真空吸着装置を備えることを特
徴とするものである。ここで、上記真空吸着装置は、真
空吸着されたマスク材を離すときに大気を導入して真空
吸着破壊を行うものであることが好ましい。
めに完成された本発明に係るディスク脱着装置は、マス
ク材によって一部がマスクされたディスク基板をパレッ
トに取り付けた上でディスク基板に薄膜層を成膜するこ
とによってディスク状記録媒体を製造する際に、マスク
材及びディスク基板のパレットへの取り付け、並びにマ
スク材及びディスク基板のパレットからの取り外しに使
用されるディスク脱着装置であって、上記マスク材を真
空吸着によって保持する真空吸着装置を備えることを特
徴とするものである。ここで、上記真空吸着装置は、真
空吸着されたマスク材を離すときに大気を導入して真空
吸着破壊を行うものであることが好ましい。
【0016】本発明に係るディスク脱着装置では、真空
吸着装置によって真空吸着することによりマスク材を保
持しているので、マスク材の表面からの剥離物は真空吸
着装置に吸い込まれる。したがって、マスク材の表面か
らの剥離物のディスク基板への付着が防止される。
吸着装置によって真空吸着することによりマスク材を保
持しているので、マスク材の表面からの剥離物は真空吸
着装置に吸い込まれる。したがって、マスク材の表面か
らの剥離物のディスク基板への付着が防止される。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。
【0018】まず、本実施の形態に係るディスク脱着装
置を備えたディスク状記録媒体製造システムの一例につ
いて全体構成を説明する。
置を備えたディスク状記録媒体製造システムの一例につ
いて全体構成を説明する。
【0019】このディスク状記録媒体製造システムは、
薄膜層がディスク基板上に成膜された光磁気ディスクを
製造するシステムであり、図1に示すように、加熱装置
を備えた熱処理室1と、ディスク脱着装置2を室内に備
えたドライクリーンルーム3と、真空に排気された脱ガ
ス室4と、ドライクリーニングルーム3と脱ガス室4と
の間に配される仕込室5と、ディスク基板10に薄膜層
を成膜するスパッタ室6と、スパッタ室6とドライクリ
ーニングルーム3との間に配される取り出し室7とを備
えている。
薄膜層がディスク基板上に成膜された光磁気ディスクを
製造するシステムであり、図1に示すように、加熱装置
を備えた熱処理室1と、ディスク脱着装置2を室内に備
えたドライクリーンルーム3と、真空に排気された脱ガ
ス室4と、ドライクリーニングルーム3と脱ガス室4と
の間に配される仕込室5と、ディスク基板10に薄膜層
を成膜するスパッタ室6と、スパッタ室6とドライクリ
ーニングルーム3との間に配される取り出し室7とを備
えている。
【0020】このディスク状記録媒体製造システムを用
いて光磁気ディスクを製造する際は、先ず、薄膜層の成
膜前のディスク基板10を熱処理室1に搬入し、このデ
ィスク基板10に対して熱処理室1にて熱処理を施す。
いて光磁気ディスクを製造する際は、先ず、薄膜層の成
膜前のディスク基板10を熱処理室1に搬入し、このデ
ィスク基板10に対して熱処理室1にて熱処理を施す。
【0021】次に、熱処理が施されたディスク基板10
を熱処理室1からドライクリーニングルーム3へ搬入
し、このディスク基板10を順次、ドライクリーニング
ルーム3に備えられたディスク脱着装置2によってパレ
ット11に取り付ける。このとき、パレット11には、
複数のディスク基板10がマスク材によって一部がマス
クされた状態で取り付けられる。ここで、マスク材は、
アウターマスクとインナーマスクとがあり、アウターマ
スクがディスク基板10の外周部分を覆うように配さ
れ、インナーマスクがディスク基板10の内周部分を覆
うように配される。
を熱処理室1からドライクリーニングルーム3へ搬入
し、このディスク基板10を順次、ドライクリーニング
ルーム3に備えられたディスク脱着装置2によってパレ
ット11に取り付ける。このとき、パレット11には、
複数のディスク基板10がマスク材によって一部がマス
クされた状態で取り付けられる。ここで、マスク材は、
アウターマスクとインナーマスクとがあり、アウターマ
スクがディスク基板10の外周部分を覆うように配さ
れ、インナーマスクがディスク基板10の内周部分を覆
うように配される。
【0022】次に、複数のディスク基板10が取り付け
られたパレット11を、ドライクリーニングルーム3か
ら仕込室5へ搬入する。ここで、仕込室5は、脱ガス室
4が大気に開放されないようにするためのものであり、
仕込室5内はパレット11の搬入後に真空に排気する。
られたパレット11を、ドライクリーニングルーム3か
ら仕込室5へ搬入する。ここで、仕込室5は、脱ガス室
4が大気に開放されないようにするためのものであり、
仕込室5内はパレット11の搬入後に真空に排気する。
【0023】次に、複数のディスク基板10が取り付け
られたパレット11を、仕込室5から真空に排気された
脱ガス室4へ搬入する。このとき、仕込室5が減圧又は
真空に排気されているので、脱ガス室4が大気に開放さ
れるようなことはない。
られたパレット11を、仕込室5から真空に排気された
脱ガス室4へ搬入する。このとき、仕込室5が減圧又は
真空に排気されているので、脱ガス室4が大気に開放さ
れるようなことはない。
【0024】次に、複数のディスク基板10が取り付け
