JPS60153023A - 高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置 - Google Patents
高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置Info
- Publication number
- JPS60153023A JPS60153023A JP975884A JP975884A JPS60153023A JP S60153023 A JPS60153023 A JP S60153023A JP 975884 A JP975884 A JP 975884A JP 975884 A JP975884 A JP 975884A JP S60153023 A JPS60153023 A JP S60153023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- mirror
- beam splitter
- arrow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0972—Prisms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/143—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、高出力のレーデ光を２分割以上する高出力
レーザ用ビームスノリツタ装置に関する。
レーザ用ビームスノリツタ装置に関する。
従来から、高出力のレーデ光を２分割して、２箇所で利
用することが試みられてきたが、その−例を示すと第１
図に示すように構成されている。
用することが試みられてきたが、その−例を示すと第１
図に示すように構成されている。
即ち、レーデ発振器１から出たレーデ光５は光路カバー
４を通シ、部分透過ミラー（ビームスシリツタ）２によ
シ、反射光７と透過光６に分割される。そして、反射光
７は１番目のステーションで用いられ、透過光６は更に
全反射ミラー３によシ反射されて、２番目のステーショ
ンで利用される。図中、８は集光レンズである。
４を通シ、部分透過ミラー（ビームスシリツタ）２によ
シ、反射光７と透過光６に分割される。そして、反射光
７は１番目のステーションで用いられ、透過光６は更に
全反射ミラー３によシ反射されて、２番目のステーショ
ンで利用される。図中、８は集光レンズである。
更に、２分割以上の場合、例えば３分割の場合を示すと
第２図のように構成され、第１図と同一箇所は同一符号
を付しである。この例からも明らかなように、部分透過
ミラー２を用いてｎ分割する場合、ｎ−１個の部分透過
ミラー２が必要である。
第２図のように構成され、第１図と同一箇所は同一符号
を付しである。この例からも明らかなように、部分透過
ミラー２を用いてｎ分割する場合、ｎ−１個の部分透過
ミラー２が必要である。
上記のようにレーザ光を分割する場合、必ず部分透過ミ
ラー２が必要となる。この部分透過ミラー２は一般に高
価なものとなる。例えば、ＩＫＷのＣＯ，レーデを２分
割するために、Ｚｎ５ｅ基板に部分反射コーティング（
部分透過コーティング）をしたものを用いる。この場合
、この部分透過ミラー２は金属基板からなる全反射ミラ
ー３０６倍程度の価格となる。
ラー２が必要となる。この部分透過ミラー２は一般に高
価なものとなる。例えば、ＩＫＷのＣＯ，レーデを２分
割するために、Ｚｎ５ｅ基板に部分反射コーティング（
部分透過コーティング）をしたものを用いる。この場合
、この部分透過ミラー２は金属基板からなる全反射ミラ
ー３０６倍程度の価格となる。
又、部分透過ミラー２であるため、レーザ光がその反射
コーテイング面、基板内部そして透過コーテイング面に
吸収されるため、ミラー自身が温度上昇し、ミラーの性
質が変化し、一般に言われる熱レンズ効果（温度上昇等
、熱的変化によシミラーが光学的な熱歪を受ける効果）
を起こし、レーザ光に対して光学的な歪を与えてしまう
。
コーテイング面、基板内部そして透過コーテイング面に
吸収されるため、ミラー自身が温度上昇し、ミラーの性
質が変化し、一般に言われる熱レンズ効果（温度上昇等
、熱的変化によシミラーが光学的な熱歪を受ける効果）
を起こし、レーザ光に対して光学的な歪を与えてしまう
。
この発明の目的は、部分透過ミラーを用いることなく２
分割以上に分割することができ、安価にして光学部品の
信頼性が高く、耐光強度が向上した高出力レーザ用ビー
ムスプリッタ装置を提供することである。
分割以上に分割することができ、安価にして光学部品の
信頼性が高く、耐光強度が向上した高出力レーザ用ビー
ムスプリッタ装置を提供することである。
この発明は、部分透過ミラーを用いず全反射ミラーを用
いてビームを多数に分割し、そのときレーデ光に対して
殆ど光学的な歪を与えない高出力レーザ用ビームスシリ
ツタ装置である。
いてビームを多数に分割し、そのときレーデ光に対して
殆ど光学的な歪を与えない高出力レーザ用ビームスシリ
ツタ装置である。
この発明の高出力レーザ用ビームスプリッタ装置は第３
図に示すように構成され、その原理説明図を第４図に示
す。
図に示すように構成され、その原理説明図を第４図に示
す。
従来例（第１図）と同一箇所は同一符号を付すと、レー
ザ発振器１から発射されたレーザ光５′は、保護と安全
のための・千イゾ状光路カバー４を通して、後述のよう
に下半分の部分だけ小形のビーム折曲げ用全反射ミラー
９へ導かれる。
ザ発振器１から発射されたレーザ光５′は、保護と安全
のための・千イゾ状光路カバー４を通して、後述のよう
に下半分の部分だけ小形のビーム折曲げ用全反射ミラー
９へ導かれる。
そして、この全反射ミラー９によシ、レーデ光５′の下
半分の部分は９０°折曲げられ、この折曲げられた反射
光１０は集光レンズ８に導かれる。
半分の部分は９０°折曲げられ、この折曲げられた反射
光１０は集光レンズ８に導かれる。
一方、レーデ光５′の上半分の部分は、上記全反射ミラ
ー９に触れることなく光路カバー４内を透過光１１とし
て直進し、通常の大きさの全反射ミラー３へ導かれる。
ー９に触れることなく光路カバー４内を透過光１１とし
て直進し、通常の大きさの全反射ミラー３へ導かれる。
そして、この全反射ミラー３により、透過光１１は９０
０折曲げられ、この折曲げられた透過光１１は集光レン
ズ８に導かれる。
０折曲げられ、この折曲げられた透過光１１は集光レン
ズ８に導かれる。
さて、第３図のレーザ光５′は、この発明によるビーム
スノリット方法を用いるため調整きれたＴＥＭｏ、モー
ドのレーザ光１２（第４図参照）である。第４図の矢印
１３は、レーザ光１２の進行方向を示している。そして
、ビームスｆ ＩＪノットラーである小形の全反射ミラ
ー９は、レーデ光路中においてレーザ光１２の半分を反
射し、矢印１４の方へ光路を変更する。反射されなかっ
た部分については、矢印１５の方向へ直進し、全反射ミ
ラー３によシ反射され、矢印１６の方向へ光路を変更さ
れる。
スノリット方法を用いるため調整きれたＴＥＭｏ、モー
ドのレーザ光１２（第４図参照）である。第４図の矢印
１３は、レーザ光１２の進行方向を示している。そして
、ビームスｆ ＩＪノットラーである小形の全反射ミラ
ー９は、レーデ光路中においてレーザ光１２の半分を反
射し、矢印１４の方へ光路を変更する。反射されなかっ
た部分については、矢印１５の方向へ直進し、全反射ミ
ラー３によシ反射され、矢印１６の方向へ光路を変更さ
れる。
このようにして、レーザ光１２はその上半分の部分と下
半分の部分について分けられて、２箇所で利用すること
ができる。
半分の部分について分けられて、２箇所で利用すること
ができる。
次にこの発明の原理について述べるが、この発明は次の
ようなレーザ光の有する特性による。
ようなレーザ光の有する特性による。
即ち、一般にレーザ光は非常によく直進し、又そのレー
ザ光の波面は揃っている。そこで、そのレーザ光の波面
に対して大きな擾乱を与えない限シ、その特性は変化し
ない。
ザ光の波面は揃っている。そこで、そのレーザ光の波面
に対して大きな擾乱を与えない限シ、その特性は変化し
ない。
ことでは、そのレーザ光の発振横モードに注目し、その
発振横モードにおける谷の部分において、レーザ光を２
つに分割する。そのとき、とのレーザ光の発振横モード
における谷の部分においては、そのエネルギーが殆ど零
（理論上は零）であるため、その部分におけるレーザ光
の分割がレーザ光の波面に対して大きな影響を与えない
。
発振横モードにおける谷の部分において、レーザ光を２
つに分割する。そのとき、とのレーザ光の発振横モード
における谷の部分においては、そのエネルギーが殆ど零
（理論上は零）であるため、その部分におけるレーザ光
の分割がレーザ光の波面に対して大きな影響を与えない
。
その原理説明図と理論的計算結果を第５図に示す。即ち
、第５図（ａ）にはレーデ発振横モードＴＥＭｏ、を示
し、■○は電界の方向である。又、第５図（ｂ）には、
この発振横モードを計算機によシ高速フーリエ変換（Ｆ
ＦＴ）を施しだ結果を示しだ。この結果は、フーリエ光
学の原理によシ無限遠方の光の状態、成るいはレンズに
より集光した場合の焦点−面における光の状態（エネル
ギー分布）に相当することが証明されている。
、第５図（ａ）にはレーデ発振横モードＴＥＭｏ、を示
し、■○は電界の方向である。又、第５図（ｂ）には、
この発振横モードを計算機によシ高速フーリエ変換（Ｆ
ＦＴ）を施しだ結果を示しだ。この結果は、フーリエ光
学の原理によシ無限遠方の光の状態、成るいはレンズに
より集光した場合の焦点−面における光の状態（エネル
ギー分布）に相当することが証明されている。
そこで、第５図（ｃ）に示したように、上記ＴＥＭｏ。
モードのうち、片側のみ利用するとする。その場合の高
速フーリエ変換の結果を第５図（ｄ）に示す。
速フーリエ変換の結果を第５図（ｄ）に示す。
この結果から明らかなように、１８Ｍ０□モードをその
エネルギー分布の谷の部分で分割する限シ、それほど大
きな擾乱は受けず、そのモードパターンは可成シガウス
分布に近いものが得られる。このことは、このようにレ
ーザ光を分割して用いる場合も、そのレーデ光の集光性
は大きくは損なわれない。これは実験においても、はぼ
実現することが確かめられている。
エネルギー分布の谷の部分で分割する限シ、それほど大
きな擾乱は受けず、そのモードパターンは可成シガウス
分布に近いものが得られる。このことは、このようにレ
ーザ光を分割して用いる場合も、そのレーデ光の集光性
は大きくは損なわれない。これは実験においても、はぼ
実現することが確かめられている。
又、発明の不適切な応用例を第６図（、）に示す。
これは上記のＴＥＭ。、モードにおいて、その出力のピ
ーク部分でエネルギーを分割した場合、即ち Ｔ ＥＭ
ｏ、モードの中心部を抜き出して半分取った場合の例を
示しておシ、この結果は第６図（ｂ）に示すようになる
。この結果は、非常に拡がυ角の大きく、又、光として
はりツプルの大きな散乱光となっていることを意味する
。従って、このような光は本来持っているレーデ光の性
質を失なっている。そのため、レンズによる集光時もそ
の集光性は非常に悪い。
ーク部分でエネルギーを分割した場合、即ち Ｔ ＥＭ
ｏ、モードの中心部を抜き出して半分取った場合の例を
示しておシ、この結果は第６図（ｂ）に示すようになる
。この結果は、非常に拡がυ角の大きく、又、光として
はりツプルの大きな散乱光となっていることを意味する
。従って、このような光は本来持っているレーデ光の性
質を失なっている。そのため、レンズによる集光時もそ
の集光性は非常に悪い。
上記レーザ光分割の原理は、全てのレーザ発振横モード
に応用できる。即ち、その発振横モードのエネルギー値
の零の所で分割すれば、それらのモードはそれほど大き
くは乱されない。
に応用できる。即ち、その発振横モードのエネルギー値
の零の所で分割すれば、それらのモードはそれほど大き
くは乱されない。
そのため、Ｔ ＥＭｏ２、ＴＥＭ、、３、ＴＥＭｏ４・
・・成るいはＴＥＭ、１．１８Ｍ２ｍ、Ｔ ＥＭ、２・
・・というような単一モードであれば、それらの谷の部
分にて分割することができる。ＴＥＭｏ、モードで３分
割した例、ＴＥＭｏ４モードで４分割した例をそれぞれ
第７図、第８図に示す。図中の■〜■は分割の数である
。
・・成るいはＴＥＭ、１．１８Ｍ２ｍ、Ｔ ＥＭ、２・
・・というような単一モードであれば、それらの谷の部
分にて分割することができる。ＴＥＭｏ、モードで３分
割した例、ＴＥＭｏ４モードで４分割した例をそれぞれ
第７図、第８図に示す。図中の■〜■は分割の数である
。
又、実際にこれらの分割を行なう場合、第４図に示した
ような平面ミラーによることもできるが、第９図（、）
、（ｂ）、（Ｃ）に示す多面ミラー１７．１８．１９に
よることもできる。
ような平面ミラーによることもできるが、第９図（、）
、（ｂ）、（Ｃ）に示す多面ミラー１７．１８．１９に
よることもできる。
更に、ここでは角型のモード（Ｔ Ｅ Ｍｖｔａｎ ）
を中心に述べたが、この方法は円形のモード（ＴＥＭＰ
Ａ’）にも応用することができる。その場合には、第１
０図に示すような円柱状のミラー２０を用いればよい。
を中心に述べたが、この方法は円形のモード（ＴＥＭＰ
Ａ’）にも応用することができる。その場合には、第１
０図に示すような円柱状のミラー２０を用いればよい。
この発明によれば、１謂以上のレーデ光が、部分透過ミ
ラー２を用いることなく２分割以上に分割することがで
きる。この結果、装置の価格を安くすることができると
共に、光学部品の信頼性が高くなる。又、全反射ミラー
９に金属ミラーを用いることができるだめ、レーザ光に
対する耐光強度が向上し、数十所のものにまで応用する
ことができ、大出力レーザのレーデ光の分割に非常に有
効である。
ラー２を用いることなく２分割以上に分割することがで
きる。この結果、装置の価格を安くすることができると
共に、光学部品の信頼性が高くなる。又、全反射ミラー
９に金属ミラーを用いることができるだめ、レーザ光に
対する耐光強度が向上し、数十所のものにまで応用する
ことができ、大出力レーザのレーデ光の分割に非常に有
効である。
第１図及び第２図は従来から用いられている多分割方式
のビームスシリツタ装置を示す概略構成図、第３図はこ
の発明の一実施例に係る高出力レーデ用ビームスプリッ
タ装置を示す概略構成図、第４図は第３図のビームスノ
リツタ装置における動作説明図、第５図（ａ）〜（ｄ）
はこの発明における分割の原理と理論的計算結果を示す
一特性曲線図、第６図（ａ）、（ｂ）はこの発明の不適
切な応用例を示す特性曲線図、第７図及び第８図はこの
発明の適切な応用例、第９図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）及
び第１０図はこの発明に用いる全反射ミラーの変形例を
示す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・部分透過ミラー、３・
・・全反射ミラー、４・・・光路カバー、５・・・レー
デ光、６・・・部分透過光、７・・・部分反射光、８・
・・集光レンズ、９・・・全探射ミラー、１０・°°反
射光、１１・・・透過光、１２・・・レーデ出力分布、
１３・・・レーザ光進行方向、１４・・・反射方向、１
５・・・通過方向、１６・・・反射方向。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 第４図 第５図 （ａ） 第５図 （ｂ） −ＥＩ Ｏ＋８ 青 度 第５図 （Ｃ） 第５図 （ｄ） 一θ ＋ｅ 負ル 第６図 （ａ） 第６図 勇 展 第７図 第９図 第１０図 ８
のビームスシリツタ装置を示す概略構成図、第３図はこ
の発明の一実施例に係る高出力レーデ用ビームスプリッ
タ装置を示す概略構成図、第４図は第３図のビームスノ
リツタ装置における動作説明図、第５図（ａ）〜（ｄ）
はこの発明における分割の原理と理論的計算結果を示す
一特性曲線図、第６図（ａ）、（ｂ）はこの発明の不適
切な応用例を示す特性曲線図、第７図及び第８図はこの
発明の適切な応用例、第９図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）及
び第１０図はこの発明に用いる全反射ミラーの変形例を
示す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・部分透過ミラー、３・
・・全反射ミラー、４・・・光路カバー、５・・・レー
デ光、６・・・部分透過光、７・・・部分反射光、８・
・・集光レンズ、９・・・全探射ミラー、１０・°°反
射光、１１・・・透過光、１２・・・レーデ出力分布、
１３・・・レーザ光進行方向、１４・・・反射方向、１
５・・・通過方向、１６・・・反射方向。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 第４図 第５図 （ａ） 第５図 （ｂ） −ＥＩ Ｏ＋８ 青 度 第５図 （Ｃ） 第５図 （ｄ） 一θ ＋ｅ 負ル 第６図 （ａ） 第６図 勇 展 第７図 第９図 第１０図 ８
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １腑以上の高出力レーデ光のうち、ＴＥＭ、、、ＴＥＭ
。、、成るいはＴＥＭｌ、 、ＴＥＭ、、等の正規な単
−横モードを有するレーデ光を、２分割以上行なうビー
ムスプリッタ装置において、 上記レーザ光を正規の単−横モードのエネルギー分布に
おける谷部分において２方向以上に分割することを特徴
とする高出力レーザ用ビームスノリツタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP975884A JPS60153023A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP975884A JPS60153023A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60153023A true JPS60153023A (ja) | 1985-08-12 |
Family
ID=11729178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP975884A Pending JPS60153023A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60153023A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503572A (ja) * | 2003-08-14 | 2007-02-22 | サイトノーム インコーポレーテッド | 粒子分類システム用光検出器 |
| US9260693B2 (en) | 2004-12-03 | 2016-02-16 | Cytonome/St, Llc | Actuation of parallel microfluidic arrays |
| US9823252B2 (en) | 2004-12-03 | 2017-11-21 | Cytonome/St, Llc | Unitary cartridge for particle processing |
| US11027278B2 (en) | 2002-04-17 | 2021-06-08 | Cytonome/St, Llc | Methods for controlling fluid flow in a microfluidic system |
-
1984
- 1984-01-23 JP JP975884A patent/JPS60153023A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11027278B2 (en) | 2002-04-17 | 2021-06-08 | Cytonome/St, Llc | Methods for controlling fluid flow in a microfluidic system |
| US10520421B2 (en) | 2003-08-14 | 2019-12-31 | Cytonome/St, Llc | Optical detector for a particle sorting system |
| JP2009282049A (ja) * | 2003-08-14 | 2009-12-03 | Cytonome Inc | 粒子分類システム用光検出器 |
| US8964184B2 (en) | 2003-08-14 | 2015-02-24 | Cytonome/St, Llc | Optical detector for a particle sorting system |
| US9752976B2 (en) | 2003-08-14 | 2017-09-05 | Cytonome/St, Llc | Optical detector for a particle sorting system |
| JP2007503572A (ja) * | 2003-08-14 | 2007-02-22 | サイトノーム インコーポレーテッド | 粒子分類システム用光検出器 |
| US11002659B2 (en) | 2003-08-14 | 2021-05-11 | Cytonome/St, Llc | Optical detector for a particle sorting system |
| EP1661165A4 (en) * | 2003-08-14 | 2008-01-23 | Cytonome Inc | OPTICAL DETECTOR FOR A PARTICLE SORTING SYSTEM |
| US9260693B2 (en) | 2004-12-03 | 2016-02-16 | Cytonome/St, Llc | Actuation of parallel microfluidic arrays |
| US9823252B2 (en) | 2004-12-03 | 2017-11-21 | Cytonome/St, Llc | Unitary cartridge for particle processing |
| US10065188B2 (en) | 2004-12-03 | 2018-09-04 | Cytonome/St, Llc | Actuation of parallel microfluidic arrays |
| US10222378B2 (en) | 2004-12-03 | 2019-03-05 | Cytonome/St, Llc | Unitary cartridge for particle processing |
| US10794913B2 (en) | 2004-12-03 | 2020-10-06 | Cytonome/St, Llc | Unitary cartridge for particle processing |
| US10994273B2 (en) | 2004-12-03 | 2021-05-04 | Cytonome/St, Llc | Actuation of parallel microfluidic arrays |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2047875C1 (ru) | Устройство для светолучевой обработки | |
| JPH0412039B2 (ja) | ||
| WO1990013390A1 (en) | Laser beam machining device | |
| JPS62165985A (ja) | レ−ザビ−ムの拡がり角を安定化したレ−ザ発振器 | |
| EP0121069A2 (en) | Reflecting system for improving the uniformity of a light beam | |
| JPS58154484A (ja) | レ−ザビ−ムの変換方法 | |
| CN115629483B (zh) | 二维阵列光谱合成装置及其合成方法 | |
| JPS60181701A (ja) | 光フアイバ結合用グレ−テイングレンズ | |
| JP2800006B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JPS5935003B2 (ja) | 光学装置 | |
| JP2884075B2 (ja) | レーザー光集光照射装置 | |
| JPH0259192A (ja) | 大出力レーザ装置 | |
| JPS6167821A (ja) | 反射光学装置 | |
| JPH05111786A (ja) | レーザ光合成装置 | |
| JPH08300179A (ja) | レーザ集光方法及び装置 | |
| JP2580704B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JP3183635B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH0780673A (ja) | レーザ加工機 | |
| KR930001644Y1 (ko) | 집속성이 개선된 평행광학장치 | |
| JPS63252688A (ja) | レ−ザ加工ヘツド | |
| SU1748128A1 (ru) | Пространственный фильтр лазерного излучени | |
| JPS63157123A (ja) | 線状ビ−ム光学系 | |
| JPS60112024A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JPH11311748A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH0230002B2 (ja) |