JPH04116436A - 半導体微差圧センサ - Google Patents
半導体微差圧センサInfo
- Publication number
- JPH04116436A JPH04116436A JP23770790A JP23770790A JPH04116436A JP H04116436 A JPH04116436 A JP H04116436A JP 23770790 A JP23770790 A JP 23770790A JP 23770790 A JP23770790 A JP 23770790A JP H04116436 A JPH04116436 A JP H04116436A
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- JP
- Japan
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- differential pressure
- resin
- pressure sensor
- diaphragm
- adhesive
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はダイヤフラム式の半導体微差圧センサに関する
。
。
半導体微差圧センサはダイヤフラムの一側空間における
カルマン渦の毎秒当たりの発生数の変化による圧力変化
をダイヤフラムの他側空間に付与した基準圧との圧力差
として捉えるよう構成されている。
カルマン渦の毎秒当たりの発生数の変化による圧力変化
をダイヤフラムの他側空間に付与した基準圧との圧力差
として捉えるよう構成されている。
カルマン渦の負圧は約10−3mmHg〜102mm1
1gという広い範囲にわたって変化するため、ダイヤフ
ラム厚は極めて薄く形成されるのが普通である。
1gという広い範囲にわたって変化するため、ダイヤフ
ラム厚は極めて薄く形成されるのが普通である。
第2図は従来の半導体微差圧センサを示す断面構造図で
あり、図中1は樹脂ベース、2は樹脂カバー、34はダ
イヤフラノ、を示している。
あり、図中1は樹脂ベース、2は樹脂カバー、34はダ
イヤフラノ、を示している。
樹脂ベース】はその略中央に一対の透孔1a、lbを、
またその両側に凹孔1c、 ldを備えており、透孔1
a、lbと凹孔1c、1dとの間は連通孔1e、 If
にて相互に連通せしめられている。
またその両側に凹孔1c、 ldを備えており、透孔1
a、lbと凹孔1c、1dとの間は連通孔1e、 If
にて相互に連通せしめられている。
各凹孔1c、 ldの周囲には、中央部に凹孔1c、
ldの孔形成に合わせた孔5a、6aを穿ったグイバッ
ト5.6が夫々その孔5a、6aを凹孔1c、ldに対
応させた状態でエポキシ樹脂9を用いて接着固定され、
また樹脂ベース1の両端部には前記タイパッド56の固
定位置との間に凹孔1g、 lhを隅ててリード部7.
8が同じく夫々接着剤9を用いて接着固定されている。
ldの孔形成に合わせた孔5a、6aを穿ったグイバッ
ト5.6が夫々その孔5a、6aを凹孔1c、ldに対
応させた状態でエポキシ樹脂9を用いて接着固定され、
また樹脂ベース1の両端部には前記タイパッド56の固
定位置との間に凹孔1g、 lhを隅ててリード部7.
8が同じく夫々接着剤9を用いて接着固定されている。
前記ダイパッド5.6の上面にはダイヤフラム3.4か
タイパッド5.(iの孔5a、6aを塞ぐ態様で、その
周縁部に形成しである感圧部たる微差圧センサチップ部
3a、4aをシリコンゴム]L12を介して接着固定さ
れている。5h、5bはシリコンゴム11、.12との
接着力を高めるための突条部である。
タイパッド5.(iの孔5a、6aを塞ぐ態様で、その
周縁部に形成しである感圧部たる微差圧センサチップ部
3a、4aをシリコンゴム]L12を介して接着固定さ
れている。5h、5bはシリコンゴム11、.12との
接着力を高めるための突条部である。
前記微差圧センサ・チンブ部3a、4aとリード部78
とは金線13.1.4にて接続されている。1.3a、
14aは保護用のゲルである。
とは金線13.1.4にて接続されている。1.3a、
14aは保護用のゲルである。
そして前記ダイヤフラム3,4及び金線13,1.4の
外囲を覆う態様で樹脂ベース1−1−に樹脂カバ2か設
けられている。樹脂カバー2は前記ダイヤフラム3.4
及び金線13,1.、iと対向する位置に夫々凹所2c
、2dを備え、また前記樹脂ベース】の透孔1a、1.