られたパレット11を、脱ガス室4からスパッタ室6へ
搬入し、スパッタ室6でディスク基板10に薄膜層を成
膜する。ここで、スパッタ室6は、第1の誘電体膜成膜
室6a、磁性体膜成膜室6b、第2の誘電体膜成膜室6
c及び反射膜成膜室6dの独立した4室を備えている。
すなわち、先ず、第1の誘電体膜成膜室6aで第1の誘
電体膜をスパッタリングによって成膜し、次に、磁性体
膜成膜室6bで磁性体膜をスパッタリングによって成膜
し、次に、第2の誘電体膜成膜室6cで第2の誘電体膜
をスパッタリングによって成膜し、次に、反射膜成膜室
6dで反射膜をスパッタリングによって成膜することに
より、ディスク基板10上に薄膜層が形成される。
られたパレット11を、脱ガス室4からスパッタ室6へ
搬入し、スパッタ室6でディスク基板10に薄膜層を成
膜する。ここで、スパッタ室6は、第1の誘電体膜成膜
室6a、磁性体膜成膜室6b、第2の誘電体膜成膜室6
c及び反射膜成膜室6dの独立した4室を備えている。
すなわち、先ず、第1の誘電体膜成膜室6aで第1の誘
電体膜をスパッタリングによって成膜し、次に、磁性体
膜成膜室6bで磁性体膜をスパッタリングによって成膜
し、次に、第2の誘電体膜成膜室6cで第2の誘電体膜
をスパッタリングによって成膜し、次に、反射膜成膜室
6dで反射膜をスパッタリングによって成膜することに
より、ディスク基板10上に薄膜層が形成される。
【0025】次に、薄膜層の成膜が完了した複数のディ
スク基板10が取り付けられたパレット11を、スパッ
タ室6から取り出し室7へ搬入する。ここで、取り出し
室7は、スパッタ室6が大気に開放されないようにする
ためのものであり、パレット11を取り出し室7に搬入
した後に大気を導入するとともに、後述するように取り
出し室7からパレット11を搬出した後に再度真空に排
気する。
スク基板10が取り付けられたパレット11を、スパッ
タ室6から取り出し室7へ搬入する。ここで、取り出し
室7は、スパッタ室6が大気に開放されないようにする
ためのものであり、パレット11を取り出し室7に搬入
した後に大気を導入するとともに、後述するように取り
出し室7からパレット11を搬出した後に再度真空に排
気する。
【0026】次に、薄膜層の成膜が完了した複数のディ
スク基板10が取り付けられたパレット11を、取り出
し室7からドライクリーニングルーム3へ搬入する。こ
のとき、取り出し室7が減圧又は真空に排気されている
ので、スパッタ室6が大気に開放されるようなことはな
い。
スク基板10が取り付けられたパレット11を、取り出
し室7からドライクリーニングルーム3へ搬入する。こ
のとき、取り出し室7が減圧又は真空に排気されている
ので、スパッタ室6が大気に開放されるようなことはな
い。
【0027】次に、薄膜層の成膜が完了したディスク基
板10を順次、ドライクリーニングルーム3に備えられ
たディスク脱着装置2によってパレット11から取り外
す。このとき、各ディスク基板10に取り付けられたマ
スク材は取り外され、薄膜層の成膜が行われていない新
たなディスク基板10をパレット11に取り付ける際に
使用される。
板10を順次、ドライクリーニングルーム3に備えられ
たディスク脱着装置2によってパレット11から取り外
す。このとき、各ディスク基板10に取り付けられたマ
スク材は取り外され、薄膜層の成膜が行われていない新
たなディスク基板10をパレット11に取り付ける際に
使用される。
【0028】以上の工程によりディスク基板10上に薄
膜層が形成された光磁気ディスク10aが完成する。そ
して、完成した光磁気ディスク10aは、ドライクリー
ニングルーム3から搬出される。
膜層が形成された光磁気ディスク10aが完成する。そ
して、完成した光磁気ディスク10aは、ドライクリー
ニングルーム3から搬出される。
【0029】つぎに、以上のようなディスク状記録媒体
製造システムのドライクリーンルーム3内に配されるデ
ィスク脱着装置2について詳細に説明する。
製造システムのドライクリーンルーム3内に配されるデ
ィスク脱着装置2について詳細に説明する。
【0030】このディスク脱着装置2は、図2に示すよ
うに、このディスク脱着装置2を支持する支持台20
と、ディスク基板10、アウターマスク12及びインナ
ーマスク13を真空吸着によって保持したり離したりす
る脱着機構21と、脱着機構21を前後に移動させる移
動機構22とを備えている。
うに、このディスク脱着装置2を支持する支持台20
と、ディスク基板10、アウターマスク12及びインナ
ーマスク13を真空吸着によって保持したり離したりす
る脱着機構21と、脱着機構21を前後に移動させる移
動機構22とを備えている。
【0031】上記移動機構22は、支持台20に対して
回動可能となるように支持台20に取り付けられた第1
のアーム23と、第1のアーム23に対して回動可能と
なるように第1のアーム23の先端部に取り付けられた
第2のアーム24とを備えており、脱着機構21は、第
2のアーム24に対して回動可能となるように第2のア
ーム24の先端部に取り付けられている。そして、この
移動機構22は、第1のアーム23及び第2のアーム2
4を回動させることにより、図2中矢印Aで示すよう
に、第2のアーム24の先端部に取り付けられた脱着機
構21を前後方向、すなわちパレット11のディスク基
板支持面11aに対して垂直の方向に移動させる。
回動可能となるように支持台20に取り付けられた第1
