JPH04114560U - 縦型減圧ｃｖｄ膜製造装置 - Google Patents
縦型減圧ｃｖｄ膜製造装置Info
- Publication number
- JPH04114560U JPH04114560U JP1797791U JP1797791U JPH04114560U JP H04114560 U JPH04114560 U JP H04114560U JP 1797791 U JP1797791 U JP 1797791U JP 1797791 U JP1797791 U JP 1797791U JP H04114560 U JPH04114560 U JP H04114560U
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- JP
- Japan
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- wafer
- inner tube
- boat
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Abstract
(57)【要約】
〔目的〕 インナーチューブとウェーハとの間の間隔を
最小限に保ち、均一な膜厚の膜を生成する。 〔構成〕 インナーチューブ１に設けたウェーハ支持部
溝５にボート２のウェーハ支持溝６を有する支持柱７を
嵌挿せしめることによりインナーチューブ１とウェーハ
４との間の間隔を最小限に保ち、均一な膜厚の膜を生成
することができる。
最小限に保ち、均一な膜厚の膜を生成する。 〔構成〕 インナーチューブ１に設けたウェーハ支持部
溝５にボート２のウェーハ支持溝６を有する支持柱７を
嵌挿せしめることによりインナーチューブ１とウェーハ
４との間の間隔を最小限に保ち、均一な膜厚の膜を生成
することができる。
Description
【０００１】
本考案は半導体製造装置に係り、特に縦型減圧ＣＶＤ膜製造装置に関する。
【０００２】
従来装置は図１を参照して説明すると、石英インナーチューブ１と石英ボート
２との間に反応ガスを通し、石英インナーチューブ１と石英アウターチューブ３
との間より排気することにより石英ボート２のウェーハ支持溝６に載置されヒー
タ８により加熱されたウェーハ４にＣＶＤ膜を生成する構成になっている。
【０００３】
ＳｉＨ4 ＋Ｎ2 Ｏ系ＳｉＯ2 膜やＳｉＨ4 ＋ＮＨ3 系Ｓｉ3 Ｎ4 膜の生成には
、ウェーハ４間の間隔とガス流路にあたるウェーハ４とインナーチューブ１間の
間隔の関係がウェーハ４の膜厚の均一性に依存する。実験によるとウェーハ４と
インナーチューブ１との間を狭くした場合良い結果が得られている。
【０００４】
しかしながら上記従来例にあっては、ウェーハ４がボート２を構成する，例え
ば３本の石英支持柱７のウェーハ支持溝６に載置されるため、支持柱７の厚み以
下に間隔を狭くすることができず、膜厚の均一性が劣るという課題がある。
【０００５】
本考案装置は上記の課題を解決するため、図１に示すようにインナーチューブ
１とボート２との間に反応ガスを通し、前記インナーチューブ１とアウターチュ
ーブ３との間より排気することにより前記ボート２のウェーハ支持溝６に載置さ
れ加熱されたウェーハ４にＣＶＤ膜を生成する縦型減圧ＣＶＤ膜製造装置におい
て、前記インナーチューブ１にウェーハ支持部溝５を設け、このウェーハ支持部
溝５に前記ボート２のウェーハ支持溝６を有する支持柱７を嵌挿してなる。
【０００６】
このような構成にすることにより従来装置とは異なり、支持柱７の厚みに依存
されないので、ウェーハ４とインナーチューブ１との間の間隔ｔを最小限に保つ
ことができることになり、膜厚の均一性を高めることができることになる。
【０００７】
図１（Ａ）は本考案装置の１実施例の構成を示す概略断面図、図１（Ｂ）は本
考案におけるボート及びインナーチューブの斜視図、図２はそのインナーチュー
ブにボートを嵌挿した状態を示す横断面図である。１は石英インナーチューブ、
３は石英アウターチューブで反応管を構成している。２は石英ボートで、内側に
多数のウェーハ支持溝６を有する３本の石英支持柱７と、これらの支持柱７の上
下部に固定された支持板９とよりなる。
【０００８】
インナーチューブ１にこれを外方に凹状に折曲して縦方向に形成された３つの
ウェーハ支持部溝５が設けられ、これらのウェーハ支持部溝５にそれぞれボート
２の支持柱７が嵌挿されている。ウェーハ支持部溝５はインナーチューブ１の内
面に縦方向に形成された溝であってもよい。
【０００９】
４はボート２の多数のウェーハ支持溝６に載置されたウェーハ、１０は反応ガ
ス導入口、１１は排気口、１２は反応管内にボート２を搬入，出する昇降部で、
膜生成前，後のウェーハの挿入，取出しを行う。
【００１０】
本実施例はこのような構成であるから、図１において反応ガス導入口１０より
ＳｉＨ4 ＋Ｎ2 Ｏ系ガス又はＳｉＨ4 ＋ＮＨ3 系ガスを導入してインナーチュー
ブ１とボート２との間を通しインナーチューブ１とアウターチューブ３との間を
通して排気口１１より排気すると、ボート２のウェーハ支持溝６に載置されヒー
タ８により加熱されたウェーハ４にＳｉＯ2 膜又はＳｉ3 Ｎ4 膜が生成される。
【００１１】
この生成膜の膜厚は、図２に示すように従来装置とは異なり、支持柱７の厚み
に依存されないので、ウェーハ４とインナーチューブ１との間の間隔ｔを最小限
に保つことができることになり、膜厚の均一性を高めることができることになる
。
【００１２】
上述のように本考案によれば、インナーチューブ１とボート２との間に反応ガ
スを通し、前記インナーチューブ１とアウターチューブ３との間より排気するこ
とにより前記ボート２のウェーハ支持溝６に載置され加熱されたウェーハ４にＣ
ＶＤ膜を生成する縦型減圧ＣＶＤ膜製造装置において、前記インナーチューブ１
にウェーハ支持部溝５を設け、このウェーハ支持部溝５に前記ボート２のウェー
ハ支持溝６を有する支持柱７を嵌挿してなるので、インナーチューブ１とウェー
ハ４との間の間隔ｔを最小限に保つことができ、均一な膜厚の膜を生成すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）は本考案装置の１実施例の構成を示す概
略断面図、（Ｂ）は本考案におけるボート及びインナー
チューブの斜視図である。
略断面図、（Ｂ）は本考案におけるボート及びインナー
チューブの斜視図である。
【図２】そのインナーチューブにボートを嵌挿した状態
を示す横断面図である。
を示す横断面図である。
１ （石英）インナーチューブ
２ （石英）ボート
３ （石英）アウターチューブ
４ ウェーハ
５ ウェーハ支持部溝
６ ウェーハ支持溝
７ 支持柱
８ ヒータ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年７月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
Claims (2)
- 【請求項１】 インナーチューブ（１）とボート（２）
との間に反応ガスを通し、前記インナーチューブ（１）
とアウターチューブ（３）との間より排気することによ
り前記ボート（２）のウェーハ支持溝（６）に載置され
加熱されたウェーハ（４）にＣＶＤ膜を生成する縦型減
圧ＣＶＤ膜製造装置において、前記インナーチューブ
（１）にウェーハ支持部溝（５）を設け、このウェーハ
支持部溝（５）に前記ボート（２）のウェーハ支持溝
（６）を有する支持柱（７）を嵌挿してなる縦型減圧Ｃ
ＶＤ膜製造装置。 - 【請求項２】 反応ガスがＳｉＨ4 ＋Ｎ2 Ｏ系, ＳｉＨ
4 ＋ＮＨ3 系のガスである請求項１の縦型減圧ＣＶＤ膜
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1797791U JPH0721570Y2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 縦型減圧ｃｖｄ膜製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1797791U JPH0721570Y2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 縦型減圧ｃｖｄ膜製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04114560U true JPH04114560U (ja) | 1992-10-08 |
| JPH0721570Y2 JPH0721570Y2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=31904614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1797791U Expired - Lifetime JPH0721570Y2 (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 縦型減圧ｃｖｄ膜製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721570Y2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-25 JP JP1797791U patent/JPH0721570Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0721570Y2 (ja) | 1995-05-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |