JPH0411785B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、マイクロ波処理して、被処理物を加
熱、濃縮、脱水、乾燥、殺菌、焼却、反応等を行
う処理装置に係わり、特にマイクロ波照射領域を
区画する位置において、すなわちマイクロ波の照
射が行われるマイクロ波照射領域の境界を形成す
る位置において、マイクロ波の漏出を防ぎつつ、
被処理物の移動を可能にするマイクロ波遮蔽部が
形成された乾燥等の処理装置に関する。

〈従来の技術〉 近年、廃棄物処理の分野や化学工業、医薬品製
造業、食品工業等の分野などにおいて、マイクロ
波を利用して加熱、濃縮、脱水、乾燥、殺菌、焼
却、反応等の処理を行うことが多くなつてきてい
る。上記のような処理を行う場合、処理の対象に
よつては、何段階にもマイクロ波処理を行い、そ
れらの段階においてそれぞれ個別の温度等の条件
を制御することが望まれる。

このような目的を達成しようとするものとし
て、特開昭50−73262号公報に記載された技術が
ある。これは、トンネル型のマイクロ波乾燥ユニ
ツト４２，４３，４４，４５を直列に配置し、そ
れぞれのマイクロ波乾燥ユニツトに移送用のベル
トコンベア４８，４９，５０，５１を備え、ベル
トコンベア４８，４９，５０，５１の端部を転送
ユニツト５４，５５，５６，５８，５９，６０で
接続した構成となつている。この各トンネル型の
マイクロ波乾燥ユニツト４２，４３，４４，４５
は、横接された筒状のトンネルハウジンング内を
貫通して配した上記ベルトコンベア上に載置され
た材木に１台のマイクロ波発生ユニツト１８から
のマイクロ波を照射するもので、含水率検出ユニ
ツト２２とマイクロ波用制御ユニツト２４を備え
ており、各マイクロ波乾燥ユニツト毎にマイクロ
波の照射を制御できるようになつている。従つ
て、転送ユニツト５４，５５，５６，５８，５
９，６０で順次各マイクロ波乾燥ユニツトに搬送
された木材は、各段階において適切なマイクロ波
の照射が行われるようになつている。

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかし、この各マイクロ波乾燥ユニツトのトン
ネルハウジング１１の出入口は開口しており、マ
イクロ波の漏れを防ぐことがきるようなマイクロ
波遮蔽部は形成されていない。各マイクロ波乾燥
ユニツトから漏れるマイクロ波が隣接するマイク
ロ波乾燥ユニツトに影響しないように、筒状のト
ンネルハウジング１１を互に並列に配置し、か
つ、転送ユニツトによつて各マイクロ波乾燥ユニ
ツト間に間隔を設けるようにしている。

上記の装置の如く、ベルトコンベアやパイプ輪
送装置等の搬送手段によつて被処理物を搬送しな
がら乾燥等の処理を行うに際して、マイクロ波照
射領域を複数に分け、それぞれの領域に個別のマ
イクロ波を導入して、その領域のマイクロ波の制
御を可能にしようとする場合、ただ単に複数のマ
イクロ波乾燥機などのマイクロ波処理機を直列に
つなぐと、機品と機器との間に被処理物を搬送す
る別の手段等が必要となり装置全体が大きなもの
になつてコンパクトにならない。

一方、同一のマイクロ波照射室に複数のマイク
ロ波発生手段を設けたのでは、隣接のマイクロ波
発生手段からのマイクロ波が干渉し初期の目的が
達成できない。この場合、マイクロ波遮蔽壁（反
射壁）を設ければよいのであるが、搬送手段が邪
魔になり、搬送手段を横切つてまマイクロ波遮蔽
壁を設けることができない。

本発明は、かくの如き問題に鑑みてなされたも
ので、マイクロ波照射領域を区画する位置におい
て、すなわちマイクロ波の照射が行われるマイク
ロ波照射領域の境界を形成する位置において、マ
イクロ波の漏出を防ぎつつ、被処理物の移動を可
能にするマイクロ波遮蔽部を形成しようとするも
ので、スクリユーやペロペラなどのスクリユー翼
がその回転軸に沿つて方向に被処理物を搬送また
は通過させても自身は所定の位置に常にあること
に着目してなされたものである。

〈問題点を解決するための手段〉 すなわち本発明は、円筒体内に被処理物を通過
させて該被処理物をマイクロ波処理する処理装置
において、上記円筒体内のマイクロ波照射領域を
複数に区画する位置に、マイクロ波反射材を使用
したスクリユー翼を、回転可能にその中心軸を上
記円筒体の軸線の方向に略一致させて設け、これ
によりマイクロ波遮蔽部を形成したことを特徴と
する乾燥等の処理装置である。

上記円筒体は、マイクロ波反射材で形成され、
マイクロ波発生手段によつて該円筒体内にマイク
ロ波が導かれているものでもよく、また、マイク
ロ波透過材で形成されてマイクロ波照射室に設け
られているものでもよい。

上記円筒体内のマイクロ波照射領域を複数に区
画する位置とは、円筒体内においてマイクロ波発
生手段の数（複数）に対応してそれぞれマイクロ
波の照射が行われるマイクロ波照射領域相互の境
界を形成する位置である。すなわち、上記円筒体
がマイクロ波反射材で形成され、複数のマイクロ
波発生手段が該円筒体の軸線に沿う方向に設けら
れた処理装置においては、例えば、円筒体におけ
る二つマイクロ波発生手段の接続部の間（マイク
ロ波導入部間）の該円筒体内の適宜な位置に上記
マイクロ波反射材を使用したスクリユー翼を回転
可能にその中心軸を該円筒体の軸線の方向に略一
致させて設ければよい。上記円筒体がマイクロ波
透過材で形成されてマイクロ波照射室に設けられ
いる処理装置においては、例えば該マイクロ波照
射室を複数に分割するマイクロ波反射壁に対応し
た該円筒体内の位置に上記マイクロ波反射材を使
用したスクリユー翼を回転可能にその中心軸を該
円筒体の軸線の方向に略一致させて設ければよ
い。

上記マイクロ波反射材を使用したスクリユー翼
により、マイクロ波遮蔽部を形成した以外の上記
円筒体内の空間は、区画されたマイクロ波照射領
域となるわけで、必要により該空間に被処理物を
移送するマイクロ波透過材で形成されたスクリユ
ー翼を設けてもよい。この場合、上記マイクロ波
反射材を使用したスクリユー翼と軸線を一致させ
て、一体的に設けるのが好ましい。

また、上記マイクロ波反射材を使用したスクリ
ユー翼は、全てをマイクロ波反射材で構成いても
よく、また、マイクロ波透過材で形成された翼部
の表面に、マイクロ波反射材を張り付けることに
より構成してもよい。

〈作用〉 上記の構成の乾燥等の処理装置においては、円
筒体を通過している粒体、スラリー、粘性物、液
体等の被処理物にマイクロ波が照射され、加熱、
濃縮、脱水、乾燥、殺菌、焼却、反応等の処理が
行われる。マイクロ波照射領域を区画する位置の
円筒体内に設けられたマイクロ波反射材を使用し
たスクリユー翼により、マイクロ波遮蔽部が形成
され、上記マイクロ波が遮断されるが、上記被処
理物はこのスクリユー翼が回転することにより少
ない抵抗で通り抜け、順次処理が行われる。

〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説
明する。

第１図において符号１０で示すものは、上部の
開口が上蓋１１により閉塞され、下部にコーン部
１２が形成された竪型の円筒体である。この円筒
体１０は、金属により形成されたもので、その上
蓋１１には、有害物質を含む含水物等の被処理物
を該円筒体１０内に投入する投入口１３が設けら
れ、かつ、その側壁１４の上部位置にはガス排出
口１５が設けられるとともに、コーン部１２の下
部は上記被処理物の排出口１６となつており、こ
の排出口１６には排出バルブ１７が取り付けられ
ている。そして、上記投入口１３には、被処理物
を受け入れるホツパ１８が一端に設けられたスク
リユーフイーダ１９の他端が接続され、上記ガス
排出口１５は凝縮器２０に接続されている。ま
た、上記投入口１３、排出口１６、ガス排出口１
５は、後記するマイクロ波発生手段からのマイク
ロ波に対していずれもカツトオフとなる大きさに
形成されている。

さらに、上記円筒体１０の側壁１４の上部の所
定位置および下部の所定位置には、それぞれ金属
製のマイクロ波導波管２１ａ，２１ｂの一端が、
その管路を該側壁１４に形成された貫通孔に連通
させて接続されており、この各マイクロ波導波管
２１ａ，２１ｂの他端に、温度コントローラ２２
ａ，２２ｂが付属されたマイクロ波発振装置２３
ａ，２３ｂがそれぞれ設けられている。また、上
記マイクロ波導波管２１ａ，２１ｂが接続された
側壁１４の貫通孔には、セラミツク、ガラス、テ
フロン等の誘電体で形成された仕切板２４ａ，２
４ｂが該貫通孔を閉塞してそれぞれ設けられてい
る。そして、上記マイクロ波発振装置２３ａ，２
３ｂ、マイクロ波導波管２１ａ，２１ｂ等が、そ
れぞれ円筒体１０内にマイクロ波を導いてマイク
ロ波の照射領域を形成するマイクロ波発生手段２
５ａ，２５ｂを構成している。

一方、上記円筒体１０の中心には、金属製の回
転軸２６がその軸線を該円筒体１０の軸線に一致
させて配設されている。この回転軸２６は、上端
が上記上蓋１１を貫通し、下端がコーン部１２の
上部の支持部材２７まで延びるもので、軸受２８
ａ，２８ｂによつて該上蓋１１と支持部材２７に
回転自在に支承されており、その上端には駆動モ
ータ等の駆動装置２９が連結されている。また、
この回転軸２６には、被処理物を移送するスクリ
ユー翼３０が回転軸２６の長さ方向に沿つて設け
られている。このスクリユー翼３０は、その上方
部と下方部が、回転軸２６に嵌着されたマイクロ
波透過材製の軸部３１ａ，３１ｂと、内縁がこの
軸部３１ａ，３１ｂの外周面に固定され、外縁が
円筒体１０の側壁１４の内周面に近接して位置す
るとともに、外縁側が内縁側より下方になるよう
に傾斜されたマイクロ波透過材製の翼部３２ａ，
３２ｂとから成り、また、その中間部が、上記回
転軸２６に内縁を直接固定され、上記翼部３２
ａ，３２ｂと同形状をなし、該翼部３２ａ，３２
ｂに連続して形成された金属製の翼部３３から成
り、上記上方部と下方部がマイクロ波透過部３４
を形成し、上記中間部がマイクロ波遮蔽部３５と
なつている。

そして、上記マイクロ波遮蔽部３５が、上記各
マイクロ波導波管２１ａ，２１ｂの円筒体１０へ
の接続部間つまりマイクロ波導入部間に位置して
おり、このマイクロ波遮蔽部３５により、円筒体
１０内が上方のマイクロ波照射領域A₁と下方の
マイクロ波照射領域A₂とに区画されている。

上記マイクロ波透過材とは、一般に誘電体と称
され、誘電損失が小さく、マイクロ波を透過させ
るもので、テフロン、ガラス、セラミツクス、ポ
リプロピレン、ポリエチレン、石英、アルミナ等
が挙げられる。一方、上記マイクロ波遮蔽部３５
を構成する翼部３３の素材である金属は、マイク
ロ波を反射させるマイクロ波反射材である。

しかして、上記処理装置において、汚泥などの
有害な物質を含む含水物等の被処理物を乾燥処理
する場合は、まず、駆動装置２９を作動して回転
軸２６を回転させ、スクリユー翼３０を回転させ
る。次いで、各マイクロ波発振装置２３ａ，２３
ｂを作動してマイクロ波をそれぞれ発振させ、こ
の各マイクロ波を、マイクロ波導波管２１ａ，２
１ｂから誘電体で形成された仕切板２４ａ，２４
ｂを透過させて円筒体１０内に導く。この状態
で、スクリユーフイーダ１９を作動して、ホツパ
１８内に貯蔵された被処理物を投入口１３から円
筒体１０内に連続的に投入し、または、排出バル
ブ１７を所定のタイミングで開状態にする。

すると、被処理物は、スクリユー翼３０の上面
の螺旋面上に落下し、その傾斜と重力とによつて
円筒体１０の内周面に接しながら回動し、次第に
下方に移送される。この円筒体１０内には、金属
製の翼部３３で形成されたマイクロ波遮蔽部３５
により区画された上下のマイクロ波照射領域A₁，
A₂が存在するが、このマイクロ波照射領域A₁，
A₂における被処理物の温度は、各温度コントロ
ーラ２２ａ，２２ｂによりそれぞれ最適に制御さ
れる。従つて、被処理物が円筒体１０内に形成さ
れた上記各マイクロ波照射領域A₁，A₂を経由す
る間に、そのマイクロ波を順次吸収して徐々に効
率よく乾燥加熱される。

すなわち、被処理物は投入口１３からスクリユ
ー翼３０上に落下した時点では多くの水分を含有
しているが、スクリユー翼３０によつて下方に移
送され、まず、上方のマイクロ波照射領域A₁に
おいてそのマイクロ波を吸収して乾燥加熱され、
次に、下方のマイクロ波照射領域A₂に送られて
そのマイクロ波を吸収し、さらに乾燥加熱され
る。そして、所定の含水率の乾燥物となつて排出
口１６から排出される。また、被処理物の乾燥加
熱により生じた水蒸気は、分解ガスとともにガス
排出口１５から凝縮器２０に導かれて冷却され、
凝縮分離される。

ここで、上記処理装置にあつては、スクリユー
翼３０の上に落下した被処理物は、比較的撹拌さ
れることなく下方に移送されるから、乾燥した被
処理物がダストとして飛散することが少ない。

また、円筒体１０には二つのマイクロ波発生手
段２５ａ，２５ｂが付設され、これら二つのマイ
クロ波発生手段２５ａ，２５ｂに対応して、円筒
体１０内に二つのマイクロ波照射領域A₁，A₂が
形成されるとともに、これらマイクロ波照射領域
A₁，A₂における被処理物の温度は、それぞれ温
度コントローラ２２ａ，２２ｂにより制御されて
いるから、被処理物の物性が乾燥加熱過程におい
て変化しても、容易にその物性に最適な温度で乾
燥加熱することができ、加熱効率が高まる。さら
に、スクリユー翼３０は竪型となつているため、
横型のスクリユー翼の場合に比べ、被処理物の自
由表面積ははるかに大きい。

また、上記処理装置においては、スクリユー翼
３０の回転速度を変えることによつて被処理物の
円筒体１０内における滞留時間を自由に調整する
ことができる。さらに、スクリユー翼３０の各翼
部３２ａ，３２ｂ，３３は、その外縁が内縁より
下方になるように傾斜せしめられているので、傾
斜していない水平のスクリユー翼では大きなピツ
チにしないと落下しない被処理物も、小さなピツ
チで落下させることができ、装置を小型化するこ
とができる。装置の気密性の保持も容易である。

ところで、上記実施例においては、円筒体１０
に二つのマイクロ波発生手段２５ａ，２５ｂを付
設して円筒体１０内に二つのマイクロ波照射領域
A₁，A₂を形成したが、円筒体１０にさらに多く
のマイクロ波発生手段を付設すると、被処理物の
温度をより小刻みに制御することができ、好都合
である。

さらに、第２図に示すように、複数の金属製の
オーブン室３６ａ，３６ｂを有するマイクロ波照
射室３７内に、セラミツクス、ガラス、テフロン
等のマイクロ波透過材で形成された竪型の円筒体
５０を配設し、このマイクロ波照射室３７の各オ
ーブン室３６ａ，３６ｂにマイクロ波導波管２１
ａ，２１ｂを介してマイクロ波発振装置２３ａ，
２３ｂを付設して、構成することもできる。

この場合、マイクロ波導波管２１ａ，２１ｂ、
マイクロ波発振装置２３ａ，２３ｂ等がマイクロ
波発生手段２５ａ，２５ｂを構成し、各マイクロ
波発振装置２３ａ，２３ｂにより発振されたマイ
クロ波は各オーブン室３６ａ，３６ｂに導かれ、
円筒体５０の側壁５１の略全面から該側壁５１を
透過して、円筒体５０の内部に入る。このため、
スクリユー翼３０の上面に乗つて移送される被処
理物は、この全周からマイクロ波を受けることが
できる。

なお、第２図において、符号３８で示すものは
不活性ガスの供給口であり、また、各オーブン室
３６ａ，３６ｂの境界部（マイクロ波反射壁）３
９は無論、金属で形成されている。この境界部３
９に対応する円筒体５０内の位置が、オーブン室
（マイクロ波照射室）３６ａにとつては被処理物
の出口であり、オーブン室（マイクロ波照射室）
３６ｂにとつては入口であるとともに、マイクロ
波照射室３７にとつてはマイクロ波照射領域A₁，
A₂を区画する位置でもある。この円筒体５０内
のマイクロ波照射領域A₁，A₂を区画する位置に
は、マイクロ波反射材を使用したスクリユー翼
が、回転可能にその中心軸を上記円筒体の軸線の
方向に略一致させて設けられ、マイクロ波遮蔽部
３５が形成されている。すなわち、スクリユー翼
３０は、軸部が円筒体５０内で金属製の回転軸２
６とフランジ結合によつて連結されたセラミツク
ス等のマイクロ波透過材製の回転軸５２と一体と
なつており、しかも、マイクロ波遮蔽部３５は、
マイクロ波透過材で形成された翼部の下面に、金
属部材（マイクロ波反射材）３５ａを張り付ける
ことにより形成されている。なお、マイクロ波遮
蔽部３５の回転軸５２は、金属製にするのが好ま
しいが、その軸径がマイクロ波に対してカツトオ
フとなる大きさであれば、マイクロ波透過材で形
成しても構わない。

上記の実施例では、二つのマイクロ波照射領域
A₁，A₂の境界にのみマイクロ波遮蔽部３５を設
けたが、マイクロ波照射領域A₁に対する境界部
３９の関係のように、マイクロ波照射領域A₂の
下方に円筒体５０が底板を貫通して外部に出るよ
うに連続して設けられているような場合、その底
板に対応する円筒体５０内の位置に、マイクロ波
反射材を使用したスクリユー翼を、回転可能にそ
の中心軸を上記円筒体の軸線の方向に略一致させ
て設け、マイクロ波遮蔽部を形成してマイクロ波
の下方への漏出を防止するようにしてもよい。こ
れは、マイクロ波照射領域A₁の上方に円筒体５
０が上蓋１１を貫通して延びている場合も同様で
ある。

また、上記において、スクリユー翼３０は、等
ピツチで単一のものとした。しかし、被処理物の
物性は取り扱うものによつて種々変化し、また、
乾燥加熱される過程においても、含水率が減少す
るにつれて変化する。したがつて、これに対応す
るためにスクリユー翼３０の形状やピツチ等を適
当に変えてもよい。

第３図は、スクリユー翼３０の下方側のピツチ
P₁を上方のピツチP₂より小さくしたものである。
これは、スクリユー翼３０の上方側においては被
処理物は含水量が多く流れが悪いが、スクリユー
翼３０の下方側では含水量が減少して流下速度が
早くなり、ダストが発生するおそれがでてくるた
め、これを防止したものである。なお、この例の
様にスクリユー翼３０を傾斜形とする場合は、ス
クリユー翼３０の半径方向の傾きθは、水平に対
して5゜〜40゜が好ましい。同様な目的で、第４図
に示すように、スクリユー翼３０の上段部３０ａ
を傾斜形とし、下段部３０ｂを水平形としてもよ
い。

第５図は、複数のスクリユー翼３０を、その間
にスペーサ４０を介在させて回転軸２６に取り付
けたものである。この場合、被処理物の物性およ
び乾燥加熱過程におけるその物性の変化に応じ
て、上記のように水平形のスクリユー翼と組み合
わせたり、ピツチや長さ等を適宜選ぶと、被処理
物は各スクリユー翼３０上では比較的撹拌されず
に下方に移送されるが、スペーサ４０が介在する
不連続部分ではダストの飛散が生じない程度に落
下撹拌されることになり、乾燥効率が高まる。

第６図は、スクリユー翼３０の外縁に複数のピ
ース４１を設けたものである。この各ピース４１
は、スクリユー翼３０の半径方向に延びる複数の
長孔４１ａを有するもので、スクリユー翼３０の
外縁に該外縁を貫通して螺着された複数のボルト
４２ａを、該長孔４１ａに通しこれにナツト４２
ｂを螺合せしめることにより、スクリユー翼３０
に係止されており、そのスクリユー翼３０の半径
方向への移動は自在となつている。このため、ピ
ース４１は自重により円筒体１０，５０の内周面
に当接して回動する。したがつて、被処理物がス
クリユー翼３０と円筒体１０，５０の内周面との
間より落下することなく、円筒体１０，５０にお
ける被処理物のシヨートパスが防止される。ま
た、このピース４１を取り付けることにより、ス
クリユー翼３０全体の外径は自動的に円筒体１
０，５０の内径に略一致するようになるため、ス
クリユー翼３０の外周を精密に加工する必要がな
く、その製作が極めて容易となる。なお、ボルト
４２ａとナツト４２ｂによつてピース４１を適当
な位置に固定して円筒体１０，５０の円周面とス
クリユー翼３０との間〓を調整してもよい。

さらにまた、第７図に示すように、円筒体１０
を水平に配設して装置を構成することもできる。
この図において、符号４３で示すものは複数のガ
ス排出口１５を覆つて設けられたダクトであり、
このダクト４３にガス排出管４４が設けられてい
る。また、この実施例においては、円筒体１０と
回転軸２６をマイクロ波的に短縮させるために、
中心部とスクリユー翼３０の外縁に、セラミツク
ス等のマイクロ波透過材で形成したチヨーク部材
４５，４６がそれぞれ設けられている。

さらに、上記のこれら装置は、これを耐熱鋼等
によつて形成することにより、乾留、焼却、触媒
再生等の燃焼装置として使用することもでき、ま
た、被処理物の代りに触媒を用い円筒体１０，５
０内に被反応流体を流通するようにして移動層触
媒反応装置としても使用できる。この場合、マイ
クロ波透過材として処理温度により適当な誘電体
を選択する必要があることは無論である。したが
つて、上記の装置は、廃棄物処理の分野や化学工
業、医薬品製造業、食品工業等の各種分野などに
おいて、粒体、スラリー、粘性物、液体等にマイ
クロ波を利用して加熱、濃縮、脱水、乾燥、殺
菌、焼却、反応等の処理を行うことができること
は、言うまでもない。

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明は、円筒体内に被
処理物を通過させ該被処理物をマイクロ波処理す
るものであつて、上記円筒体内のマイクロ波照射
領域を複数に区画する位置に、マイクロ波反射材
を使用したスクリユー翼が、回転可能にその中心
軸を上記円筒体の軸線の方向に略一致させて設
け、マイクロ波遮蔽部を形成したことにより、マ
イクロ波遮蔽部においては、マイクロ波の通過ま
たは漏れを防ぎつつ被処理物の移動を可能とし、
照射効率を向上させることができる。

また、複数段のマイクロ波照射領域を形成する
場合、極めて簡単に形成することができ、それぞ
れのマイクロ波照射領域におけるマイクロ波処理
を独立して調整可能ならしめると共に、各マイク
ロ波照射領域間の転送ユニツト等の搬送機構を簡
素化して装置全体をコンパクトな構成にすること
が可能となり、運転も大幅に簡素化することが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面略図、第
２図は他の実施例を示す断面略図、第３図ないし
第６図はスクリユー翼の他の構成を示すもので、
第３図は下方のピツチを上方より小さくした場合
の断面略図、第４図は傾斜形の翼と水平形の翼と
を組み合わせた場合の断面略図、第５図は複数の
スクリユー翼をスペーサを介して組み合わせた場
合の断面略図、第６図ａはスクリユー翼の外縁に
ピースを設けた場合の断面略図、第６図ｂは同平
面図である。また、第７図および第８図は円筒体
を水平に配設した実施例を示すもので、第７図は
断面略図、第８図は第７図の−矢視断面略図
である。 １０……円筒体（マイクロ波反射材で形成され
た円筒体）、２５ａ，２５ｂ……マイクロ波発生
手段、３２ａ，３２ｂ……翼部（マイクロ波透過
材で形成されたスクリユー翼）、３３……翼部
（マイクロ波反射材を使用したスクリユー翼）、３
４……マイクロ波透過部、３５……マイクロ波遮
蔽部、３５ａ……金属部材（マイクロ波反射材）、
３７……マイクロ波照射室、３９……境界部（マ
イクロ波反射壁）、５０……円筒体（マイクロ波
透過材で形成された円筒体）、A₁，A₂……マイク
ロ波照射領域。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 円筒体内に被処理物を通過させて該被処理物
   をマイクロ波処理する処理装置において、上記円
   筒体内のマイクロ波照射領域を複数に区画する位
   置に、マイクロ波反射材を使用したスクリユー翼
   が、回転可能にその中心軸を上記円筒体の軸線の
   方向に略一致させて設けられていることを特徴と
   する乾燥等の処理装置。 ２ 上記円筒体は、マイクロ波反射材で形成さ
   れ、かつ、マイクロ波発生手段によつて該円筒体
   内にマイクロ波が導かれていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の乾燥等の処理装置。 ３ 上記円筒体は、マイクロ波透過材で形成され
   てマイクロ波照射室に設けられており、また上記
   マイクロ波照射領域を複数に区画する位置が、上
   記マイクロ波照射室のマイクロ波反射壁に対応し
   た位置である特許請求の範囲第１項記載の乾燥等
   の処理装置。 ４ 上記円筒体内には、上記マイクロ波反射材を
   使用したスクリユー翼と軸線を一致させて、上記
   区画されたマイクロ波照射領域に、被処理物を移
   送するマイクロ波透過材で形成されたスクリユー
   翼が設けられていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項及至第３項の乾燥等の処理装置。