のアーム23と、第1のアーム23に対して回動可能と
なるように第1のアーム23の先端部に取り付けられた
第2のアーム24とを備えており、脱着機構21は、第
2のアーム24に対して回動可能となるように第2のア
ーム24の先端部に取り付けられている。そして、この
移動機構22は、第1のアーム23及び第2のアーム2
4を回動させることにより、図2中矢印Aで示すよう
に、第2のアーム24の先端部に取り付けられた脱着機
構21を前後方向、すなわちパレット11のディスク基
板支持面11aに対して垂直の方向に移動させる。
【0032】一方、移動機構22に取り付けられた脱着
機構21は、脱着機構21の断面を拡大して模式的に示
した図3に示すように、アウターマスク12、インナー
マスク13及びディスク基板10を真空吸着させるため
に用いられる真空排気装置31と、アウターマスク12
の真空吸着の制御を行うために用いられるアウターマス
ク吸着用電磁弁32と、インナーマスク13の真空吸着
の制御を行うために用いられるインナーマスク吸着用電
磁弁33と、ディスク基板10の真空吸着の制御を行う
ために用いられるディスク吸着用電磁弁34と、アウタ
ーマスク12を真空吸着するアウターマスク吸着用バキ
ューム部35と、インナーマスク13を真空吸着するイ
ンナーマスク吸着用バキューム部36と、ディスク基板
10を真空吸着するディスク吸着用バキューム部37と
を備えている。
機構21は、脱着機構21の断面を拡大して模式的に示
した図3に示すように、アウターマスク12、インナー
マスク13及びディスク基板10を真空吸着させるため
に用いられる真空排気装置31と、アウターマスク12
の真空吸着の制御を行うために用いられるアウターマス
ク吸着用電磁弁32と、インナーマスク13の真空吸着
の制御を行うために用いられるインナーマスク吸着用電
磁弁33と、ディスク基板10の真空吸着の制御を行う
ために用いられるディスク吸着用電磁弁34と、アウタ
ーマスク12を真空吸着するアウターマスク吸着用バキ
ューム部35と、インナーマスク13を真空吸着するイ
ンナーマスク吸着用バキューム部36と、ディスク基板
10を真空吸着するディスク吸着用バキューム部37と
を備えている。
【0033】ここで、アウターマスク吸着用バキューム
部35はアウターマスク吸着用電磁弁32を介して真空
排気装置31に通じており、インナーマスク吸着用バキ
ューム部36はインナーマスク吸着用電磁弁33を介し
て真空排気装置31に通じており、ディスク吸着用バキ
ューム部37は、ディスク吸着用電磁弁34を介して真
空排気装置31に通じている。
部35はアウターマスク吸着用電磁弁32を介して真空
排気装置31に通じており、インナーマスク吸着用バキ
ューム部36はインナーマスク吸着用電磁弁33を介し
て真空排気装置31に通じており、ディスク吸着用バキ
ューム部37は、ディスク吸着用電磁弁34を介して真
空排気装置31に通じている。
【0034】そして、アウターマスク吸着用バキューム
部35、インナーマスク吸着用バキューム部36及びデ
ィスク吸着用バキューム部37は一体化されており、ア
ウターマスク吸着用バキューム部35は、アウターマス
ク12の位置に対応するように配され、インナーマスク
吸着用バキューム部36は、インナーマスク13の位置
に対応するように配され、ディスク吸着用バキューム部
37は、ディスク基板10の中心の位置に対応するよう
に配されている。
部35、インナーマスク吸着用バキューム部36及びデ
ィスク吸着用バキューム部37は一体化されており、ア
ウターマスク吸着用バキューム部35は、アウターマス
ク12の位置に対応するように配され、インナーマスク
吸着用バキューム部36は、インナーマスク13の位置
に対応するように配され、ディスク吸着用バキューム部
37は、ディスク基板10の中心の位置に対応するよう
に配されている。
【0035】また、アウターマスク吸着用バキューム部
35の先端部、すなわちアウターマスク12と接する部
分には、ゴム製のバキュームパット35aが取り付けら
れている。これにより、アウターマスク12の取り付け
及び取り外し時のアウターマスク12に対する衝撃を和
らげられ、アウターマスク12の取り付け及び取り外し
時におけるアウターマスク12からのダストの発生が抑
えられる。同様に、インナーマスク吸着用バキューム部
36とディスク吸着用バキューム部37の境界部、すな
わちインナーマスク13と接する部分にも、ゴム製のバ
キュームパット36aが取り付けらている。これによ
り、インナーマスク13の取り付け及び取り外し時のイ
ンナーマスク13に対する衝撃を和らげられ、インナー
マスク13の取り付け及び取り外し時におけるインナー
マスク13からのダストの発生が抑えられる。
35の先端部、すなわちアウターマスク12と接する部
分には、ゴム製のバキュームパット35aが取り付けら
れている。これにより、アウターマスク12の取り付け
及び取り外し時のアウターマスク12に対する衝撃を和
らげられ、アウターマスク12の取り付け及び取り外し
時におけるアウターマスク12からのダストの発生が抑
えられる。同様に、インナーマスク吸着用バキューム部
36とディスク吸着用バキューム部37の境界部、すな
わちインナーマスク13と接する部分にも、ゴム製のバ
キュームパット36aが取り付けらている。これによ
り、インナーマスク13の取り付け及び取り外し時のイ
ンナーマスク13に対する衝撃を和らげられ、インナー
マスク13の取り付け及び取り外し時におけるインナー
マスク13からのダストの発生が抑えられる。
【0036】このようなアウターマスク吸着用バキュー
ム部35と真空排気装置31の間に配されるアウターマ
スク吸着用電磁弁32は、アウターマスク吸着用バキュ
ーム部35によるアウターマスク12の真空吸着の制御
を行うために用いられるものである。すなわち、アウタ
ーマスク12を保持する際には、このアウターマスク吸
着用電磁弁32の電磁弁によってアウターマスク吸着用
バキューム部35が真空排気装置31に通じた状態とさ
れ、アウターマスク12がアウターマスク吸着用バキュ
ーム部35に真空吸着される。一方、アウターマスク1
2を離す際には、このアウターマスク吸着用電磁弁32
の電磁弁によってアウターマスク吸着用バキューム部3
5内が大気に対して開放された状態とされ、アウターマ
スク吸着用バキューム部35からアウターマスク12が
開放される。
ム部35と真空排気装置31の間に配されるアウターマ
スク吸着用電磁弁32は、アウターマスク吸着用バキュ
ーム部35によるアウターマスク12の真空吸着の制御
を行うために用いられるものである。すなわち、アウタ
ーマスク12を保持する際には、このアウターマスク吸
着用電磁弁32の電磁弁によってアウターマスク吸着用
バキューム部35が真空排気装置31に通じた状態とさ
れ、アウターマスク12がアウターマスク吸着用バキュ
ーム部35に真空吸着される。一方、アウターマスク1
2を離す際には、このアウターマスク吸着用電磁弁32
の電磁弁によってアウターマスク吸着用バキューム部3
5内が大気に対して開放された状態とされ、アウターマ
スク吸着用バキューム部35からアウターマスク12が
開放される。
【0037】ここで、アウターマスク吸着用バキューム
部35に真空吸着されたアウターマスク12を離すとき
には、通常の真空吸着装置と同様に、アウターマスク吸
着用バキューム部35内に圧縮空気を導入することによ
ってアウターマスク吸着用バキューム部35内の真空破
壊を行ってアウターマスク12を離すようにしてもよ
い。ただし、このように圧縮空気を用いて真空破壊を行
うと、アウターマスク吸着用バキューム部35に吸い込
まれて堆積していたダストが圧縮空気と共にアウターマ
スク吸着用バキューム部35から噴出してしまう。した
がって、上述のように、アウターマスク吸着用バキュー
ム部35内を大気に開放することによってアウターマス
ク吸着用バキューム部35内の真空破壊を行ってアウタ
ーマスク12を離すようにしたほうが好ましい。
部35に真空吸着されたアウターマスク12を離すとき
には、通常の真空吸着装置と同様に、アウターマスク吸
着用バキューム部35内に圧縮空気を導入することによ
ってアウターマスク吸着用バキューム部35内の真空破
壊を行ってアウターマスク12を離すようにしてもよ
い。ただし、このように圧縮空気を用いて真空破壊を行
うと、アウターマスク吸着用バキューム部35に吸い込
まれて堆積していたダストが圧縮空気と共にアウターマ
スク吸着用バキューム部35から噴出してしまう。した
がって、上述のように、アウターマスク吸着用バキュー
ム部35内を大気に開放することによってアウターマス
ク吸着用バキューム部35内の真空破壊を行ってアウタ
ーマスク12を離すようにしたほうが好ましい。
【0038】またインナーマスク吸着用バキューム部3
6と真空排気装置31の間に配されるインナーマスク吸
着用電磁弁33は、インナーマスク吸着用バキューム部
36によるインナーマスク13の真空吸着の制御を行う
ために用いられるものである。すなわち、インナーマス
ク13を保持する際には、このインナーマスク吸着用電
磁弁33の電磁弁によってインナーマスク吸着用バキュ
ーム部36が真空排気装置31に通じた状態とされ、イ
ンナーマスク13がインナーマスク吸着用バキューム部
36に真空吸着される。一方、インナーマスク13を離
す際には、このインナーマスク吸着用電磁弁33の電磁
弁によってインナーマスク吸着用バキューム部36内が
大気に対して開放された状態とされ、インナーマスク吸
着用バキューム部36からインナーマスク13が開放さ
れる。
6と真空排気装置31の間に配されるインナーマスク吸
着用電磁弁33は、インナーマスク吸着用バキューム部
36によるインナーマスク13の真空吸着の制御を行う
ために用いられるものである。すなわち、インナーマス
ク13を保持する際には、このインナーマスク吸着用電
磁弁33の電磁弁によってインナーマスク吸着用バキュ
ーム部36が真空排気装置31に通じた状態とされ、イ
ンナーマスク13がインナーマスク吸着用バキューム部
36に真空吸着される。一方、インナーマスク13を離
す際には、このインナーマスク吸着用電磁弁33の電磁
弁によってインナーマスク吸着用バキューム部36内が
大気に対して開放された状態とされ、インナーマスク吸
着用バキューム部36からインナーマスク13が開放さ
れる。
【0039】ここで、インナーマスク吸着用バキューム
部36に真空吸着されたインナーマスク13を離すとき
には、通常の真空吸着装置と同様に、インナーマスク吸
着用バキューム部36内に圧縮空気を導入することによ
ってインナーマスク吸着用バキューム部36内の真空破
壊を行ってインナーマスク13を離すようにしてもよ
い。ただし、このように圧縮空気を用いて真空破壊を行
うと、インナーマスク吸着用バキューム部36に吸い込
まれて堆積していたダストが圧縮空気と共にインナーマ
スク吸着用バキューム部36から噴出してしまう。した
がって、上述のように、インナーマスク吸着用バキュー
ム部36内を大気に開放することによってインナーマス
ク吸着用バキューム部36内の真空破壊を行ってインナ
ーマスク13を離すようにしたほうが好ましい。
部36に真空吸着されたインナーマスク13を離すとき
には、通常の真空吸着装置と同様に、インナーマスク吸
着用バキューム部36内に圧縮空気を導入することによ
ってインナーマスク吸着用バキューム部36内の真空破
壊を行ってインナーマスク13を離すようにしてもよ
い。ただし、このように圧縮空気を用いて真空破壊を行
うと、インナーマスク吸着用バキューム部36に吸い込
まれて堆積していたダストが圧縮空気と共にインナーマ
スク吸着用バキューム部36から噴出してしまう。した
がって、上述のように、インナーマスク吸着用バキュー
ム部36内を大気に開放することによってインナーマス
ク吸着用バキューム部36内の真空破壊を行ってインナ
ーマスク13を離すようにしたほうが好ましい。
【0040】またディスク吸着用バキューム部37と真
空排気装置31の間に配されるディスク吸着用電磁弁3
4は、ディスク吸着用バキューム部37によるディスク
基板10の真空吸着の制御を行うために用いられるもの
である。すなわち、ディスク基板10を保持する際に
は、このディスク吸着用電磁弁34の電磁弁によってデ
ィスク吸着用バキューム部37が真空排気装置31に通
じた状態とされ、ディスク基板10がディスク吸着用バ
キューム部37に真空吸着される。一方、ディスク基板
10を離す際には、このディスク吸着用電磁弁34の電
磁弁によってディスク吸着用バキューム部37内が大気
に対して開放された状態とされ、ディスク吸着用バキュ
ーム部37からディスク基板10が開放される。
空排気装置31の間に配されるディスク吸着用電磁弁3
4は、ディスク吸着用バキューム部37によるディスク
基板10の真空吸着の制御を行うために用いられるもの
である。すなわち、ディスク基板10を保持する際に
は、このディスク吸着用電磁弁34の電磁弁によってデ
ィスク吸着用バキューム部37が真空排気装置31に通
じた状態とされ、ディスク基板10がディスク吸着用バ
キューム部37に真空吸着される。一方、ディスク基板
10を離す際には、このディスク吸着用電磁弁34の電
磁弁によってディスク吸着用バキューム部37内が大気
に対して開放された状態とされ、ディスク吸着用バキュ
ーム部37からディスク基板10が開放される。
【0041】ここで、ディスク吸着用バキューム部37
に真空吸着されたディスク基板10を離すときには、通
常の真空吸着装置と同様に、ディスク吸着用バキューム
部37内に圧縮空気を導入することによってディスク吸
着用バキューム部37内の真空破壊を行ってディスク基
板10を離すようにしてもよい。ただし、このように圧
縮空気を用いて真空破壊を行うと、ディスク吸着用バキ
ューム部37に吸い込まれて堆積していたダストが圧縮
空気と共にディスク吸着用バキューム部37から噴出し
てしまう。したがって、上述のように、ディスク吸着用
バキューム部37内を大気に開放することによってディ
スク吸着用バキューム部37内の真空破壊を行ってディ
スク基板10を離すようにしたほうが好ましい。
に真空吸着されたディスク基板10を離すときには、通
常の真空吸着装置と同様に、ディスク吸着用バキューム
部37内に圧縮空気を導入することによってディスク吸
着用バキューム部37内の真空破壊を行ってディスク基
板10を離すようにしてもよい。ただし、このように圧
縮空気を用いて真空破壊を行うと、ディスク吸着用バキ
ューム部37に吸い込まれて堆積していたダストが圧縮
空気と共にディスク吸着用バキューム部37から噴出し
てしまう。したがって、上述のように、ディスク吸着用
バキューム部37内を大気に開放することによってディ
スク吸着用バキューム部37内の真空破壊を行ってディ
スク基板10を離すようにしたほうが好ましい。
【0042】以上のようなディスク脱着装置2を用いて
パレット11からアウターマスク12、インナーマスク
13及びディスク基板10を取り外すときは、真空排気
装置31によってアウターマスク吸着用電磁弁32を介
してアウターマスク吸着用バキューム部35内を真空引
きして、アウターマスク吸着用バキューム部35にアウ
ターマスク12を真空吸着させ、同様に、真空排気装置
31によってインナーマスク吸着用電磁弁33を介して
インナーマスク吸着用バキューム部36内を真空引きし
て、インナーマスク吸着用バキューム部36にインナー
マスク13を真空吸着させ、同様に、真空排気装置31
によってディスク吸着用電磁弁34を介してディスク吸
着用バキューム部37内を真空引きして、ディスク吸着
用バキューム部37にディスク基板10を真空吸着させ
る。
パレット11からアウターマスク12、インナーマスク
13及びディスク基板10を取り外すときは、真空排気
装置31によってアウターマスク吸着用電磁弁32を介
してアウターマスク吸着用バキューム部35内を真空引
きして、アウターマスク吸着用バキューム部35にアウ
ターマスク12を真空吸着させ、同様に、真空排気装置
31によってインナーマスク吸着用電磁弁33を介して
インナーマスク吸着用バキューム部36内を真空引きし
て、インナーマスク吸着用バキューム部36にインナー
マスク13を真空吸着させ、同様に、真空排気装置31
によってディスク吸着用電磁弁34を介してディスク吸
着用バキューム部37内を真空引きして、ディスク吸着
用バキューム部37にディスク基板10を真空吸着させ
る。
【0043】ここで、パレット11には、アウターマス
ク12、インナーマスク13及びディスク基板10を保
持できるように、アウターマスク12に対応する位置に
アウターマスク吸着用マグネット11aが埋め込まれて
いるとともに、インナーマスク13に対応する位置にイ
ンナーマスク吸着用マグネット11bが埋め込まれてい
る。したがって、アウターマスク吸着用バキューム部3
5によるアウターマスク12の真空吸着、インナーマス
ク吸着用バキューム部36によるインナーマスク13の
真空吸着、及びディスク吸着用バキューム部37による
ディスク基板10の真空吸着は、アウターマスク吸着用
マグネット11aによる吸着、及びインナーマスク吸着
用マグネット11bによる吸着に打ち勝つような吸着力
とされる。
ク12、インナーマスク13及びディスク基板10を保
持できるように、アウターマスク12に対応する位置に
アウターマスク吸着用マグネット11aが埋め込まれて
いるとともに、インナーマスク13に対応する位置にイ
ンナーマスク吸着用マグネット11bが埋め込まれてい
る。したがって、アウターマスク吸着用バキューム部3
5によるアウターマスク12の真空吸着、インナーマス
ク吸着用バキューム部36によるインナーマスク13の
真空吸着、及びディスク吸着用バキューム部37による
ディスク基板10の真空吸着は、アウターマスク吸着用
マグネット11aによる吸着、及びインナーマスク吸着
用マグネット11bによる吸着に打ち勝つような吸着力
とされる。
【0044】そして、このようにアウターマスク12、
インナーマスク13及びディスク基板10を真空吸着し
た状態で、移動機構22によって脱着機構21をパレッ
ト11から離すように移動させる。これにより、アウタ
ーマスク12、インナーマスク13及びディスク基板1
0がパレット11から取り外される。
インナーマスク13及びディスク基板10を真空吸着し
た状態で、移動機構22によって脱着機構21をパレッ
ト11から離すように移動させる。これにより、アウタ
ーマスク12、インナーマスク13及びディスク基板1
0がパレット11から取り外される。
【0045】また、ディスク脱着装置2を用いてパレッ
ト11にアウターマスク12、インナーマスク13及び
ディスク基板10を取り付けるときは、アウターマスク
12、インナーマスク13及びディスク基板10を真空
吸着した状態で、アウターマスク12、インナーマスク
13及びディスク基板10がパレット10上の所定の位
置となるように、移動機構22によって脱着機構21を
パレット11に向けて移動させる。
ト11にアウターマスク12、インナーマスク13及び
ディスク基板10を取り付けるときは、アウターマスク
12、インナーマスク13及びディスク基板10を真空
吸着した状態で、アウターマスク12、インナーマスク
13及びディスク基板10がパレット10上の所定の位
置となるように、移動機構22によって脱着機構21を
パレット11に向けて移動させる。
【0046】そして、アウターマスク12、インナーマ
スク13及びディスク基板10をパレット11に密着さ
せた状態で、アウターマスク吸着用電磁弁32によって
アウターマスク吸着用バキューム部35内を大気に開放
し、同様に、インナーマスク吸着用電磁弁33によって
インナーマスク吸着用バキューム部36内を大気に開放
し、同様に、ディスク吸着用電磁弁34によってディス
ク吸着用バキューム部37内を大気に開放する。これに
より、アウターマスク吸着用バキューム部35からアウ
ターマスク12は離され、インナーマスク吸着用バキュ
ーム部36からインナーマスク13は離され、ディスク
吸着用バキューム部37からディスク基板10は離され
ることとなる。
スク13及びディスク基板10をパレット11に密着さ
せた状態で、アウターマスク吸着用電磁弁32によって
アウターマスク吸着用バキューム部35内を大気に開放
し、同様に、インナーマスク吸着用電磁弁33によって
インナーマスク吸着用バキューム部36内を大気に開放
し、同様に、ディスク吸着用電磁弁34によってディス
ク吸着用バキューム部37内を大気に開放する。これに
より、アウターマスク吸着用バキューム部35からアウ
ターマスク12は離され、インナーマスク吸着用バキュ
ーム部36からインナーマスク13は離され、ディスク
吸着用バキューム部37からディスク基板10は離され
ることとなる。
【0047】このとき、パレット11にはアウターマス
ク吸着用マグネット11a及びインナーマスク吸着用マ
グネット11bが埋め込まれているので、アウターマス
ク12はアウターマスク吸着用マグネット11aによっ
て吸着され、インナーマスク13はインナーマスク吸着
用マグネット11bによって吸着され、これにより、ア
ウターマスク12、インナーマスク13及びディスク基
板10がパレット11上に保持される。
ク吸着用マグネット11a及びインナーマスク吸着用マ
グネット11bが埋め込まれているので、アウターマス
ク12はアウターマスク吸着用マグネット11aによっ
て吸着され、インナーマスク13はインナーマスク吸着
用マグネット11bによって吸着され、これにより、ア
