JPH0411632A - ポリイミドとその製造方法 - Google Patents
ポリイミドとその製造方法Info
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- JPH0411632A JPH0411632A JP11548690A JP11548690A JPH0411632A JP H0411632 A JPH0411632 A JP H0411632A JP 11548690 A JP11548690 A JP 11548690A JP 11548690 A JP11548690 A JP 11548690A JP H0411632 A JPH0411632 A JP H0411632A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
と成形性とを有するポリイミド及びその製造方法に関す
る。
イミドが提案されている。特に、成形性に優れた熱可塑
性あるいは溶剤可溶性のポリイミドの場合、ピロメリッ
ト酸のような直線構造の無水物を用いた構造では剛直過
ぎるため、非直線構造の酸無水物が用いられ、更にジア
ミン成分に柔軟な構造を導入することによって成形性の
向上を実現している。例えば、特開平1−14983号
公報では、3,3“、4,4−ジフェニルスルフォンテ
トラカルボン酸二無水物と3つの屈曲基を持つジアミン
との組合せが提案されている。
造のポリイミドに比較すると耐熱性に劣ることが避けら
れないため、用途によっては耐熱温度をさらに上げるこ
とを要求されることがある。
であると考えられる。然し、単純にランダム共重合を行
うと、機械的物性の低下や成形可能温度の極端な上昇を
招く。
の一般式(I) (式中、R1は非直線構造のテトラカルボン酸二無水物
残基であり、R2は2価のジアミン化合物残基であり、
R3は直線構造のテトラカルボン酸二無水物残基であり
、Xは自然数を表す)で表される構造単位を有するポリ
イミド、及びジアミン化合物溶液中に非直線構造のテト
ラカルボン酸二無水物をジアミン化合物に対して過少モ
ル量添加して充分反応させた後、続いて直線構造のテト
ラカルボン酸二無水物を酸無水物の総モル量がジアミン
化合物のモル量とほぼ同量になるように添加して充分反
応させて得られるポリアミド酸をイミド化することを特
徴とするポリイミドの製造方法を見出だした。
二無水物とジアミン化合物とからなるユニットを、−単
位の直線構造のテトラカルボン酸二無水物とジアミン化
合物とからなるユニットで接続することによって、柔軟
路がもたらす優れた性質、即ち成形性や溶剤可溶性を失
うことなく、しかも機械的物性をも損なわないで、耐熱
性を向上させることに成功したものである。同一の組成
であっても、直線構造のテトラカルボン酸二無水物とジ
アミン化合物とのユニットが2繰返し単位以上のブロッ
クとして存在すると、成形性の低下や機械的物性の低下
を招くことになる。
は、屈曲鎖を持たず酸無水物の複素環を構成する2つの
酸素原子を結ぶ直線に対して炭素原子が対称位置にある
ようなテトラカルボン酸二無水物をいう。また、非直線
構造のテトラカルボン酸二無水物とは、屈曲鎖を有する
か又は酸無水物の複素環を構成する2つの酸素原子を結
ぶ直線に対して炭素原子′が対称位置にないようなテト
ラカルボン酸二無水物をいう。
水物としては、例えば、3.3’、4.4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’、4゜4°
−ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物、4
.4′−オキシシフタル酸二無水物、4,4ジメチルシ
リルシフタル酸二無水物、3,3°、4.4’−ジフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン ビス(フタル酸二無水物)のうちいずれか
又は複数の組合せか可能である。
物としては、ピロメリット酸二無水物が物性バランス上
好ましいが、芳香環の水素の一部をハロゲン等で置換し
たものも用いることができる。
2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]へキサフルオロプロパン、ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン、ビス[
4−(3−アミノフェノキシ)フェニルコスルフォン、
4,4°−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルの
うちいずれか又は複数の組合せで用いるのが成形性と物
性バランス上好ましい。
ミン化合物とからなるユニットの繰返し単位[一般式(
I)におけるX]は、所望の物性1<ランスの内容によ
って自由に設定できるが、]から10の間で設定するの
が適当である。
合し、これを脱水閉環させることによって得られるが、
この前駆体の重合に用いられる溶媒としては、N、N−
ジメチルフォルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルフオキシド、
テトラヒドロフラン等から選ばれる1種又は2種以上の
ポリアミド酸合成に一般に用いられる極性溶媒を用いる
ことができるが、モノマーの溶解性と反応活性とのバラ
ンスから、N、N−ジメチルフォルムアミド及びN、N
−ジメチルアセトアミドが好ましい。また、更にヘンゼ
ン、トルエン、キシレン等の非極性溶媒を一部混合して
用いることもできる。
は50℃以下、特に30℃乃至−20℃が適切である。
定するのか好ましい。更に、ポリアミド酸の溶液濃度は
、5〜40重量%、好ましくは10〜25重量%が適−
当である。
化学的な脱水閉環法を採用することができる。その際に
用いられる脱水剤としては、例えば無水酢酸等の脂肪族
酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、クロル酢
酸類等が挙げられる。
脂肪族第三級アミン類、ピリジン、ピコリン類、イソキ
ノリン等の複素環式第三級アミン類等か挙げられる。
状の成形体や、フィルム、シート等の形が可能である。
態でキャスト法等によって成形し、乾燥イミド化する方
法が適当である。ブロック状の成形体を得るためには、
例えば溶液状態から−Hポリアミド酸あるいはポリイミ
ドの粉末又は顆粒状に落し、これを再度所望の形状に成
形する方法を採用することができる。
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
シフエノンテトラカルボン酸二無水物、DSDAは3.
3°、4,4−ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸
二無水物、PMDAはピロメリット酸二無水物、HFB
APPは2,2−ビス [4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、BAPSはビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフォン
、DMFはジメチルフォルムアミドを、それぞれ示す。
した結果である。
PPを溶解し、DSDA16.6gを添加して、30分
撹拌した後、続いてPMDA約2.52gを徐々に添加
し、粘度を2000ポイズに調整した。得られたポリア
ミド酸溶液を0℃に冷却した後、ポリアミド酸1繰返し
単位当り約4倍モル量の無水酢酸と、約2倍モル量のピ
リジンを加えて混合した後、直ちにガラス板上に流延塗
布し、約100℃の熱風で約5分間乾燥硬化下後、ガラ
ス板から引き剥した。こうして得られた自己支持性フィ
ルムの周辺端部を支持枠に固定した後、約200℃で5
分間、約350℃で5分間熱風オーブン中で加熱乾燥し
た。次いて、これを大気中に放冷した後、支持枠から切
り出し、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得た。得
られたフィルムの性質を表1に示す。
PPを溶解し、BTDA14.9gを添加して、30分
間撹拌した後、続いてPMDA約2.52gを徐々に添
加し、粘度を2000ポイズに調整した。得られたポリ
アミド酸溶液を、実施例1と同様の方法でフィルム化し
、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得た。得られた
フィルムの性質を表1に示す。
PPを溶解し、DSDA16.6gとP M D A約
2.52gとを均一に混合したものを徐々に添加し、粘
度を2000ポイズに調整した。
フィルム化し、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得
た。得られたフィルムの性質を表1に示す。
PPを溶解し、BTDA14.9gとPMDA約2.5
2gとを均一に混合したものを徐々に添加し、粘度を2
000ポイズに調整した。
フィルム化し、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得
た。得られたフィルムの性質を表1に示す。
BAPPを溶解し、BTDA18,7gを添加して、粘
度を2000ポイズに調整した。得られたポリアミド酸
溶液を、実施例1と同様の方法でフィルム化し、厚さ約
25μのポリイミドフィルムを得た。得られたフィルム
の性質を表1に示す。
な機械的物性を有するポリイミドを得ることができ、電
子・電気材料やプリント基板材料等に好適な材料を提供
することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)次の一般式( I )で表される構造単位を有するポ
リイミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) 式中、R_1は非直線構造のテトラカルボン酸二無水物
残基であり、R_2は2価のジアミン化合物残基であり
、R_3は直線構造のテトラカルボン酸二無水物残基で
あり、xは自然数を表す。 2)非直線構造のテトラカルボン酸二無水物が、3,3
’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルフォンテトラ
カルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無
水物、4,4’−ジメチルシリルジフタル酸二無水物、
3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンビス(フタル酸
二無水物)のうちいずれか又は複数の組合せである請求
項1記載のポリイミド。 3)直線構造のテトラカルボン酸二無水物がピロメリッ
ト酸二無水物である請求項1又は2記載のポリイミド。 4)ジアミン化合物が、2,2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロ
プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルフォン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル]スルフォン、4,4’−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ビフェニルのうちいずれか又は複数の組合せ
である請求項1乃至3のいずれかに記載のポリイミド。 5)ジアミン化合物溶液中に非直線構造のテトラカルボ
ン酸二無水物をジアミン化合物に対して過少モル量添加
して充分反応させた後、続いて直線構造のテトラカルボ
ン酸二無水物を酸無水物の総モル量がジアミン化合物の
モル量とほぼ同量になるように添加して充分反応させて
得られるポリアミド酸をイミド化することを特徴とする
ポリイミドの製造方法。 6)非直線構造のテトラカルボン酸二無水物が、3,3
’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルフォンテトラ
カルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無
水物、4,4’−ジメチルシリルジフタル酸二無水物、
3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンビス(フタル酸
二無水物)のうちいずれか又は複数の組合せである請求
項5記載のポリイミドの製造方法。 7)直線構造のテトラカルボン酸二無水物がピロメリッ
ト酸二無水物である請求項5又は6記載のポリイミドの
製造方法。 8)ジアミン化合物が、2,2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロ
プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルフオン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル]スルフォン、4,4’−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ビフェニルのうちいずれか又は複数の組合せ
である請求項5乃至7のいずれかに記載のポリイミドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11548690A JP2934478B2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | ポリイミドとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11548690A JP2934478B2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | ポリイミドとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0411632A true JPH0411632A (ja) | 1992-01-16 |
| JP2934478B2 JP2934478B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=14663716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11548690A Expired - Lifetime JP2934478B2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | ポリイミドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2934478B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04306232A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-10-29 | E I Du Pont De Nemours & Co | ポリイミドコポリマーのプレカーサーおよびポリイミドコポリマーを製造する方法 |
| JPH05222192A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-08-31 | Korea Res Inst Chem Technol | ポリイミド共重合体及びその製造方法 |
| JPH05263049A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-12 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Tab用テープ及び該製造方法 |
| JPH08231719A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-09-10 | Korea Res Inst Of Chem Technol | ポリ(イミド−アミックエステル)及びその製造方法並びにそれを用いたポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミドファイバー及びそれらの製造方法 |
| JP5049784B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2012-10-17 | 株式会社カネカ | 金属被覆ポリイミドフィルム |
| DE112011104400T5 (de) | 2010-12-15 | 2013-09-19 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Reifentestvorrichtung |
| JP2022502554A (ja) * | 2018-10-11 | 2022-01-11 | ピーアイ・アドバンスド・マテリアルズ・カンパニー・リミテッド | 接着力に優れたポリイミド樹脂を製造するためのポリアミック酸組成物及びこれによって製造されたポリイミド樹脂 |
-
1990
- 1990-05-01 JP JP11548690A patent/JP2934478B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH08231719A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-09-10 | Korea Res Inst Of Chem Technol | ポリ(イミド−アミックエステル)及びその製造方法並びにそれを用いたポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミドファイバー及びそれらの製造方法 |
| JP5049784B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2012-10-17 | 株式会社カネカ | 金属被覆ポリイミドフィルム |
| DE112011104400T5 (de) | 2010-12-15 | 2013-09-19 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Reifentestvorrichtung |
| JP2022502554A (ja) * | 2018-10-11 | 2022-01-11 | ピーアイ・アドバンスド・マテリアルズ・カンパニー・リミテッド | 接着力に優れたポリイミド樹脂を製造するためのポリアミック酸組成物及びこれによって製造されたポリイミド樹脂 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2934478B2 (ja) | 1999-08-16 |
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