JPH0412039B2 - - Google Patents
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- JPH0412039B2 JPH0412039B2 JP57179821A JP17982182A JPH0412039B2 JP H0412039 B2 JPH0412039 B2 JP H0412039B2 JP 57179821 A JP57179821 A JP 57179821A JP 17982182 A JP17982182 A JP 17982182A JP H0412039 B2 JPH0412039 B2 JP H0412039B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
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- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0734—Shaping the laser spot into an annular shape
-
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- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
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- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0977—Reflective elements
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- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザ光の出力を任意の出力に増大
できるようにしたレーザ光源装置に関する。
できるようにしたレーザ光源装置に関する。
今日のレーザ加工の普及に従つて、レーザ光の
大出力化の要請がますます高まりつつある。
大出力化の要請がますます高まりつつある。
先ず、詳細な説明をするに当つて、レーザ光源
装置の概略を説明する。第1図に最も一般的なレ
ーザ光源装置を示す。図において、レーザ発振器
1から出たレーザ光2はθの広がり角をもつてお
り、加工用対物レンズ3の焦点面においてスポツ
ト径dに絞られる。このようにしてスポツト径d
に絞られたレーザ光によつてレーザ加工が行なわ
れる。
装置の概略を説明する。第1図に最も一般的なレ
ーザ光源装置を示す。図において、レーザ発振器
1から出たレーザ光2はθの広がり角をもつてお
り、加工用対物レンズ3の焦点面においてスポツ
ト径dに絞られる。このようにしてスポツト径d
に絞られたレーザ光によつてレーザ加工が行なわ
れる。
この時のスポツト径dは、次式で表わされる。
d=f・θ ……(1)
ここでfは、レンズ3の焦点距離である。
従来のレーザ発振器を用いてレーザ加工を行な
うに当つて、大出力のレーザ光を必要とする場合
は、CO2レーザのような出力の大きなレーザ光を
開発するか、或は、YAGレーザのように結晶体
から発生するレーザ光を光増幅器を介して出力の
増大を計るかのいづれかであつた。
うに当つて、大出力のレーザ光を必要とする場合
は、CO2レーザのような出力の大きなレーザ光を
開発するか、或は、YAGレーザのように結晶体
から発生するレーザ光を光増幅器を介して出力の
増大を計るかのいづれかであつた。
この光増幅器を使つたレーザ光の出力の増加
は、第2図に示すように、光増幅器1と共振器ミ
ラー2を有するレーザ発振器3の後に、レーザ発
振器の光増幅部4のみを有する増幅器5を1個乃
至複数個並べて設け、大出力のレーザ光を得るよ
うにしていた。
は、第2図に示すように、光増幅器1と共振器ミ
ラー2を有するレーザ発振器3の後に、レーザ発
振器の光増幅部4のみを有する増幅器5を1個乃
至複数個並べて設け、大出力のレーザ光を得るよ
うにしていた。
併しながらレーザ発振器自体の出力が決つてい
るので、いくら光増幅器を使つて増幅してもその
出力には上限があり、特にYAGレーザの場合は、
通過するレーザ光のパワー密度が、YAG結晶の
耐パワー限界を越えることができないため、連続
出力がせいぜい1〜2KWが限度であつた。
るので、いくら光増幅器を使つて増幅してもその
出力には上限があり、特にYAGレーザの場合は、
通過するレーザ光のパワー密度が、YAG結晶の
耐パワー限界を越えることができないため、連続
出力がせいぜい1〜2KWが限度であつた。
その結果、今日のような大出力を必要とするレ
ーザ加工は困難であり、更にますます大出力のレ
ーザ光を必要としている時代の趨勢にそぐわない
のが実情である。
ーザ加工は困難であり、更にますます大出力のレ
ーザ光を必要としている時代の趨勢にそぐわない
のが実情である。
本発明は上記実情を鑑みなされたものであつ
て、要求に応じた出力のレーザ光を自由に得られ
るレーザ光源装置を提供せんとするものである。
て、要求に応じた出力のレーザ光を自由に得られ
るレーザ光源装置を提供せんとするものである。
即ち本発明は、従来のような光増幅器を用いな
いで、複数のレーザ発振器から出るレーザ光を光
変換器によつて環状のレーザ光に変換し、この変
換されたレーザ光を円環状反射ミラーによつて反
射させ、レーザ光の光軸を一致させて重ね合せる
ようにしたものであつて、複数個のレーザ発振器
と、光変換器と、円環状反射ミラーとを備え、1
個のレーザ発振器から出るレーザ光を円環状反射
ミラーの中心を透過させ、他の複数のレーザ発振
器から出るレーザ光を光変換器を介して円環状反
射ミラーに反射させ、上記円環状反射ミラーの中
心を透過してきたレーザ光と円環状反射ミラーを
反射してきた、円環状の複数のレーザ光との光軸
を一致させて重ね合せ、複数のレーザ発振器の出
力を調整することによつて、重ね合せられたレー
ザ光の総合出力を任意に調節するようにしたもの
である。
いで、複数のレーザ発振器から出るレーザ光を光
変換器によつて環状のレーザ光に変換し、この変
換されたレーザ光を円環状反射ミラーによつて反
射させ、レーザ光の光軸を一致させて重ね合せる
ようにしたものであつて、複数個のレーザ発振器
と、光変換器と、円環状反射ミラーとを備え、1
個のレーザ発振器から出るレーザ光を円環状反射
ミラーの中心を透過させ、他の複数のレーザ発振
器から出るレーザ光を光変換器を介して円環状反
射ミラーに反射させ、上記円環状反射ミラーの中
心を透過してきたレーザ光と円環状反射ミラーを
反射してきた、円環状の複数のレーザ光との光軸
を一致させて重ね合せ、複数のレーザ発振器の出
力を調整することによつて、重ね合せられたレー
ザ光の総合出力を任意に調節するようにしたもの
である。
又、円環状反射ミラーの反射面を曲面にするこ
とによつて反射したレーザ光の集光点を一致さ
せ、任意のスポツト径を有する任意出力のレーザ
光を得るようにすることも可能である。
とによつて反射したレーザ光の集光点を一致さ
せ、任意のスポツト径を有する任意出力のレーザ
光を得るようにすることも可能である。
以下本発明の一実施例についてその詳細を説明
する。先ず詳細な説明に当つて実施例の概略を第
6図を用いて説明する。図において1,23,4
はレーザ発振器である。5,6,7は光変換器、
8,9,10は円環状ミラーである。
する。先ず詳細な説明に当つて実施例の概略を第
6図を用いて説明する。図において1,23,4
はレーザ発振器である。5,6,7は光変換器、
8,9,10は円環状ミラーである。
レーザ発振器1から出たレーザ光30は、円環
状ミラー8,9,10の中心を透過する。一方他
のレーザ発振器2,3,4から出たレーザ光は、
光変換器5,6,7によつて円環状のレーザ光に
変換され、円環状反射ミラー8,9,10の反射
面に入射され、円環状ミラー8,9,10の中心
を透過しているレーザ光と、円環状反射ミラー
8,9,10によつて反射された円環状レーザ光
の光軸を一致させ、それぞれのレーザ光は重ね合
せられ出力が増加する。又、第8図に示すように
円環状反射ミラー30,40,50,60の反射
面を曲面にし、レーザ光の集光点を一致させ重ね
合せる。
状ミラー8,9,10の中心を透過する。一方他
のレーザ発振器2,3,4から出たレーザ光は、
光変換器5,6,7によつて円環状のレーザ光に
変換され、円環状反射ミラー8,9,10の反射
面に入射され、円環状ミラー8,9,10の中心
を透過しているレーザ光と、円環状反射ミラー
8,9,10によつて反射された円環状レーザ光
の光軸を一致させ、それぞれのレーザ光は重ね合
せられ出力が増加する。又、第8図に示すように
円環状反射ミラー30,40,50,60の反射
面を曲面にし、レーザ光の集光点を一致させ重ね
合せる。
このようにして重ね合せられたレーザ光は、レ
ーザ発振器1〜4の出力を調節器11によつて調
節することにより、その総合出力が調節される。
ーザ発振器1〜4の出力を調節器11によつて調
節することにより、その総合出力が調節される。
以下その詳細をさらに詳しく説明する。2個の
レーザ発振器を用いた最も基本的な実施例を第3
図に示す。図において、1及び4はレーザ発振
器、3は円環状ミラー、6は光変換器である。こ
の発振器1及び4、円環状ミラー3及び光変換器
6は、それぞれ、レーザ発振器1からのレーザ光
2が、円環状ミラー3の中心を透過し、レーザ発
振器4からのレーザ光5が光変換器6によつて円
環状レーザ光7に変換され、このレーザ光7が上
記円環状ミラー3によつて反射され、レーザ光2
と7が同軸光8の単一ビームとして重ね合せられ
るように配設されている。
レーザ発振器を用いた最も基本的な実施例を第3
図に示す。図において、1及び4はレーザ発振
器、3は円環状ミラー、6は光変換器である。こ
の発振器1及び4、円環状ミラー3及び光変換器
6は、それぞれ、レーザ発振器1からのレーザ光
2が、円環状ミラー3の中心を透過し、レーザ発
振器4からのレーザ光5が光変換器6によつて円
環状レーザ光7に変換され、このレーザ光7が上
記円環状ミラー3によつて反射され、レーザ光2
と7が同軸光8の単一ビームとして重ね合せられ
るように配設されている。
このようにして同軸光8として重ね合せられた
単一ビームは、レーザ発振器1と4の出力が同じ
である場合、レーザ発振器の約2倍の出力とな
る。
単一ビームは、レーザ発振器1と4の出力が同じ
である場合、レーザ発振器の約2倍の出力とな
る。
第4図及び第5図に光変換器の各種実施例を示
す。先ず第4図aは、頂角の等しい2個の円錐プ
リズム1を、それぞれ頂角を対向させて置き、こ
の2個の円錐プリズム1の距離を適当に選ぶこと
により、入射してきたレーザ光を、任意の直径の
円環光に変換することができる。この時の円環光
の外径は、D0+Dとなる。
す。先ず第4図aは、頂角の等しい2個の円錐プ
リズム1を、それぞれ頂角を対向させて置き、こ
の2個の円錐プリズム1の距離を適当に選ぶこと
により、入射してきたレーザ光を、任意の直径の
円環光に変換することができる。この時の円環光
の外径は、D0+Dとなる。
bは、aの変形であり、頂角の等しい2個の円
錐プリズム1の底面を対向させて置き、境界面に
対するレーザ光の入射角を小さくできるようにし
たものである。この時の円環光の直径はaの場合
と同様に両者間の距離を任意に選ぶことにより、
任意直径の円環光に変換することができる。c
は、頂角の等しい円錐部を両側に持つ一体プリズ
ムであり、この場合は、円環光の直径に応じて形
造くられるので、a,bのように調整することが
できない代りに、一定寸法の正確な直径になる円
環光が得られる。又dは頂角の等しい円錐凸プリ
ズムと円錐凹プリズムとを背中合せに付けて、途
中の円筒面で全反射させるようにしたものであ
り、上記a〜cのように、光束の中心部と外周部
が入れ替るのに対し、これは入れ替らないのが特
徴である。又第5図に示す実施例においてaは、
光束の中心部と外周部が入れ替らない場合を又b
は入れ替る場合の実施例である。
錐プリズム1の底面を対向させて置き、境界面に
対するレーザ光の入射角を小さくできるようにし
たものである。この時の円環光の直径はaの場合
と同様に両者間の距離を任意に選ぶことにより、
任意直径の円環光に変換することができる。c
は、頂角の等しい円錐部を両側に持つ一体プリズ
ムであり、この場合は、円環光の直径に応じて形
造くられるので、a,bのように調整することが
できない代りに、一定寸法の正確な直径になる円
環光が得られる。又dは頂角の等しい円錐凸プリ
ズムと円錐凹プリズムとを背中合せに付けて、途
中の円筒面で全反射させるようにしたものであ
り、上記a〜cのように、光束の中心部と外周部
が入れ替るのに対し、これは入れ替らないのが特
徴である。又第5図に示す実施例においてaは、
光束の中心部と外周部が入れ替らない場合を又b
は入れ替る場合の実施例である。
第6図は本発明の他の実施例であり、第2図の
実施例に対してレーザ発振器を多数設け、それぞ
れのレーザ発振器から出るレーザ光を重ね合せた
ものである。
実施例に対してレーザ発振器を多数設け、それぞ
れのレーザ発振器から出るレーザ光を重ね合せた
ものである。
この実施例の場合も、第2図に示したと同様レ
ーザ発振器1,2,3,4と光変換器5,6,7
及び円環状ミラー8,9,10の配置関係は、光
変換器5,6,7によつて内径/外径がそれぞれ
D1/2、D2/D3、D3/D4の円環光に変換された
レーザ発振器2,3,4からのレーザ光が円環状
ミラー8,9,10(45°入全反射ミラー)によ
つて、円環状ミラー8,9,10の中心を透過し
てきたレーザ発振器1からのレーザ光30の光軸
と一致するように反射され、同軸光12の単一ビ
ームとなるように配設されている。なお11は、
レーザ発振器2,3,4の出力を調整するための
出力調整器である。
ーザ発振器1,2,3,4と光変換器5,6,7
及び円環状ミラー8,9,10の配置関係は、光
変換器5,6,7によつて内径/外径がそれぞれ
D1/2、D2/D3、D3/D4の円環光に変換された
レーザ発振器2,3,4からのレーザ光が円環状
ミラー8,9,10(45°入全反射ミラー)によ
つて、円環状ミラー8,9,10の中心を透過し
てきたレーザ発振器1からのレーザ光30の光軸
と一致するように反射され、同軸光12の単一ビ
ームとなるように配設されている。なお11は、
レーザ発振器2,3,4の出力を調整するための
出力調整器である。
第8図は、円環状ミラー40,50,60の反
射面を曲面にし、それぞれのレーザの集光点を一
致させ、ビーム径を小さくするようにしたもので
ある。図において、レーザ発振器1からのレーザ
光20を曲面ミラー30に入射し、その反射光
は、円環状ミラー40,50,60の中心を透過
し、ある位置で集光する。一方レーザ発振器2,
3,4から出たレーザ光は、光変換器5,6,7
によつて円環光に変換されて円環状ミラー40,
50,60の反射面に入射し、この入射した円環
光は、前記レーザ光20と同光軸に且つ同じ集光
位置に反射され、同光軸の単一ビームとなる。
射面を曲面にし、それぞれのレーザの集光点を一
致させ、ビーム径を小さくするようにしたもので
ある。図において、レーザ発振器1からのレーザ
光20を曲面ミラー30に入射し、その反射光
は、円環状ミラー40,50,60の中心を透過
し、ある位置で集光する。一方レーザ発振器2,
3,4から出たレーザ光は、光変換器5,6,7
によつて円環光に変換されて円環状ミラー40,
50,60の反射面に入射し、この入射した円環
光は、前記レーザ光20と同光軸に且つ同じ集光
位置に反射され、同光軸の単一ビームとなる。
以上のように構成した本実施例の作用を以下に
説明する。
説明する。
第7図において、出力調整器(第6図参照)1
1によつて各レーザ発振器の出力を調整する。
1によつて各レーザ発振器の出力を調整する。
第7図に示すものは、第6図の実施例を適用し
たものであり、同軸光のビーム径がD4の場合の
レーザ出力20の出力分布を示す。
たものであり、同軸光のビーム径がD4の場合の
レーザ出力20の出力分布を示す。
図中21は、レーザ発振器1,2,3,4の出
力をそのままにした場合の出力分布であり、中央
部の出力が最大となつている。又出力分布22
は、レーザ発振器1,2,3の出力を適当に絞る
ことによつて得られ、フラツトな出力分布になつ
ていることが特徴である。
力をそのままにした場合の出力分布であり、中央
部の出力が最大となつている。又出力分布22
は、レーザ発振器1,2,3の出力を適当に絞る
ことによつて得られ、フラツトな出力分布になつ
ていることが特徴である。
このように、出力調整器11によつて、複数個
設けたレーザ発振器の出力を適当に調整すること
により、中心部の出力分布を低くした出力分布2
3、又中央部の出力のみを大きくした中高の出力
分布24、及び多重環状の出力分布25など任意
に出力分布を変え、使用目的に応じて調整され
る。
設けたレーザ発振器の出力を適当に調整すること
により、中心部の出力分布を低くした出力分布2
3、又中央部の出力のみを大きくした中高の出力
分布24、及び多重環状の出力分布25など任意
に出力分布を変え、使用目的に応じて調整され
る。
又上記21〜25の出力分布は、複数のレーザ
発振器のレーザ光が同軸光の単一ビームとして重
ね合され、その出力は、各レーザ発振器の出力が
加算された総合出力となる。
発振器のレーザ光が同軸光の単一ビームとして重
ね合され、その出力は、各レーザ発振器の出力が
加算された総合出力となる。
以上詳述した通り本発明のレーザ光源装置によ
れば、複数のレーザ発振器から出るレーザ光を、
光変換器と円環状ミラーを利用して、同軸光に重
ね合せて単一ビームにしたので、レーザ発振器の
出力に制限されることなく、複数のレーザ発振器
出力が加算された大きな出力のレーザビームとす
ることができ、工業用の適用分野が著じるしく拡
大された。又出力分布を使用目的に応じて変える
ことが可能となり、レーザ加工の新技術の開発に
寄与するところ大なるものがある。
れば、複数のレーザ発振器から出るレーザ光を、
光変換器と円環状ミラーを利用して、同軸光に重
ね合せて単一ビームにしたので、レーザ発振器の
出力に制限されることなく、複数のレーザ発振器
出力が加算された大きな出力のレーザビームとす
ることができ、工業用の適用分野が著じるしく拡
大された。又出力分布を使用目的に応じて変える
ことが可能となり、レーザ加工の新技術の開発に
寄与するところ大なるものがある。
又円環状ミラーの反射面を曲面にして、各レー
ザ光を集光させ、ビーム径を小さくすることによ
つて、レーザ発振器の数を増大させることがで
き、より一増の出力増大化が可能となり、ますま
す大出力化が要求される時代の趨勢に適合したレ
ーザ光源装置とすることができるなど優れた効果
を奏する。
ザ光を集光させ、ビーム径を小さくすることによ
つて、レーザ発振器の数を増大させることがで
き、より一増の出力増大化が可能となり、ますま
す大出力化が要求される時代の趨勢に適合したレ
ーザ光源装置とすることができるなど優れた効果
を奏する。
第1図は、レーザ光源装置の一般的なものを例
示し、レーザ光源装置の概略を説明するために示
した説明用図、第2図は従来例であり、光増幅器
を用いて大出力化を計つたレーザ光源装置、第3
図乃至第8図は本発明の実施例であり第3図はレ
ーザ発振器を2個使用した場合のレーザ光源装置
を、第4図及び第5図は、光変換器の実施例を、
第6図は多数のレーザ発振器を用いたレーザ光源
装置を、第7図は出力分布図を、又第8図は円環
状ミラーの反射面を曲面にしたレーザ光源装置を
示す。 1,2,3,4……レーザ発振器、5,6,7
……光変換器、8,9,10,40,50,60
……円環状ミラー。
示し、レーザ光源装置の概略を説明するために示
した説明用図、第2図は従来例であり、光増幅器
を用いて大出力化を計つたレーザ光源装置、第3
図乃至第8図は本発明の実施例であり第3図はレ
ーザ発振器を2個使用した場合のレーザ光源装置
を、第4図及び第5図は、光変換器の実施例を、
第6図は多数のレーザ発振器を用いたレーザ光源
装置を、第7図は出力分布図を、又第8図は円環
状ミラーの反射面を曲面にしたレーザ光源装置を
示す。 1,2,3,4……レーザ発振器、5,6,7
……光変換器、8,9,10,40,50,60
……円環状ミラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 複数のレーザ発振器と、レーザ発振器から出
るレーザ光を円環状に変える光変換器と、光変換
器によつて円環状に変換されたレーザ光の光軸を
一致させて重ね合せる円環状反射ミラーとより成
り、1個のレーザ発振器から出るレーザ光を円環
状反射ミラーの中心を透過させ、他の1個または
複数のレーザ発振器から出るレーザ光を光変換器
を介して円環状反射ミラーに反射させ、前記円環
状反射ミラーの中心を透過しているレーザ光と、
円環状反射ミラーに反射した複数の円環状レーザ
光の光軸を一致させ、レーザ光を重ね合せたこと
を特徴とするレーザ光源装置。 2 特許請求の範囲第1項に記載の円環状反射ミ
ラーにおいて、該反射ミラーの反射面を曲面とな
し、該反射面によつて反射されたレーザ光の集光
点を一致させ、レーザ光を重ね合せたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項におけるレーザ光源
装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179821A JPS5969979A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | レ−ザ光源装置 |
| US06/541,439 US4566765A (en) | 1982-10-15 | 1983-10-13 | Apparatus for summing several ring-shape laser beams |
| EP83110264A EP0106336B1 (en) | 1982-10-15 | 1983-10-14 | Laser source apparatus |
| DE8383110264T DE3379553D1 (en) | 1982-10-15 | 1983-10-14 | Laser source apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57179821A JPS5969979A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | レ−ザ光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969979A JPS5969979A (ja) | 1984-04-20 |
| JPH0412039B2 true JPH0412039B2 (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=16072475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57179821A Granted JPS5969979A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | レ−ザ光源装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4566765A (ja) |
| EP (1) | EP0106336B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5969979A (ja) |
| DE (1) | DE3379553D1 (ja) |
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- 1983-10-13 US US06/541,439 patent/US4566765A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-10-14 DE DE8383110264T patent/DE3379553D1/de not_active Expired
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4566765A (en) | 1986-01-28 |
| EP0106336B1 (en) | 1989-04-05 |
| DE3379553D1 (en) | 1989-05-11 |
| EP0106336A2 (en) | 1984-04-25 |
| JPS5969979A (ja) | 1984-04-20 |
| EP0106336A3 (en) | 1986-03-26 |
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