JPH04123335A - 集光ビームのビーム形状測定方法 - Google Patents
集光ビームのビーム形状測定方法Info
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- JPH04123335A JPH04123335A JP24320990A JP24320990A JPH04123335A JP H04123335 A JPH04123335 A JP H04123335A JP 24320990 A JP24320990 A JP 24320990A JP 24320990 A JP24320990 A JP 24320990A JP H04123335 A JPH04123335 A JP H04123335A
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- Japan
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- measuring
- shape
- beam shape
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク用ドライブや光ディスク用原盤露
光機における集光ビームのビーム形状測定方法に関する
。
光機における集光ビームのビーム形状測定方法に関する
。
従来技術による集光ビームのビーム形状測定方法の例を
第７図と第８図に示す。
第７図と第８図に示す。
先ず、第７図に示すビーム形状測定方法では、（ａ）に
示すように、平行光ビームに対して垂直にナイフエッチ
を移動させ、このときの光量変化をフォトディテクタを
用いて検出する。そして、この検出された信号を電流−
電圧変換し、微分することで（ｂ）に示す線図の実線（
１）の波形が得られ、これがビーム形状である。また、
（ｂ）に示す線図の点線（２）で示す波形は、微分する
前の波形を示している。
示すように、平行光ビームに対して垂直にナイフエッチ
を移動させ、このときの光量変化をフォトディテクタを
用いて検出する。そして、この検出された信号を電流−
電圧変換し、微分することで（ｂ）に示す線図の実線（
１）の波形が得られ、これがビーム形状である。また、
（ｂ）に示す線図の点線（２）で示す波形は、微分する
前の波形を示している。
次に、第８＠に示すビーム形状測定方法について説明す
る。
る。
この方法ではＣＣＤ （Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ
Ｄｅｖｉｃｅｓ）を用いて入射ビームの光強度分布を
測定しビーム形状を測定するが、ＣＣＤの分解能により
測定感度が決まるため、現状のところでは、入射ビーム
径がミリオーダのものに対して使われている。
Ｄｅｖｉｃｅｓ）を用いて入射ビームの光強度分布を
測定しビーム形状を測定するが、ＣＣＤの分解能により
測定感度が決まるため、現状のところでは、入射ビーム
径がミリオーダのものに対して使われている。
ところで、光ディスク用ドライブでは、記録面にフォー
カスした際のビーム形状が信号の記録・再生に大きく影
響を与える６例えば、記録面にフォーカスした際のビー
ム（以下、フォーカスビームと略す）の形状が広がりす
ぎていると、記録の際、書き込み不良が生じ、再生信号
のレベルが小さくなってしまう、また、再生の際、フォ
ーカスビームが広がりすぎていると、隣接トラックの情
報が混入して、再生不良が起きる。
カスした際のビーム形状が信号の記録・再生に大きく影
響を与える６例えば、記録面にフォーカスした際のビー
ム（以下、フォーカスビームと略す）の形状が広がりす
ぎていると、記録の際、書き込み不良が生じ、再生信号
のレベルが小さくなってしまう、また、再生の際、フォ
ーカスビームが広がりすぎていると、隣接トラックの情
報が混入して、再生不良が起きる。
また、光ディスク用原盤露光の場合も同じ問題が発生す
る。光ディスク用原盤露光のフォーカスビームが広がり
すぎていたり、狭かったりすると、形成された位相ピッ
トの形状が適正なものからはずれ、プリフォーマットを
再生する際、やはり再生不良が生じたりする。
る。光ディスク用原盤露光のフォーカスビームが広がり
すぎていたり、狭かったりすると、形成された位相ピッ
トの形状が適正なものからはずれ、プリフォーマットを
再生する際、やはり再生不良が生じたりする。
このように、光ディスク用ドライブや原盤露光機におけ
るフォーカスビームの形状は、その記録・再生面に太き
、く影響を与えるため、十分に管理する必要がある。
るフォーカスビームの形状は、その記録・再生面に太き
、く影響を与えるため、十分に管理する必要がある。
しかしながら、光ディスク用ドライブや原盤露光機では
、対物レンズの開口数ＮＡが、光ディスク用ドライブで
は０．５〜０．６、原盤露光機では０．９以上と大きい
ため、焦点距離が短く、第７図に示したナイフェツジを
用いた方法では測定が不可能であった。
、対物レンズの開口数ＮＡが、光ディスク用ドライブで
は０．５〜０．６、原盤露光機では０．９以上と大きい
ため、焦点距離が短く、第７図に示したナイフェツジを
用いた方法では測定が不可能であった。
また、フォーカスビームのビーム径が、光ディスク用ド
ライブでは、１．４〜２．０μｍ、Ｍ盤露光機では０．
４〜０．８ ｐ ｍと小さく、第８＠に示したＣＣＤを
用いた方法でも分解能がたりず、測定は不可能であった
。
ライブでは、１．４〜２．０μｍ、Ｍ盤露光機では０．
４〜０．８ ｐ ｍと小さく、第８＠に示したＣＣＤを
用いた方法でも分解能がたりず、測定は不可能であった
。
そこで、従来法では、対物レンズに入射する光を測定す
ることにより、その代用特性を得ていたが、対物レンズ
によりフォーカスビームの形状は大きく影響を受けるた
め、実際面では、上記代用特性では管理できないという
不具合点がある。
ることにより、その代用特性を得ていたが、対物レンズ
によりフォーカスビームの形状は大きく影響を受けるた
め、実際面では、上記代用特性では管理できないという
不具合点がある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、光デ
ィスク用ドライブや原盤露光機のフォーカスビームのビ
ーム形状を精度良く簡単に測定し得る集光ビームのビー
ム形状測定方法を提供することを目的とする。
ィスク用ドライブや原盤露光機のフォーカスビームのビ
ーム形状を精度良く簡単に測定し得る集光ビームのビー
ム形状測定方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため２本願請求項１記載の集光ビー
ムのビーム形状測定方法では、光ディスク用ドライブや
光ディスク用原盤露光機の対物レンズ通過後の集光ビー
ムのビーム形状を測定する際に、ビーム形状測定用基板
として、スパイラル状若しくは同心円状に位相溝が形成
されており、その位相溝は蛇行していて、隣接トラック
との間隔が測定するビーム径よりも大きいことを特徴と
する基板を用いたことを特徴とする。
ムのビーム形状測定方法では、光ディスク用ドライブや
光ディスク用原盤露光機の対物レンズ通過後の集光ビー
ムのビーム形状を測定する際に、ビーム形状測定用基板
として、スパイラル状若しくは同心円状に位相溝が形成
されており、その位相溝は蛇行していて、隣接トラック
との間隔が測定するビーム径よりも大きいことを特徴と
する基板を用いたことを特徴とする。
また１本願請求項２記載の集光ビームのビーム形状測定
方法では、光ディスク用ドライブや光ディスク用原盤露
光機の対物レンズ通過後の集光ビームのビーム形状を測
定する際に、ビーム形状測定用基板として、スパイラル
状若しくは同心円状に位相溝が形成されており、その位
相溝は三角波状になっていて、隣接トラックとの間隔が
測定するビーム径よりも大きいことを特徴とする基板を
用いたことを特徴とする。
方法では、光ディスク用ドライブや光ディスク用原盤露
光機の対物レンズ通過後の集光ビームのビーム形状を測
定する際に、ビーム形状測定用基板として、スパイラル
状若しくは同心円状に位相溝が形成されており、その位
相溝は三角波状になっていて、隣接トラックとの間隔が
測定するビーム径よりも大きいことを特徴とする基板を
用いたことを特徴とする。
また、本願請求項３記載の集光ビームのビーム形状測定
方法では、上記請求項１若しくは請求項２記載の集光ビ
ームのビーム形状測定方法において、ビーム形状測定用
基板を回転させながら、その基板面にフォーカスをかけ
、その基板面からの反射光をフォトディテクタにより検
知し、その信帯波形と上記基板の蛇行状若しくは三角波
状位相溝の周期及び振幅との関係からビーム径を算出し
、強度のピーク位置を検出することを特徴とする。
方法では、上記請求項１若しくは請求項２記載の集光ビ
ームのビーム形状測定方法において、ビーム形状測定用
基板を回転させながら、その基板面にフォーカスをかけ
、その基板面からの反射光をフォトディテクタにより検
知し、その信帯波形と上記基板の蛇行状若しくは三角波
状位相溝の周期及び振幅との関係からビーム径を算出し
、強度のピーク位置を検出することを特徴とする。
本願請求項１若しくは請求項２記載のビーム形状画定用
基板を用いることにより、従来不可能とさおでいた集光
ビームのビーム形状を精度よく簡単に測定することが可
能となる。
基板を用いることにより、従来不可能とさおでいた集光
ビームのビーム形状を精度よく簡単に測定することが可
能となる。
すなわち、上記ビーム形状画定用基板を用い。
請求項３記載のビーム形状測定方法のように、基板面か
らの反射光の位相溝による変化を検出することにより、
ビーム径や光強度分布のピーク位置を測定することがで
きる。
らの反射光の位相溝による変化を検出することにより、
ビーム径や光強度分布のピーク位置を測定することがで
きる。
以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
実施例１゜
第１図（ａ）はビーム形状測定用基板上に形成された蛇
行状位相溝の一例を示す図、第１図（ｂ）はビーム形状
測定系の一構成例を示す図である。
行状位相溝の一例を示す図、第１図（ｂ）はビーム形状
測定系の一構成例を示す図である。
第１図（ａ）において、蛇行状位相溝は、基板上に同心
円あるいはスパイラル状に形成されている。
円あるいはスパイラル状に形成されている。
また、隣接トラックとの間隔（ピッチ）は、測定したい
ビーム径（フォーカスビーム径）より大きい方が良い、
これは、検出信号に隣接トラックからの影響（クロスト
ーク信号）が混入し、測定精度を落すためである。
ビーム径（フォーカスビーム径）より大きい方が良い、
これは、検出信号に隣接トラックからの影響（クロスト
ーク信号）が混入し、測定精度を落すためである。
また、測定系は、基板を回転させる機構と、フォーカス
系、フォトディテクタによる信号検出系といった簡単な
光学系で十分であり、例えば第１図（ｂ）に示すように
構成される。尚、第１図（ｂ）において、符号１はレー
ザ光源、２はコリメートレンズ、３は偏光ビームスプリ
ッタ（ＰＢＳ）、４はλ／４板、５は対物レンズ、６は
基板、７はシリンドリカルレンズ、８はフォーカスサー
ボ月の４分割フォトディテクタ、９はハーフミラ−１Ｏ
はフォトディテクタ、１１は電流電圧変換器を夫々示し
ている。
系、フォトディテクタによる信号検出系といった簡単な
光学系で十分であり、例えば第１図（ｂ）に示すように
構成される。尚、第１図（ｂ）において、符号１はレー
ザ光源、２はコリメートレンズ、３は偏光ビームスプリ
ッタ（ＰＢＳ）、４はλ／４板、５は対物レンズ、６は
基板、７はシリンドリカルレンズ、８はフォーカスサー
ボ月の４分割フォトディテクタ、９はハーフミラ−１Ｏ
はフォトディテクタ、１１は電流電圧変換器を夫々示し
ている。
次に、第２図に、ビーム形状の測定原理を示す。
第２図において、蛇行位相溝上をビームが矢印方向（ビ
ーム走査方向）に走査した場合、第１図（ｂ）における
０ｕｔｐｕｔ信号は、第２図で示したようになる。そし
て、ビームの中心に位相溝が来たときに０ｕｔｐｕｔ信
号のレベルは一番低くなる。しかし、ビームの中心と光
強度分布のピーク位置かず九たとき、後述するようにこ
の関係はずれてしまう、尚、第２図では、ビーム径の異
なるビームＡ、Ｂ、Ｃの結果について示している。また
、蛇行の周期を２Ｔ０、蛇行の振幅をＬとすれば、ビー
ムＡ、Ｂ。
ーム走査方向）に走査した場合、第１図（ｂ）における
０ｕｔｐｕｔ信号は、第２図で示したようになる。そし
て、ビームの中心に位相溝が来たときに０ｕｔｐｕｔ信
号のレベルは一番低くなる。しかし、ビームの中心と光
強度分布のピーク位置かず九たとき、後述するようにこ
の関係はずれてしまう、尚、第２図では、ビーム径の異
なるビームＡ、Ｂ、Ｃの結果について示している。また
、蛇行の周期を２Ｔ０、蛇行の振幅をＬとすれば、ビー
ムＡ、Ｂ。
Ｃのビーム径ＤＡ、Ｄ＊−Ｄｃは１次のように算出する
ことができる。
ことができる。
ＤＡ＞２１ｓｕｎ（（２ｇ／Ｔｏ）Ｔａ）Ｄ、＝ ２
Ｌｓｉｎ（（２π／Ｔｏ）Ｔｍ）ｐｃ＝＝ ２ Ｌｓｉ
ｎ（（２ｚ／Ｔ、）Ｔｃ）つまり、０ｕｔｐｕｔ信号に
おける振幅の時間幅から、夫々のビーム径を算出するこ
とができる。尚、ビームＡは蛇行の振幅の２倍、つまり
２Ｌよりもビーム径が大きいため測定することができな
いが、少なくとも２ Ｌｓｉｎ（（２ｇ／Ｔｏ）Ｔａ）
より大きいことがわかる。この場合、位相溝の蛇行の振
幅がより大きい測定用基板を用いれば、ビーム径の測定
は可能となる。
Ｌｓｉｎ（（２π／Ｔｏ）Ｔｍ）ｐｃ＝＝ ２ Ｌｓｉ
ｎ（（２ｚ／Ｔ、）Ｔｃ）つまり、０ｕｔｐｕｔ信号に
おける振幅の時間幅から、夫々のビーム径を算出するこ
とができる。尚、ビームＡは蛇行の振幅の２倍、つまり
２Ｌよりもビーム径が大きいため測定することができな
いが、少なくとも２ Ｌｓｉｎ（（２ｇ／Ｔｏ）Ｔａ）
より大きいことがわかる。この場合、位相溝の蛇行の振
幅がより大きい測定用基板を用いれば、ビーム径の測定
は可能となる。
次に、ビームの中心と光強度分布のピーク位置がずれた
時について、第３図を用いて説明する。
時について、第３図を用いて説明する。
前述したように、蛇行位相溝の上を光強度分布のピーク
位置がクロスした点で、０ｕｔｐｕｔ信号のレベルは一
番低くなる。この原理により、ビームの光強度分布の中
心を検出することができる。第３図では、ビームの光強
度分布の中心が人位置、Ｂ位置にずれた場合のＡとＢの
結果について示しである。このように、本発明において
は、蛇行位相溝を有する基板をビーム形状測定用基板と
して用いることにより、光強度分布のピーク位置も検出
することができる。
位置がクロスした点で、０ｕｔｐｕｔ信号のレベルは一
番低くなる。この原理により、ビームの光強度分布の中
心を検出することができる。第３図では、ビームの光強
度分布の中心が人位置、Ｂ位置にずれた場合のＡとＢの
結果について示しである。このように、本発明において
は、蛇行位相溝を有する基板をビーム形状測定用基板と
して用いることにより、光強度分布のピーク位置も検出
することができる。
実施例２゜
次に第４図は、ビーム形状測定用基板として、スパイラ
ル状若しくは同心円状に位相溝が形成されており、その
位相溝は三角波状になっていて、隣接トラックとの間隔
が測定するビーム径よりも大きいことを特徴とする基板
を用いた場合の実施例を示しており、図では三角波状位
相溝とビーム形状の関係を示している。
ル状若しくは同心円状に位相溝が形成されており、その
位相溝は三角波状になっていて、隣接トラックとの間隔
が測定するビーム径よりも大きいことを特徴とする基板
を用いた場合の実施例を示しており、図では三角波状位
相溝とビーム形状の関係を示している。
この実施例の場合”も、ビーム径と光強度分布の位置を
０ｕｔｐｕｔ信号から算出することができる。
０ｕｔｐｕｔ信号から算出することができる。
すなわち、ビーム径りは以下のようになり、Ｄ＝２Ｌ（
２π／Ｔ０） また、光強度分布のピーク位置についても０ｕｔｐｕｔ
信号のピーク位置と一致する。
２π／Ｔ０） また、光強度分布のピーク位置についても０ｕｔｐｕｔ
信号のピーク位置と一致する。
実施例３゜
次に、第５図及び第６図に本発明のビーム形状測定方法
に用いられる基板の製造方法の一例を示す。
に用いられる基板の製造方法の一例を示す。
ここで、第５図は基板の製造に用いられるレーザカッテ
ィングマシンの一例を示しており９図中符号２１はＡｒ
レーザ、２２は偏向器、２３はビームエキスパンダ光学
系、２４はビームスプリッタ、２５はＨｅ−Ｎｅレーザ
、２６はフィルタ、２７はシリンドリカルレンズ、２８
は４分割フォトディテクタ、２９はサーボ回路、３０は
λ／４ｍ、３１はアクチュエータ、３２は対物レンズ、
３３は基板（Ｍｍ）を夫々示している。また、第６図は
基板の製造工程を示す工程説明図である。
ィングマシンの一例を示しており９図中符号２１はＡｒ
レーザ、２２は偏向器、２３はビームエキスパンダ光学
系、２４はビームスプリッタ、２５はＨｅ−Ｎｅレーザ
、２６はフィルタ、２７はシリンドリカルレンズ、２８
は４分割フォトディテクタ、２９はサーボ回路、３０は
λ／４ｍ、３１はアクチュエータ、３２は対物レンズ、
３３は基板（Ｍｍ）を夫々示している。また、第６図は
基板の製造工程を示す工程説明図である。
第Ｓ図に示すレーザカッティングマシンにおいては、基
板３３上に前述の蛇行位相溝や三角波状位相溝を形成す
るために、偏向器２２が取り付けられている。この偏向
器としては、ガルバノミラ−やＡ１０変調器を用いれば
良い。
板３３上に前述の蛇行位相溝や三角波状位相溝を形成す
るために、偏向器２２が取り付けられている。この偏向
器としては、ガルバノミラ−やＡ１０変調器を用いれば
良い。
さて、第５図、第６図において、レーザカッティングマ
シンにレジストが塗布されたガラス基板（レジスト原盤
）３３をセットし、上記偏光器２２によりビームの方向
を振って、レジストＪｕｌ上に蛇行若しくは三角波状に
溝を形成する。そして、このレジスト原盤を現像し、エ
ツチングすることにより、ガラス基板上に位相溝が形成
される。
シンにレジストが塗布されたガラス基板（レジスト原盤
）３３をセットし、上記偏光器２２によりビームの方向
を振って、レジストＪｕｌ上に蛇行若しくは三角波状に
溝を形成する。そして、このレジスト原盤を現像し、エ
ツチングすることにより、ガラス基板上に位相溝が形成
される。
次に、この基板に反射膜（ＮｉやＣｒ膜）をスパッタす
ることにより、ビーム形状測定用基板を作製することが
できる。
ることにより、ビーム形状測定用基板を作製することが
できる。
また、現像されたレジスト面にＮｉ膜をスパッタし、こ
れを通電面としてＮ１ｔＪＩしてマスクを作製し、この
マスクをスタンパとして２Ｐ工法若しくはＩｎｊ工法に
より大量に基板を製造することも可能である。
れを通電面としてＮ１ｔＪＩしてマスクを作製し、この
マスクをスタンパとして２Ｐ工法若しくはＩｎｊ工法に
より大量に基板を製造することも可能である。
尚１位相溝の溝形状については、測定するビームの波長
をλとすれば、溝深さがλ／４に近い方が良い、これは
、溝深さがλ／４のとき０ｕｔｐｕｔ信号の感度が最大
となるためである。また、溝幅については、測定するビ
ーム径の半分より小さい方が良い、これは、溝幅がビー
ム径の半分となると。
をλとすれば、溝深さがλ／４に近い方が良い、これは
、溝深さがλ／４のとき０ｕｔｐｕｔ信号の感度が最大
となるためである。また、溝幅については、測定するビ
ーム径の半分より小さい方が良い、これは、溝幅がビー
ム径の半分となると。
溝によるコントラストが悪（，０ｕｔｐｕｔ信号の感度
が低くなるためである。
が低くなるためである。
以上、実施例に基づいて説明したように、本願請求項１
若しくは請求項２記載のビーム形状測定用基板を用いる
ことにより、従来不可能とされていた集光ビームのビー
ム形状を精度よく簡単に測定することが可能となる。
若しくは請求項２記載のビーム形状測定用基板を用いる
ことにより、従来不可能とされていた集光ビームのビー
ム形状を精度よく簡単に測定することが可能となる。
すなわち、請求項３記載の発明のように、請求項１若し
くは請求項２記載のビーム形状測定用基板を用いて、基
板面からの反射光を検出し、この反射光の変化から簡単
にビーム径や光強度分布のピーク位置を測定することが
でき、光ディスクドライブやＭＩＸ露光機の集光された
ビーム形状を管理することが可能となる。この結果、光
ディスクの記録・再生信号が安定し、システムとしての
信頼性を向上することができる。
くは請求項２記載のビーム形状測定用基板を用いて、基
板面からの反射光を検出し、この反射光の変化から簡単
にビーム径や光強度分布のピーク位置を測定することが
でき、光ディスクドライブやＭＩＸ露光機の集光された
ビーム形状を管理することが可能となる。この結果、光
ディスクの記録・再生信号が安定し、システムとしての
信頼性を向上することができる。
第１図（ａ）はビーム形状測定用基板上に形成された蛇
行状位相溝の一例を示す回、第１図（ｂ）はビーム形状
測定系の一構成例を示す図、第２図及び第３図は第１図
（ａ）に示す蛇行位相溝によるビーム形状測定原理の説
明図、第４図は三角波状位相溝によるビーム形状測定原
理の説明図、第５図は本発明におけるビーム形状測定用
基板の製造に用いられるレーザカッティングマシンの一
例を示す概略構成図、第６図はビーム形状測定用基板の
製造工程を示す工程説明図、第７図及び第８図は夫々従
来技術による集光ビームのビーム形状測定方法の説明図
である。 １・・・・レーザ光源、２・・・・コリメートレンズ。 ３・・・・偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ） 、４・・
・・λ／４板、５・・・・対物レンズ、６・・・・ビー
ム形状測定用基板、７・・・・シリンドリカルレンズ、
８・・・フォーカスサーボ用４分割フォトディテクタ、
９・・・ハーフミラ−１１０・・・・フォトディテクタ
、１１・・・電流電圧変換器。 弗 団 （δ０ （ｐ） 売１ Ｔｙｆ３，７１Ｄ バ ［Ｔ］カン、スノ釈訴 ↓ し５ストＬ＊４ ル−ｖカ、７４；り及び−曳椹 １ エソナンク Ｉ １１５スト嘩１１＾汗 −二Ｙ−基板
行状位相溝の一例を示す回、第１図（ｂ）はビーム形状
測定系の一構成例を示す図、第２図及び第３図は第１図
（ａ）に示す蛇行位相溝によるビーム形状測定原理の説
明図、第４図は三角波状位相溝によるビーム形状測定原
理の説明図、第５図は本発明におけるビーム形状測定用
基板の製造に用いられるレーザカッティングマシンの一
例を示す概略構成図、第６図はビーム形状測定用基板の
製造工程を示す工程説明図、第７図及び第８図は夫々従
来技術による集光ビームのビーム形状測定方法の説明図
である。 １・・・・レーザ光源、２・・・・コリメートレンズ。 ３・・・・偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ） 、４・・
・・λ／４板、５・・・・対物レンズ、６・・・・ビー
ム形状測定用基板、７・・・・シリンドリカルレンズ、
８・・・フォーカスサーボ用４分割フォトディテクタ、
９・・・ハーフミラ−１１０・・・・フォトディテクタ
、１１・・・電流電圧変換器。 弗 団 （δ０ （ｐ） 売１ Ｔｙｆ３，７１Ｄ バ ［Ｔ］カン、スノ釈訴 ↓ し５ストＬ＊４ ル−ｖカ、７４；り及び−曳椹 １ エソナンク Ｉ １１５スト嘩１１＾汗 −二Ｙ−基板
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスク用ドライブや光ディスク用原盤露光機の
対物レンズ通過後の集光ビームのビーム形状を測定する
際に、ビーム形状測定用基板として、スパイラル状若し
くは同心円状に位相溝が形成されており、その位相溝は
蛇行していて、隣接トラックとの間隔が測定するビーム
径よりも大きいことを特徴とする基板を用いたことを特
徴とする集光ビームのビーム形状測定方法。 ２、光ディスク用ドライブや光ディスク用原盤露光機の
対物レンズ通過後の集光ビームのビーム形状を測定する
際に、ビーム形状測定用基板として、スパイラル状若し
くは同心円状に位相溝が形成されており、その位相溝は
三角波状になっていて、隣接トラックとの間隔が測定す
るビーム径よりも大きいことを特徴とする基板を用いた
ことを特徴とする集光ビームのビーム形状測定方法。 ３、請求項１若しくは請求項２記載の集光ビームのビー
ム形状測定方法において、ビーム形状測定用基板を回転
させながら、その基板面にフォーカスをかけ、その基板
面からの反射光をフォトディテクタにより検知し、その
信号波形と上記基板の蛇行状若しくは三角波状位相溝の
周期及び振幅との関係からビーム径を算出し、強度のピ
ーク位置を検出することを特徴とする集光ビームのビー
ム形状測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24320990A JPH04123335A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 集光ビームのビーム形状測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24320990A JPH04123335A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 集光ビームのビーム形状測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04123335A true JPH04123335A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17100454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24320990A Pending JPH04123335A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 集光ビームのビーム形状測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04123335A (ja) |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP24320990A patent/JPH04123335A/ja active Pending
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