bと対応する位置に前記凹所2c、2dと連通ずる連通
孔2a、2bを備えており、連通孔2a、2bを樹脂ベ
ース1の透孔1.a、 1.bと対向させた状態で、連
通孔2a 、 2bの開口部を除く樹脂カバー2の下面
をエポキシ樹脂9にて前記ダイパッド5,6の一部及び
り−I、部7.8の一部を樹脂ベース]との間に挾め込
む態様でこれらに接着固定せしめてあ而してこのような
半導体微差圧センサにあっては、樹脂ベース1の透孔1
aは連通孔1(!を介してダイヤフラム3の下面側空間
Aと、また連通孔2aを介してダイヤフラム4の1.面
側空間りと夫々連通し、一方樹脂ベース1の透孔1bは
連通孔1fを介してダイヤフラム4の下面側空間13と
、また連通孔2hを介してダイヤフラム3の1−面側空
間Cと夫々連通した状態となる。
外囲を覆う態様で樹脂ベース1−1−に樹脂カバ2か設
けられている。樹脂カバー2は前記ダイヤフラム3.4
及び金線13,1.、iと対向する位置に夫々凹所2c
、2dを備え、また前記樹脂ベース】の透孔1a、1.
bと対応する位置に前記凹所2c、2dと連通ずる連通
孔2a、2bを備えており、連通孔2a、2bを樹脂ベ
ース1の透孔1.a、 1.bと対向させた状態で、連
通孔2a 、 2bの開口部を除く樹脂カバー2の下面
をエポキシ樹脂9にて前記ダイパッド5,6の一部及び
り−I、部7.8の一部を樹脂ベース]との間に挾め込
む態様でこれらに接着固定せしめてあ而してこのような
半導体微差圧センサにあっては、樹脂ベース1の透孔1
aは連通孔1(!を介してダイヤフラム3の下面側空間
Aと、また連通孔2aを介してダイヤフラム4の1.面
側空間りと夫々連通し、一方樹脂ベース1の透孔1bは
連通孔1fを介してダイヤフラム4の下面側空間13と
、また連通孔2hを介してダイヤフラム3の1−面側空
間Cと夫々連通した状態となる。
樹脂ベース1の透孔1aを大気圧に連通し、また透孔1
bを検出対象部に連通せしめるごとによって、大気を基
準圧P1としてこれに対する過圧力1〕2の変動をダイ
ヤフラ1.3.4の変位に伴う微差圧センサチップ部3
a、4aの出力として検出し得ることとなる。
bを検出対象部に連通せしめるごとによって、大気を基
準圧P1としてこれに対する過圧力1〕2の変動をダイ
ヤフラ1.3.4の変位に伴う微差圧センサチップ部3
a、4aの出力として検出し得ることとなる。
ところでこのような従来センサにあって!11、構造上
ダイパッド4,5は樹脂ベース1上にエポキシ樹脂9を
介して同定されるが、ダイパッド5゜6、ツーl−フレ
ーム7.8は周囲の雰囲気に直接曝されるため対環境性
の向に対策として通常全面に金メツキが施される。しか
し金メツキ膜とエポキシ樹脂9との接着性は十分でなく
、接着性劣化するとスパン感度が低下し、またスパン温
度時171゛が変化し、更にクイパッド5.6が渦周波
数と同し圧力変化で振動し、金線13,1.4が断線す
る等の不都合を招くこととなり、信東α性が低いとい・
う問題があった。
ダイパッド4,5は樹脂ベース1上にエポキシ樹脂9を
介して同定されるが、ダイパッド5゜6、ツーl−フレ
ーム7.8は周囲の雰囲気に直接曝されるため対環境性
の向に対策として通常全面に金メツキが施される。しか
し金メツキ膜とエポキシ樹脂9との接着性は十分でなく
、接着性劣化するとスパン感度が低下し、またスパン温
度時171゛が変化し、更にクイパッド5.6が渦周波
数と同し圧力変化で振動し、金線13,1.4が断線す
る等の不都合を招くこととなり、信東α性が低いとい・
う問題があった。
本発明はかかる事情に鑑みなされたものであって、その
目的とするところはダイバラFとベースとの間の接着強
度を高め、信頼性を高め得た半導体微差圧センサを桿供
するにある。
目的とするところはダイバラFとベースとの間の接着強
度を高め、信頼性を高め得た半導体微差圧センサを桿供
するにある。
本発明に係る半導体微差圧センサは、そのベースに対し
接着剤にて固定されるダイパッドの面に多数の窪のを形
成する。
接着剤にて固定されるダイパッドの面に多数の窪のを形
成する。