ウターマスク12、インナーマスク13及びディスク基
板10がパレット11上に保持される。
【0048】以上のようなディスク脱着装置2では、ア
ウターマスク12やインナーマスク13上に成膜された
成膜物が剥離してダストが生じても、このようなダスト
はアウターマスク吸着用バキューム部35やインナーマ
スク吸着用バキューム部36に吸い込まれるので、この
ようなダストのディスク基板10への付着が防止され
る。
ウターマスク12やインナーマスク13上に成膜された
成膜物が剥離してダストが生じても、このようなダスト
はアウターマスク吸着用バキューム部35やインナーマ
スク吸着用バキューム部36に吸い込まれるので、この
ようなダストのディスク基板10への付着が防止され
る。
【0049】したがって、以上のようなディスク脱着装
置2を備えたディスク状記録媒体製造システムによって
光磁気ディスクを製造することにより、アウターマスク
12やインナーマスク13上に成膜された成膜物の剥離
によって生じるダストに起因するエラーが大幅に減少す
る。
置2を備えたディスク状記録媒体製造システムによって
光磁気ディスクを製造することにより、アウターマスク
12やインナーマスク13上に成膜された成膜物の剥離
によって生じるダストに起因するエラーが大幅に減少す
る。
【0050】実際に、このディスク状記録媒体製造シス
テムによって光磁気ディスクを製造して、ピンホールの
数を測定した結果を図4に示す。
テムによって光磁気ディスクを製造して、ピンホールの
数を測定した結果を図4に示す。
【0051】この図4において、縦軸はピンホールの数
を示しており、横軸は光磁気ディスク製造時のロット数
を示している。ここで、光磁気ディスクは1つのパレッ
トに20枚のディスク基板を配して同時に薄膜層を成膜
しており、48パレットを1ロットとしている。そし
て、この図4では、比較のために、従来のディスク脱着
装置を用いたときの結果Aと、本発明を適用したディス
ク脱着装置を用いたときの結果とを示しており、さら
に、本発明を適用したディスク脱着装置を用いたときの
結果については、圧縮空気を導入することによって真空
破壊を行ってアウターマスク、インナーマスク及びディ
スク基板を離すタイプのディスク脱着装置を用いたとき
の結果Bと、大気に開放することによって真空破壊を行
ってアウターマスク、インナーマスク及びディスク基板
を離すタイプのディスク脱着装置を用いたときの結果C
とを示している。なお、図4において、マスク交換とあ
るのは、ピンホール数が増大したために、アウターマス
ク及びインナーマスクを新しいものと交換したことを示
している。
を示しており、横軸は光磁気ディスク製造時のロット数
を示している。ここで、光磁気ディスクは1つのパレッ
トに20枚のディスク基板を配して同時に薄膜層を成膜
しており、48パレットを1ロットとしている。そし
て、この図4では、比較のために、従来のディスク脱着
装置を用いたときの結果Aと、本発明を適用したディス
ク脱着装置を用いたときの結果とを示しており、さら
に、本発明を適用したディスク脱着装置を用いたときの
結果については、圧縮空気を導入することによって真空
破壊を行ってアウターマスク、インナーマスク及びディ
スク基板を離すタイプのディスク脱着装置を用いたとき
の結果Bと、大気に開放することによって真空破壊を行
ってアウターマスク、インナーマスク及びディスク基板
を離すタイプのディスク脱着装置を用いたときの結果C
とを示している。なお、図4において、マスク交換とあ
るのは、ピンホール数が増大したために、アウターマス
ク及びインナーマスクを新しいものと交換したことを示
している。
【0052】図4に示す結果から明らかなように、従来
のディスク脱着装置を用いたときには、ピンホール数の
増加が著しく、アウターマスク及びインナーマスクを頻
繁に新しいものと交換しなければならなくなっている。
これに対して、本発明を適用したディスク脱着装置を用
いたときは、ピンホールの増加が少なく、アウターマス
ク及びインナーマスクを頻繁に新しいものと交換する必
要がなくなっている。特に、大気に開放することによっ
て真空破壊を行ってアウターマスク、インナーマスク及
びディスク基板を離すタイプのディスク脱着装置を用い
たときには、ピンホールの増加が非常に少なくなってお
り、120ロットを越えても、アウターマスク及びイン
ナーマスクを新しいものと交換する必要がないことが分
かる。
のディスク脱着装置を用いたときには、ピンホール数の
増加が著しく、アウターマスク及びインナーマスクを頻
繁に新しいものと交換しなければならなくなっている。
これに対して、本発明を適用したディスク脱着装置を用
いたときは、ピンホールの増加が少なく、アウターマス
ク及びインナーマスクを頻繁に新しいものと交換する必
要がなくなっている。特に、大気に開放することによっ
て真空破壊を行ってアウターマスク、インナーマスク及
びディスク基板を離すタイプのディスク脱着装置を用い
たときには、ピンホールの増加が非常に少なくなってお
り、120ロットを越えても、アウターマスク及びイン
ナーマスクを新しいものと交換する必要がないことが分
かる。
【0053】なお、本実施例では、製造の対象となるデ
ィスク状記録媒体を光磁気ディスクとしたが、製造の対
象となるディスク状記録媒体は、マスク材によって一部
がマスクされたディスク基板をパレットに取り付けた上
でディスク基板に薄膜層を成膜することによって製造さ
れるものであればよく、光磁気ディスクや磁気ディスク
等であってもよい。
ィスク状記録媒体を光磁気ディスクとしたが、製造の対
象となるディスク状記録媒体は、マスク材によって一部
がマスクされたディスク基板をパレットに取り付けた上
でディスク基板に薄膜層を成膜することによって製造さ
れるものであればよく、光磁気ディスクや磁気ディスク
等であってもよい。
【0054】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るディスク脱着装置では、マスク材の表面からの剥
離物が真空吸着装置によって吸い込まれるため、マスク
材の表面からの剥離物のディスク基板上への付着が防止
される。
に係るディスク脱着装置では、マスク材の表面からの剥
離物が真空吸着装置によって吸い込まれるため、マスク
材の表面からの剥離物のディスク基板上への付着が防止
される。
【0055】したがって、本発明に係るディスク脱着装
置を用いてディスク状記録媒体を製造することにより、
マスク材の表面からの剥離物が原因となるディスク状記
録媒体のエラーが減少し、その結果、ディスク状記録媒
体の歩止まりが大幅に向上する。
置を用いてディスク状記録媒体を製造することにより、
マスク材の表面からの剥離物が原因となるディスク状記
録媒体のエラーが減少し、その結果、ディスク状記録媒
体の歩止まりが大幅に向上する。
【0056】しかも、本発明に係るディスク脱着装置で
は、マスク材の表面からの剥離物のディスク基板上への
付着が防止されるので、ディスク状記録媒体の歩止まり
を維持したまま、マスク材の交換周期を大幅に延ばすこ
と可能となり、ランニングコストを大幅に下げることが
できる。
は、マスク材の表面からの剥離物のディスク基板上への
付着が防止されるので、ディスク状記録媒体の歩止まり
を維持したまま、マスク材の交換周期を大幅に延ばすこ
と可能となり、ランニングコストを大幅に下げることが
できる。
【図1】ディスク状記録媒体製造システムの全体構成の
一例を示す模式図である。
一例を示す模式図である。
【図2】本発明を適用したディスク脱着装置の一構成例
を示す側面図である。
を示す側面図である。
【図3】本発明を適用したディスク脱着装置の一構成例
を模式図である。
を模式図である。
【図4】ピンホール数とロット数の関係を示す図であ
る。
る。
【図5】パレットにディスク基板及びマスク材が取り付
けられた状態を示す要部断面図である。
けられた状態を示す要部断面図である。
1 熱処理室 2 ディスク脱着装置 3 ドライクリーンルーム 4 脱ガス室 5 仕込室 6 スパッタ室 7 取り出し室 10 ディスク基板 11 パレット 12 アウターマスク 13 インナーマスク 20 支持台 21 脱着機構 22 移動機構 23 第1のアーム 24 第2のアーム 31 真空排気装置 32 アウターマスク吸着用電磁弁 33 インナーマスク吸着用電磁弁 34 ディスク吸着用電磁弁 35 アウターマスク吸着用バキューム部 36 インナーマスク吸着用バキューム部 37 ディスク吸着用バキューム部
Claims (2)
- 【請求項1】 マスク材によって一部がマスクされたデ
ィスク基板をパレットに取り付けた上でディスク基板に
薄膜層を成膜することによってディスク状記録媒体を製
造する際に、マスク材及びディスク基板のパレットへの
取り付け、並びにマスク材及びディスク基板のパレット
からの取り外しに使用されるディスク脱着装置におい
て、 上記マスク材を真空吸着によって保持する真空吸着装置
を備えることを特徴とするディスク脱着装置。 - 【請求項2】 前記真空吸着装置が、真空吸着されたマ
スク材を離すときに大気を導入して真空吸着破壊を行う
ものであることを特徴とする請求項1記載のディスク脱
着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19226495A JPH0944914A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | ディスク脱着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19226495A JPH0944914A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | ディスク脱着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0944914A true JPH0944914A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16288398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19226495A Withdrawn JPH0944914A (ja) | 1995-07-27 | 1995-07-27 | ディスク脱着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0944914A (ja) |
-
1995
- 1995-07-27 JP JP19226495A patent/JPH0944914A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |