JPH04117463U - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH04117463U JPH04117463U JP1671891U JP1671891U JPH04117463U JP H04117463 U JPH04117463 U JP H04117463U JP 1671891 U JP1671891 U JP 1671891U JP 1671891 U JP1671891 U JP 1671891U JP H04117463 U JPH04117463 U JP H04117463U
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- JP
- Japan
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- resistor
- divided
- voltage
- resistors
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本考案は、抵抗体の中間点から中間電圧を精度
よく取り出すようにした半導体装置を提供することにあ
る。 【構成】分割して形成された複数の抵抗体(抵抗値
R1 ,R2 )のうち高い抵抗値R1 を有する抵抗体を更
に分割し、かつ分割された抵抗体の各々を別々の抵抗島
内分離層13内に形成する。 【効果】抵抗体を分割して形成された複数の抵抗体の相
対比の電圧依存性を最小限に抑え、これにより分割点
(中間点)での中間電圧を精度よく取り出す。
よく取り出すようにした半導体装置を提供することにあ
る。 【構成】分割して形成された複数の抵抗体(抵抗値
R1 ,R2 )のうち高い抵抗値R1 を有する抵抗体を更
に分割し、かつ分割された抵抗体の各々を別々の抵抗島
内分離層13内に形成する。 【効果】抵抗体を分割して形成された複数の抵抗体の相
対比の電圧依存性を最小限に抑え、これにより分割点
(中間点)での中間電圧を精度よく取り出す。
Description
【0001】
本考案は電圧検出回路等に使用される半導体装置に係り、特に抵抗体を分割し
て形成された複数の抵抗体の相対比の電圧依存性が最小限に抑えられ、これによ
り分割点での中間電圧を精度よく取り出されるようにしたものである。
【0002】
従来例を図2、図3、図4に従って説明する。図2は半導体装置の構造を示す
もので、同図中、1はPタイプの半導体基板、2はN+ タイプの埋込層、3はP
タイプの分割層、4,5はNタイプ層、6,7はPタイプ層、8,9はN+ 層、
10,11はN+ 層である。
【0003】
符号A,B,Cは電極端子であり、端子A,B間はPタイプ層6によって抵抗
値R1 を有する抵抗体が形成され、端子B,C間はPタイプ層7によって抵抗値
R2 を有する抵抗体が形成される。そして、端子Bは端子A,C間に電圧Vが印
加された際の中間電位VB {R2 /(R1 +R2 )}Vを取り出す電位取り出し
端子を構成する。図3は等価回路図である。
【0004】
しかしながら、図4に示す如く、印加電圧VとPタイプ層6,7を流れる電流
Iとの関係がリニアでなく印加電圧Vが大きくなると電流1の変化が少なくなっ
てくる傾向がある。このことは、印加電圧Vが変化する事により、PN接合に空
乏層が生じて抵抗値R1 ,R2 に電圧依存性があることを示している。
【0005】
従って、上記従来の構成によると、中間電位VB が印加電圧によって変化する
ので精度良く取り出せないという課題がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本考案は、分割して形成された複数の抵抗体のうち高い抵抗値を有する抵抗体
を更に分割し、かつ分割された抵抗体の各々を別々の抵抗島内に形成した構成に
したものである。
【0007】
この半導体装置は、抵抗体を分割して形成された複数の抵抗体の相対比{R2
/(R1 +R2 )}の電圧依存性を最小限に抑え、これにより分割点での中間電
位を精度よく取り出す。
【0008】
次に、本考案に係る半導体装置の実施例について説明する。図1は本考案に係
る半導体装置の実施例を示す図である。
【0009】
図1中、11はPタイプの半導体基板、12はそれぞれN+ タイプの埋込層、
13はそれぞれPタイプの分離層、14,15,16はそれぞれNタイプ層、1
7,18,19はPタイプ層、20,21,22はそれぞれN+ 層、23,24
,25はそれぞれN+ タイプ層である。
【0010】
符号A,B,Cは電極端子であり、端子A,B間はPタイプ層18,19によ
って抵抗値R1 を有する抵抗体が形成され、端子B,C間はPタイプ層17によ
って抵抗値R2 を有する抵抗体が形成される。そして、端子Bは端子A,C間に
電圧Vが印加された際の中間電位VB {R2 /(R1 +R2 )}Vを取り出す電
位取り出し端子を構成する。
【0011】
ここで、抵抗値R2 より大きい抵抗値R1 を形成する抵抗体は、分離層13に
よって形成された抵抗島内にある抵抗体(Pタイプ層18)と分離層13によっ
て形成された別の抵抗島内にある抵抗体(Pタイプ層19)とが直列に接続され
て、すなわち抵抗値R1 が分割されて形成されている。
【0012】
抵抗値R1 を分割して形成することは、抵抗体の相対比{R1 /(R1 +R2
)}の電圧依存性を最小限に抑え、分割点での中間電位を精度良く取り出せる。
【0013】
このことを詳述する。今、抵抗値R1 とR2 との比を2対1、すなわちR1 :
R2 =2:1の場合を考えると、一つの抵抗島内にある第1の抵抗体(Pタイプ
層17により抵抗値R2 を形成)と、別の抵抗島内にある第2の抵抗体{Pタイ
プ層18により抵抗値(1/2)R1 を形成}と、更に別の抵抗島内にある第3
の抵抗体{Pタイプ層19により抵抗値(1/2)R1 を形成}とし、端子A,
B間の印加電圧Vに対して、各抵抗体の両端に(1/3)Vの電圧が印加される
。
【0014】
この結果、各抵抗体におけるPN接合に生ずる空乏層の幅が同じとなって、す
なわち各抵抗体の抵抗値が同じように変化して、抵抗体の相対比{R1 /(R1
+R2 )}が印加電圧に依存しなくなる。
【0015】
上述の例は、高い抵抗値をもつ抵抗体を分割して第1,第2,第3の抵抗体を
同じにした理想的な場合を説明したが、必ずしも分割して各抵抗体が同じになる
とは限らない。しかし、各抵抗体が同じにならなくても程度の差こそあれ、印加
電圧依存性を抑える効果をもっている。
【0016】
上述の如く、本考案に係る半導体装置は、抵抗体が分割され、該抵抗体の両端
に電圧が印加された際に分割された部分から中間電位が取り出されてなる半導体
装置において、分割して形成された複数の抵抗体のうち高い抵抗値を有する抵抗
体を更に分割し、かつ分割された抵抗体の各々を別々の抵抗島内に形成してなる
構成のため、抵抗を分割して形成された複数の抵抗の相対比の電圧依存性を最小
限に抑えることができ、分割点での中間電位を精度よく取り出すことができる等
の効果が生じる。
【図1】半導体装置の実施例を示す断面図。
【図2】従来例を示し、半導体装置の断面図。
【図3】従来例を示し、図2の等価回路図。
【図4】従来例を示し、電圧(V)と電流(I)の特性
図。
図。
3,13 分離層
6,7,17,18,19 抵抗体
A,B,C 電極端子
Claims (1)
- 【請求項1】 抵抗体が分割され、該抵抗体の両端に電
圧が印加された際に分割された部分から中間電位が取り
出されてなる半導体装置において、分割して形成された
複数の抵抗体のうち高い抵抗値を有する抵抗体を更に分
割し、かつ分割された抵抗体の各々を別々の抵抗島内に
形成してなる構成の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1671891U JPH04117463U (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1671891U JPH04117463U (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04117463U true JPH04117463U (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=31903645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1671891U Pending JPH04117463U (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04117463U (ja) |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP1671891U patent/JPH04117463U/ja active Pending
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