本発明にあっていJこれによっ゛ζダイパッドと接着剤
との接触面積が増太し、また窪み内に露出するダイバラ
F材料自体と接着剤との接触によって高い接着力を得る
ごとが可能となる。
との接触面積が増太し、また窪み内に露出するダイバラ
F材料自体と接着剤との接触によって高い接着力を得る
ごとが可能となる。
[実施例]
以下本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に説
明する。
明する。
第1図は本発明に係る半導体微差圧センサの縦断面図で
あり、図中1は樹脂ベース、2は樹脂カバー、3.4i
;l夫々ダイヤフラ11を示している。
あり、図中1は樹脂ベース、2は樹脂カバー、3.4i
;l夫々ダイヤフラ11を示している。
樹脂ベース1の中央には所要の間隔を隔てて2個の透孔
1a、1.bが形成され、またこれらの両側には所定の
間隔を隔てて凹所1c、ldが、更に両端部寄りの位置
に凹所1g、1.hが形成され、前記透孔1a1hと凹
所1c、1.dとの間は連通孔1(・、1fにて通過せ
しめられている。
1a、1.bが形成され、またこれらの両側には所定の
間隔を隔てて凹所1c、ldが、更に両端部寄りの位置
に凹所1g、1.hが形成され、前記透孔1a1hと凹
所1c、1.dとの間は連通孔1(・、1fにて通過せ
しめられている。
前記連通孔1.e、1.fの各一端部は、透孔1a、
Ibの周壁に開口し、また他端部は各凹所1c、1.d
の底部近傍の周壁に開口している。
Ibの周壁に開口し、また他端部は各凹所1c、1.d
の底部近傍の周壁に開口している。
樹脂ベース1の表面にば、前記各凹所1c、 ldの周
囲にダイパッド5,6が、また凹所1g、 lhの両外
法にはリード部7,8が配設されている。ダイパッド5
,6及びリード部7,8は鉄−ニッケルコバール、或い
は燐青銅等を用いて構成されて全表面に金メツキが施さ
れている。ダイパッド56は中央部に前記樹脂ベース1
の各凹所1c、ldの形状に合わせた孔5a、 6aを
有する矩形板状に形成され、その上面の中央部に沿って
突条部5b、6bが、また下面、即ち樹脂ベース1と対
向する側の面には例えばサンドブラスト等の手段にて多
数の窪み5c、6cを形成したてあり、この窪み5c、
6c内にも後全面に金メ・ンキが施されている。この
ようなダイパッド5.6はその孔5a、6aを凹所1c
、ldと対応させた状態で夫々エポキシ樹脂9を用いて
樹脂ベース1上に接着固定されている。
囲にダイパッド5,6が、また凹所1g、 lhの両外
法にはリード部7,8が配設されている。ダイパッド5
,6及びリード部7,8は鉄−ニッケルコバール、或い
は燐青銅等を用いて構成されて全表面に金メツキが施さ
れている。ダイパッド56は中央部に前記樹脂ベース1
の各凹所1c、ldの形状に合わせた孔5a、 6aを
有する矩形板状に形成され、その上面の中央部に沿って
突条部5b、6bが、また下面、即ち樹脂ベース1と対
向する側の面には例えばサンドブラスト等の手段にて多
数の窪み5c、6cを形成したてあり、この窪み5c、
6c内にも後全面に金メ・ンキが施されている。この
ようなダイパッド5.6はその孔5a、6aを凹所1c
、ldと対応させた状態で夫々エポキシ樹脂9を用いて
樹脂ベース1上に接着固定されている。
また各リード部7,8はフィンガ一部、外部リード等を
備え、同じく全面に金メツキを施してあり、一端部を樹
脂ベース1の凹所1g、lh上に張り出し、また他端部
は樹脂ベース1の外方に延在させた態様で夫々エポキシ
樹脂9を用いて接着固定されている。
備え、同じく全面に金メツキを施してあり、一端部を樹
脂ベース1の凹所1g、lh上に張り出し、また他端部
は樹脂ベース1の外方に延在させた態様で夫々エポキシ
樹脂9を用いて接着固定されている。
各グイバンド5.6の上面にはその表面の突条部5b、
6b上及びその両側にわたって夫々シリコンゴムlL
12が塗布され、この各シリコンゴム11,12上にダ
イヤフラム3.4が各凹所1c、ld 、孔5a 、
6aを夫々覆う態様でその周縁部に形成した感圧部たる
微差圧センサチップ部3a、4aを介して接着固定せし
められ、これによってダイヤフラム34の下側に空間A
、Bが形成されている。
6b上及びその両側にわたって夫々シリコンゴムlL
12が塗布され、この各シリコンゴム11,12上にダ
イヤフラム3.4が各凹所1c、ld 、孔5a 、
6aを夫々覆う態様でその周縁部に形成した感圧部たる
微差圧センサチップ部3a、4aを介して接着固定せし
められ、これによってダイヤフラム34の下側に空間A
、Bが形成されている。
各センサチップ部3a、4aの上面と、各リード部7.
8との間は金線13.14を介して接続せしめられてい
る。13a、14aは保護用のゲルである。
8との間は金線13.14を介して接続せしめられてい
る。13a、14aは保護用のゲルである。
一方樹脂カバー2はダイヤフラム3,4と対向させるべ
き下面側に所定深さの凹所2c、2dを備え、また両凹
所2a、2b間の隔壁中には連通孔2a、2bが形成さ
れている。連通孔2a、2bはその各一端が下面に開口
し、連通孔2aの他端は凹所2cの、また連通孔2bの
他端は凹所2dの各底部近傍の周壁に開口せしめられて
いる。
き下面側に所定深さの凹所2c、2dを備え、また両凹
所2a、2b間の隔壁中には連通孔2a、2bが形成さ
れている。連通孔2a、2bはその各一端が下面に開口
し、連通孔2aの他端は凹所2cの、また連通孔2bの
他端は凹所2dの各底部近傍の周壁に開口せしめられて
いる。
このような樹脂カバー2は前記孔2a、2bを樹脂ベー
ス1の透孔1a、H+と対向させて、また凹所2cはダ
イヤフラム3.金線13を、一方凹所2dはダイヤフラ
ム4.金線14を夫々覆う態様で、下面をエポキシ樹脂
9を介して、ダイパッドち、6の辺縁部及びリード部7
,8の一部を樹脂ベース1との間に挾み込む態様でこれ
らに一体的に接着固定せしめられている。
ス1の透孔1a、H+と対向させて、また凹所2cはダ
イヤフラム3.金線13を、一方凹所2dはダイヤフラ
ム4.金線14を夫々覆う態様で、下面をエポキシ樹脂
9を介して、ダイパッドち、6の辺縁部及びリード部7
,8の一部を樹脂ベース1との間に挾み込む態様でこれ
らに一体的に接着固定せしめられている。
これによって樹脂カバー2の各凹所2c、2dとダイヤ
フラム3,4との間に空間C,Dが夫々形成され、樹脂
ベース1の透孔1aは空間A、Dと、また透孔1bは空
間C,Bと夫々連通せしめられた状態となる。透孔1a
を大気圧PIに、また透孔1bを過圧P2に連通せしめ
ることにより、大気圧P1に対する過圧P2の変化を検
出し得ることとなる。
フラム3,4との間に空間C,Dが夫々形成され、樹脂
ベース1の透孔1aは空間A、Dと、また透孔1bは空
間C,Bと夫々連通せしめられた状態となる。透孔1a
を大気圧PIに、また透孔1bを過圧P2に連通せしめ
ることにより、大気圧P1に対する過圧P2の変化を検
出し得ることとなる。
次にこのような本発明センサの組立過程についてその一
例を示す。樹脂ベース1、樹脂カバー2は夫々予め合成
樹脂材料を用いて一体成形等によって形成しておく。
例を示す。樹脂ベース1、樹脂カバー2は夫々予め合成
樹脂材料を用いて一体成形等によって形成しておく。
厚さ0.25mmの42 (Fe−Ni合金のNi含有
量が42%)合金板にパンチング加工によってダイパッ
ド5゜6、リード部(ワイヤボンドフィンガー、外部リ
ード等)7.8を成形加工してリードフレームを形成し
た後、次にパンチング加工番こ際しての打抜き面と反対
側の面からグイバット5,6の裏面に向けてサンド粒を
吹き(−1け、ここに無数の窪み5C6cを形成し、を
機洗浄、化学洗浄を施し、最後にリードフレーム全面に
電解金メツキを施す。
量が42%)合金板にパンチング加工によってダイパッ
ド5゜6、リード部(ワイヤボンドフィンガー、外部リ
ード等)7.8を成形加工してリードフレームを形成し
た後、次にパンチング加工番こ際しての打抜き面と反対
側の面からグイバット5,6の裏面に向けてサンド粒を
吹き(−1け、ここに無数の窪み5C6cを形成し、を
機洗浄、化学洗浄を施し、最後にリードフレーム全面に
電解金メツキを施す。
金メツキを施したリードフレームのダイパッド5.6の
表面側にシリコンゴム1112をデイスペンサー等を用
いて均一に塗布し、別途形成しであるダイヤフラム3.
4の微差圧センサチップ部3a4aをシリコンゴムlL
12に接触させ、熱を加えてシリコンゴム1112を硬
化させる。微差圧センサチップ部3a、4aのワイヤボ
ンディングパラFとリード部7,8のフィンガ一部とに
金線13.14を渡して夫々超音波熱圧着法により接触
固定する。微差圧センサチップ部3a、4aにおけるワ
イヤポンディングパッド表面に保護用のゲル13a、
14aを塗布する。
表面側にシリコンゴム1112をデイスペンサー等を用
いて均一に塗布し、別途形成しであるダイヤフラム3.
4の微差圧センサチップ部3a4aをシリコンゴムlL
12に接触させ、熱を加えてシリコンゴム1112を硬
化させる。微差圧センサチップ部3a、4aのワイヤボ
ンディングパラFとリード部7,8のフィンガ一部とに
金線13.14を渡して夫々超音波熱圧着法により接触
固定する。微差圧センサチップ部3a、4aにおけるワ
イヤポンディングパッド表面に保護用のゲル13a、
14aを塗布する。
樹脂ベース1の表面であって、ダイパッド56及びリー
ド部7,8を接着すべき部分にスクリーン印刷等によっ
てエポキシ樹脂9を塗布し、各微差圧センサチップ部3
a、4aを樹脂グイボンドしておいたリードフレームを
乗せて接着させた後、リードフレームを適宜分割し、別
にスクリーン印刷にてエポキシ樹脂9を塗布した樹脂カ
バー2を被せ、樹脂カバー2−にから重錘を乗せ、加熱
ギ□アしてリード部7,8及びダイパッド5,6を樹脂
ベース1と樹脂カバー2との間に挟み込んだ態様で接着
固定する。
ド部7,8を接着すべき部分にスクリーン印刷等によっ
てエポキシ樹脂9を塗布し、各微差圧センサチップ部3
a、4aを樹脂グイボンドしておいたリードフレームを
乗せて接着させた後、リードフレームを適宜分割し、別
にスクリーン印刷にてエポキシ樹脂9を塗布した樹脂カ
バー2を被せ、樹脂カバー2−にから重錘を乗せ、加熱
ギ□アしてリード部7,8及びダイパッド5,6を樹脂
ベース1と樹脂カバー2との間に挟み込んだ態様で接着
固定する。
ダイパッド5.6は下面には無数の窪L7j5c、6c
が形成されているからエポキシ樹脂9の一部が窪み内に
流入して相互の接着面積が大きくなり、相互の接着性が
高められ、その後の熱履歴でも剥離することがなく、高
い信頼性が得られることとなる。
が形成されているからエポキシ樹脂9の一部が窪み内に
流入して相互の接着面積が大きくなり、相互の接着性が
高められ、その後の熱履歴でも剥離することがなく、高
い信頼性が得られることとなる。
なお上述の実施例ではダイパッド5,6の裏面に先ず、
無数の窪み5c、6cを形成した後、金メツキを施す構
成について説明したが、これに限らず、例えばグイバン
ド5,6の全面に先に金メツキを施した後、その底面に
サンド粒を吹き付けて窪み5c、 6cを形成し、金メ
ツキ膜に損傷を与えて下地面を表出させ、この状態でエ
ポキシ樹脂9に接着させることとしてもよい。
無数の窪み5c、6cを形成した後、金メツキを施す構
成について説明したが、これに限らず、例えばグイバン
ド5,6の全面に先に金メツキを施した後、その底面に
サンド粒を吹き付けて窪み5c、 6cを形成し、金メ
ツキ膜に損傷を与えて下地面を表出させ、この状態でエ
ポキシ樹脂9に接着させることとしてもよい。
このような構成ではダイパラF5.6を構成する鉄、ニ
ッケル合金、コバール、燐青銅等の下地はエポキシ樹脂
9と反応し易く強固な接着力を得られる効果がある。
ッケル合金、コバール、燐青銅等の下地はエポキシ樹脂
9と反応し易く強固な接着力を得られる効果がある。
以上の如く本発明センサにあってはベースに接着剤を用
いて固定する例のダイパッド面に多数の窪みを形成する
から、グイバットと接着剤との接触面積が増大し、また
グイパットの下地面に対して直接接着剤を接触・ぜしめ
得ることとなって高い接着力が得られ、信頼性が向上す
る等本発明は優れた効果を奏するものである。
いて固定する例のダイパッド面に多数の窪みを形成する
から、グイバットと接着剤との接触面積が増大し、また
グイパットの下地面に対して直接接着剤を接触・ぜしめ
得ることとなって高い接着力が得られ、信頼性が向上す
る等本発明は優れた効果を奏するものである。
第1図は本発明センサの縦断面図、第2図は同じ〈従来
センサの縦断面図である。 l・・・樹脂ベース 1a、1b・・透孔 1.c、1
d・・・凹所2・・・樹脂カバー 2a、2b・・・連
通孔 2c、2d・・・凹所3.4・・・ダイヤフラム
3a、4a・・・微差圧センザチップ部 5,6
・ダイバラt” 5c、6c、・・・窪メ] 2 7.8・・・リード部 9・・エポキシ樹脂 13,1
.4・金線 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
センサの縦断面図である。 l・・・樹脂ベース 1a、1b・・透孔 1.c、1
d・・・凹所2・・・樹脂カバー 2a、2b・・・連
通孔 2c、2d・・・凹所3.4・・・ダイヤフラム
3a、4a・・・微差圧センザチップ部 5,6
・ダイバラt” 5c、6c、・・・窪メ] 2 7.8・・・リード部 9・・エポキシ樹脂 13,1
.4・金線 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)孔を有するダイパッドの一面に、前記孔を塞ぐ態
様で周縁部に感圧部を備えたダイヤフラムを配設してあ
り、前記ダイパッドはその他面を接着剤にてベースに固
着し、前記ダイヤフラム両面の差圧を検出するようにし
た半導体微差圧センサにおいて、前記ダイパッドの他面
には多数の窪みを形成してあることを特徴とする半導体
微差圧センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23770790A JPH04116436A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 半導体微差圧センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23770790A JPH04116436A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 半導体微差圧センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116436A true JPH04116436A (ja) | 1992-04-16 |
Family
ID=17019315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23770790A Pending JPH04116436A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 半導体微差圧センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04116436A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016014656A (ja) * | 2014-06-12 | 2016-01-28 | 株式会社フジクラ | 半導体装置及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-09-06 JP JP23770790A patent/JPH04116436A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016014656A (ja) * | 2014-06-12 | 2016-01-28 | 株式会社フジクラ | 半導体装置及びその製造方法 |
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