JPH0676363A

JPH0676363A - 円盤状記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0676363A
Application number: JP4253532A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Otomo; 勝彦大友
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-08-31
Filing date: 1992-08-31
Publication date: 1994-03-18

Abstract

(57)【要約】【目的】プリピットの作製を不要として、製造工程の
簡略化及び製造コストの低廉化を効率よく図ると共に、
プリフォーマット領域とデータ領域を同一空間に配する
ことにより、記録容量の増大化を図る。【構成】トラック方向に沿って案内溝１が形成され、
セクタ毎にプリフォーマット情報とデータが記録されて
いる円盤状記録媒体において、案内溝１を、所定周波数
を有する基準信号とプリフォーマット情報とが合成され
た信号に基づいて、蛇行状に形成して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、円盤状記録媒体、特に
トラック方向に沿って案内溝が形成され、セクタ毎にプ
リフォーマット情報とデータが記録されている円盤状記
録媒体とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近時、円盤状の記録媒体として、読出し
専用の光記録媒体（一般にＣＤ−ＲＯＭと称されてい
る）や書換え型光記録媒体、その他、光変調あるいは磁
界変調によって書換えが可能な光磁気記録媒体などが提
案され、現在、ＣＤ−ＲＯＭと光磁気記録媒体が実用化
に至っている。

【０００３】特に、上記光磁気記録媒体（以下、単に光
磁気ディスクと記す）は、そのフォーマット方式とし
て、現在、連続溝フォーマット方式とサンプル・サーボ
・フォーマット方式とがある。

【０００４】これら２つのフォーマット方式の中でも、
前者の連続溝フォーマット方式は、図５に示すように、
トラック中心Ｔｃに沿って、１セクタ（例えば１３６０
バイト）毎に、プリフォーマット領域Ｚｐとデータ領域
Ｚｄとが記録されて構成される。プリフォーマット領域
Ｚｐには、セクターマーク、ベリファイチェック、セク
ター位置を示すＩＤなどのパラメータやアドレス等の情
報がそれぞれピット（プリピット）１０１として記録さ
れている。そして、これらプリフォーマット領域Ｚｐと
データ領域Ｚｄの両側にトラッキングエラー検出用の案
内溝１０２が形成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、プリピット
の情報は、再生ヘッドにより再生信号として取り出さ
れ、案内溝１０２は、再生ヘッドによりトラッキングエ
ラー信号として取り出されることから、プリピット１０
１と案内溝１０２を再生ヘッドにて光学的に分離する必
要がある。そのため、案内溝１０２の深さをλ／８ｎ、
プリピット１０１の深さをλ／４ｎに設定するようにし
ている。

【０００６】しかし、実際に、深さの異なる案内溝１０
２及びプリピット１０１を作製する場合、深さのコント
ロールがむずかしく、プロセス上、困難性を伴う。即
ち、光磁気ディスク原盤を作製する段階において、ガラ
ス基板上に塗布されたフォトレジスト膜に対してレーザ
光を照射して、フォトレジスト膜に案内溝１０２とプリ
ピット１０１の記録パターンを描画するが、このとき、
プリピット１０１に対応する記録パターンと案内溝１０
２に対応する記録パターンの深さが共に同一となってし
まうため、原盤作製後の特に、光磁気ディスクのスタン
パーを作製した後において、スタンパーに対し穴開け処
理等を行ってプリピット１０１のパターンと案内溝１０
２のパターンの深さを違える処理が必要になる。

【０００７】この場合、プリピット１０１の位置を高精
度に検出し、かつその深さ高精度に制御する必要があ
り、製造工程が非常に複雑になると共に、製造コストの
高価格化を引き起こすという問題がある。しかも、図５
に示すように、１セクタ毎にプリフォーマット領域Ｚｐ
とデータ領域Ｚｄとが空間的に分離されているため、記
録容量の増大化に限界が生じるという問題がある。

【０００８】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、プリピットの作製を省
略することができ、製造工程の簡略化及び製造コストの
低廉化を効率よく図ることができると共に、プリフォー
マット領域とデータ領域を同一空間に配することがで
き、記録容量の増大化を図ることができる円盤状記録媒
体を提供することにある。

【０００９】また、本発明は、プリピットの作製を省略
することができ、製造工程の簡略化及び製造コストの低
廉化を効率よく図ることができると共に、プリフォーマ
ット領域とデータ領域を同一空間に配することができ、
記録容量の増大化を図ることができる円盤状記録媒体を
容易に作製することができる円盤状記録媒体の製造方法
を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、トラック方向
に沿って案内溝１が形成され、セクタ毎にプリフォーマ
ット情報とデータが記録されている円盤状記録媒体にお
いて、上記案内溝１に上記プリフォーマット情報Ｓｆを
記録して構成する。

【００１１】この場合、例えば案内溝１を、所定周波数
を有する基準信号Ｐｃとプリフォーマット情報Ｓｆとが
合成された信号Ｓｃに基づいて、蛇行状に形成して構成
する

【００１２】また、本発明は、基板１７上に塗布された
フォトレジスト膜１８に対し、レーザ光Ｌｒにより記録
パターンを描画した後、現像処理を施して上記基板１７
上にフォトレジスト膜１８によるマスクを形成し、その
後、めっき処理を施して金属製のスタンパーを作製する
円盤状記録媒体の製造方法において、上記レーザ光Ｌｒ
により、フォトレジスト膜１８に対し、案内溝１に沿っ
た記録パターンを描画する段階において、上記レーザ光
Ｌｒをプリフォーマット情報Ｓｆに基づいて微小角偏向
させて上記記録パターンを描画する。

【００１３】この場合、例えば、所定周波数を有する基
準信号Ｐｃと上記プリフォーマット情報Ｓｆとが合成さ
れた信号Ｓｃに基づいて、上記レーザ光Ｌｒを微小角偏
向させる。

【００１４】

【作用】本発明に係る円盤状記録媒体において、再生信
号を得る場合、データ領域Ｚｄに記録されているデータ
を再生ヘッドにて検出して行われる。このとき、案内溝
１を同時に再生ヘッドにてトレースすることにより、ト
ラッキングエラー信号を検出して上記データの検出を行
う。

【００１５】特に、本発明に係る円盤状記録媒体におい
ては、案内溝１がプリフォーマット情報Ｓｆに基づいて
蛇行状に形成されていることから、再生ヘッドから取り
出されるトラッキングエラー信号は、上記プリフォーマ
ット情報Ｓｆを表すことになる。即ち、データの検出と
プリフォーマット情報Ｓｆの検出とが同時に行われるこ
とになり、プリフォーマット情報Ｓｆを得るためのプリ
ピットは不要となる。

【００１６】また、本発明の円盤状記録媒体の製造方法
において、円盤状記録媒体原盤を作製する場合、まず、
基板１７上に塗布されたフォトレジスト膜１８に対し、
レーザ光Ｌｒにより記録パターンを描画してマスクを作
製するが、案内溝１に対応する記録パターンを描画する
際、所定周波数を有する基準信号Ｐｃとプリフォーマッ
ト情報Ｓｆとが合成された信号Ｓｃに基づいて、レーザ
光Ｌｒを微小角偏向させるため、描画される記録パター
ンはプリフォーマット情報Ｓｆに基づいて、蛇行状に形
成されることになる。

【００１７】その後、フォトレジスト膜１８に対して現
像処理を行って、例えば上記レーザ光Ｌｒによって描画
された記録パターンの部分を溶解除去する。このとき、
フォトレジスト膜１８によるマスクが形成され、ガラス
基板１７上にフォトレジスト膜１８によるマスクが形成
された円盤状記録媒体原盤を得る。その後、例えば無電
解めっきを施して、フォトレジスト膜１８を導電化させ
た後、金属めっきを施して、フォトレジスト膜１８全面
に金属めっき膜を形成する。その後、この金属めっき膜
を剥離することにより、金属製のスタンパーが完成す
る。このとき、記録パターン、特に案内溝１に対応する
記録パターンは、プリフォーマット情報Ｓｆに基づいて
蛇行状に形成された形となる。

【００１８】上記スタンパーを用いて、円盤状記録媒体
を作製するときは、上記工程以後、大量複製工程に移
り、スタンパーを型として、例えば射出成形法、圧縮成
形法あるいはフォトポリマリゼージョン（２ｐ）法を用
いて、円盤状記録媒体を複製する。このとき、円盤状記
録媒体の案内溝１は、プリフォーマット情報Ｓｆに基づ
いた形に蛇行状に形成される。

【００１９】

【実施例】以下、本発明に係る円盤状記録媒体を光磁気
ディスクに適用した実施例（以下、実施例に係る光磁気
ディスクと記す）を図面を参照しながら説明する。

【００２０】この実施例に係る光磁気ディスクは、図１
Ａに示すように、１セクタ毎にプリフォーマット領域Ｚ
ｐとデータ領域Ｚｄとが存在し、かつトラック中心Ｔｃ
の両側において、そのトラック方向に沿って案内溝１が
形成された連続溝フォーマット方式となっており、その
回転制御方式は、図１Ｂに示すように、ＣＬＶ方式とな
っている。

【００２１】そして、上記案内溝１は、所定の周波数を
有する基準信号とプリフォーマット情報が合成された信
号に基づいて形成され、図に示すように、蛇行状に形成
されている。従って、この光磁気ディスクにおいては、
トラック中心Ｔｃ上にデータが記録され、案内溝１にプ
リフォーマット情報が記録された形となって、プリフォ
ーマット領域Ｚｐとデータ領域Ｚｄとが同一空間に存在
した形となっている。

【００２２】従って、この光磁気ディスクから再生信号
を得る場合、データ領域Ｚｄに記録されているデータを
再生ヘッドにて検出することにより行われる。このと
き、既知の読み出し方法と同様に、案内溝１を同時に再
生ヘッドにてトレースすることにより、トラッキングエ
ラー信号を検出しながら上記データの検出を行う。

【００２３】特に、本実施例に係る光磁気ディスクにお
いては、案内溝１が上記基準信号とプリフォーマット情
報との合成信号に基づいて蛇行状に形成されていること
から、再生ヘッドから取り出されるトラッキングエラー
信号を復調することにより、プリフォーマット情報を得
ることができる。即ち、本実施例においては、データの
検出とプリフォーマット情報の検出とが同時に行われる
ことになり、プリフォーマット情報を得るためのプリピ
ットは不要となる。また、リードイン領域に記録される
システム情報（ディスクパラメータ等）を、上記のよう
に、案内溝１にて記録すれば、システム情報を得るため
のプリピットも不要となり、光磁気ディスク全体におい
てプリピットを形成する必要がなくなる。

【００２４】上述のように、本実施例に係る光磁気ディ
スクによれば、プリピットを形成する必要がないため、
案内溝１とプリピットを形成するための深さ制御が不要
となり、製造工程の簡略化を図ることができ、製造コス
トの低廉化を効率よく図ることができる。しかも、プリ
フォーマット領域Ｚｐとデータ領域Ｚｄとを同一空間に
形成することができるため、１セクタあたりの記録容量
の増大化、並びに光磁気ディスク全体の記録容量の増大
化を向上させることができる。

【００２５】次に、上記本実施例に係る光磁気ディスク
の製造方法、特に光磁気ディスクのためのスタンパーを
作製する方法を図２〜図４を参照しながら説明する。こ
こで、図２で示す装置は、スタンパーの前段階である光
磁気ディスクの原盤作製に用いられる光学記録装置（レ
ーザカッティング装置）を構成を示すものである。

【００２６】この装置は、基本的には、気体を増幅媒質
とするガスレーザ光源１１と、このガスレーザ光源１１
から出射されたレーザ光Ｌｒを、入力される信号電界に
応じて強度変調する横型電気光学変調器（Erectro Opti
c Modulator ；以下、単にＥＯＭと記す）１２と、記録
信号Ｓｗにて変調された超音波ＵＳ₁ に基づいて、上記
ＥＯＭ１２からのレーザ光Ｌｒを強度変調する音響光学
変調器（Acousto Optic Modulator ；以下、単にＡＯＭ
と記す）１３と、このＡＯＭ１３にて強度変調されたレ
ーザ光Ｌｒを、高速でＸ軸方向に微小角偏向する音響光
学偏向器（Acousto Optic Deflector ；以下、単にＡＯ
Ｄと記す）１４とから構成されている。

【００２７】ＡＯＤ１４を透過したレーザ光Ｌｒは、ダ
イクロイックミラー１５を介してカッティングヘッド１
６に導かれる。このカッティングヘッド１６は、レーザ
光Ｌｒを、円形のガラス基板１７上に形成されたフォト
レジスト膜１８上に集光する対物レンズ１９と、ＡＯＤ
１４からのレーザ光Ｌｒを対物レンズ１９側に反射させ
るミラー２０とから構成され、特に対物レンズ１９は、
上記フォトレジスト膜１８上に所定間隔をもって対向し
て配されている。

【００２８】そして、このカッティングヘッド１６は、
例えばステッピングモータを主体とする既知の移動機構
（図示せず）によって、ガラス基板１７の径方向に移動
する。また、ガラス基板１７は、円形のステージ２１上
に例えば真空吸着によって固定されており、このステー
ジ２１がスピンドルモータ２２によって回転駆動される
ことにより、例えばＣＬＶ方式で回転するようになって
いる。

【００２９】ここで、レーザ光Ｌｒとしては、フォトレ
ジスト膜１８の感光材料がポジ型の場合、一般に、青色
から紫外領域の波長をもつ連続発振のガスレーザが用い
られる。具体的には、波長４５８ｎｍのＡｒレーザ、波
長４４２ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ、波長４１０ｎｍのＫ
ｒレーザあるいは波長３６０ｎｍのＵＶ−Ａｒレーザが
使用される。また、これらのガスレーザは、ブリュース
ター窓により直線偏光のレーザ光Ｌｒとして出射され
る。

【００３０】ＥＯＭ１２は、例えばＡＤＰやＫＤＰの結
晶で構成されており、このＥＯＭ１２の電極間に可変直
流電源２３のみが接続されている。通常、この可変直流
電源２３からは、一定レベルの直流電圧Ｖが出力され
る。そして、ＥＯＭ１２に入射された直線偏光のレーザ
光Ｌｒ、特に媒質中における２つの直交偏光成分間の光
学的位相差Δφが、上記可変直流電源２３からの直流電
圧Ｖの供給によって制御され、この制御により、レーザ
光Ｌｒの偏光状態が変化する。

【００３１】このＥＯＭ１２を透過したレーザ光Ｌｒ
は、楕円偏光となるため、後段の１／４波長板及び検光
子からなるアナライザ２４にて強度変調光に変換され
る。即ち、ＥＯＭ１２から出力された楕円偏光のレーザ
光Ｌｒは、まず、１／４波長板にて直線偏光のレーザ光
Ｌｒに戻されるが、入射光に比べて電気ベクトルの振動
面が直流電圧Ｖに比例した角度Δφ／２だけ回転してい
るため、次に検光子によって強度変調光に変換される。
この場合、上記ＥＯＭ１２から出力されたレーザ光Ｌｒ
は、図４で示す特性曲線ｓｉｎ²（Ｖ）に比例した光出
力（光量）となる。

【００３２】そして、本実施例においては、ＥＯＭ１２
の後段（正確には、アナライザ２４の後段）にハーフミ
ラー又はビームスプリッタ（以下、ハーフミラー等と記
す）２５を配置することによって、ＥＯＭ１２を透過し
たレーザ光Ｌｒを２つに分け、この２つに分岐された光
路中、ＥＯＭ１２の透過光路に延長した第１の光路上に
光検出器２６を配置し、その後段に電圧制御回路２７を
接続する。そして、この電圧制御回路２７と上記可変直
流電源２３とを接続する。即ち、ＥＯＭ１２、光検出器
２６、電圧制御回路２７及び可変直流電源２３にて１つ
のフィードバック系２８が構成される。光検出器２６
は、ＥＯＭ１２を透過したレーザ光Ｌｒの光出力を信号
電流（検出信号）Ｓｉに変換するもので、例えばフォト
ダイオードにて構成することができる。

【００３３】電圧制御回路２１は、例えば図３に示すよ
うに、光検出器２６からの検出信号Ｓｉを電圧変換する
プリアンプ３１と、このプリアンプ３１からの電圧信号
Ｖｉとリファレンス電圧Ｖｒとの差をとる差分アンプ３
２と、この差分アンプ３２からの差信号Δｖを所定のゲ
インにて増幅するドライブアンプ３３とから構成されて
いる。ここで、上記リファレンス電圧Ｖｒは、所望する
光出力（光量）対応した電圧に設定されている。また、
可変直流電源２３は、基準電圧源３４と、この基準電圧
源３４からの基準電圧Ｖｂとドライブアンプ３３からの
増幅差信号ΔＶとを加算する加算器３５とで構成されて
いる。

【００３４】このフィードバック系２８の動作を説明す
ると、まず、ＥＯＭ１２を透過したレーザ光Ｌｒの一部
がハーフミラー等２５を介して光検出器２６に入射され
る。この光検出器２６からは、入射されたレーザ光Ｌｒ
の光量に応じた信号電流（検出信号）Ｓｉが出力され
る。光検出器２６からの検知信号Ｓｉは、後段のプリア
ンプ３１にて検出信号Ｓｉが電圧変換され、検出信号Ｓ
ｉの電流レベルに応じた電圧レベルを有する電圧信号Ｖ
ｉとして出力される。

【００３５】そして、次段の差分アンプ３２から上記電
圧信号Ｖｉとリファレンス電圧Ｖｒとのレベル差を示す
差信号Δｖが出力される。電圧信号Ｖｉのレベルがリフ
ァレンス電圧Ｖｒのレベルよりも大きい場合、負レベル
の差信号Δｖが出力され、逆に電圧信号Ｖｉのレベルが
リファレンス電圧Ｖｒのレベルよりも小さい場合、正レ
ベルの差信号Δｖが出力される。

【００３６】上記差分アンプ３２からの差信号Δｖは、
後段のドライブアンプ３３において、所定のゲインにて
増幅される。このゲインは、例えば図４の特性図に示す
ように、予め可変直流電源２３の基準電圧Ｖｂと対応し
た動作点Ｐにおける光量を基準として、固定変化量ΔＩ
におけるポイントＡでの位相差Δφａを割り出してお
き、このときの差分アンプ３２から出力される差信号Δ
ｖと上記位相差Δφａに基づいて設定する。

【００３７】そして、後段の加算器３５にて、上記ドラ
イブアンプ３３からの増幅差信号ΔＶと、上記基準電圧
源３４からの基準電圧Ｖｂとが加算され、この加算電圧
信号ＶがＥＯＭ１２の電極間に供給される。即ち、ＥＯ
Ｍ１２を透過したレーザ光Ｌｒの光量がリファレンス電
圧Ｖｒに対応した基準光量となるように基準電圧（ＥＯ
Ｍ１２に印加される電圧Ｖ）が変化することになる。従
って、ＥＯＭ１２を透過するレーザ光Ｌｒの光出力（光
量）が、例えば温度変化などによって変動する場合にお
いても、このフィードバック系２８によって、その光量
は一定となる。

【００３８】一方、ハーフミラー等２５によって２つに
分岐された光路中、このハーフミラー等２５によって反
射されたレーザ光Ｌｒが通る第２の光路上に、ビーム縮
小レンズ４１、ＡＯＭ１３及びビーム拡大レンズ４２が
順に配置されている。上記ＡＯＭ１３には、超音波発生
器４３が接続されており、この超音波発生器４３は、発
生した超音波を、入力端子φｉｎに供給される記録信号
（フォトレジスト膜１８に描画する記録パターンが電気
的に変換された信号）Ｓｗに基づいて変調するものであ
る。この超音波発生器４３にて変調された超音波ＵＳ₁
は、ＡＯＭ１３に供給される。

【００３９】このＡＯＭ１３は、例えばＴｅＯ₂ 結晶か
ら構成されており、超音波発生器４３からの超音波供給
によりその結晶中に生じた屈折率変化による位相回折格
子を用いて、そのブラッグ回折の１次回折光を信号記録
に使用するものである。回折光の強度は、超音波パワー
で決まり、回折方向はキャリア周波数（超音波周波数）
で決まる。従って、原理的に上記ＥＯＭ１２のようなバ
イアス変動がない。また、最近では、結晶デバイスと発
生回路の改善により、ＥＯＭ１２と同等の変調帯域幅を
得ることができる。しかも、フィードバック制御を行わ
ないため、どのようなデューティの信号や低周波の信号
に対しても安定な光変調を行うことができる。このＡＯ
Ｍ１３にて強度変調されたレーザ光Ｌｒは、後段のビー
ム拡大レンズ４２によって、そのビーム径が復元され
る。

【００４０】ＡＯＤ１４にも、上記ＡＯＭ１３に接続さ
れている超音波発生器４３と同じ超音波発生器４４が接
続されており、この超音波発生器４４は、発生した超音
波を、供給される制御信号Ｓｃに基づいて変調するもの
である。この超音波発生器４４にて変調された超音波Ｕ
Ｐ₂ は、ＡＯＤ１４に供給される。

【００４１】このＡＯＤ１４は、例えばＴｅＯ₂ 結晶か
ら構成されており、超音波発生器４４からの超音波供給
によりその結晶中に生じた屈折率変化による位相回折格
子を用いて、そのブラッグ回折における１次回折光の回
折角がキャリア周波数にほぼ比例することを利用したも
のである。

【００４２】即ち、超音波発生器４４から超音波ＵＰ₂
が供給されることによって、結晶中に超音波振動の進行
波が作られる。このとき、キャリア周波数が低い場合に
は、波長の長い進行波が作られ、キャリア周波数が高い
場合には、波長の短い進行波が作られる。そして、この
ＡＯＤ１４を透過するレーザ光Ｌｒは、結晶中における
超音波振動の進行波と遭遇され、この進行波によって回
折されて偏向を受ける。このとき、進行波の波長が短い
ほど大きな偏向を受けるので、例えば制御信号Ｓｃの周
波数を低い周波数から高い周波数へ鋸歯状に掃引するこ
とで、ＡＯＤ１４を透過するレーザ光Ｌｒは進行波によ
って高速に微小角偏向を受けることになる。

【００４３】上記制御信号Ｓｃは、合成回路４５にて作
成される。この合成回路４５は、一方の入力端子φ₁ に
供給される所定の周波数を有する基準信号Ｐｃと、他方
の入力端子φ₂ に供給されるプリフォーマット情報Ｓｆ
を合成して上記制御信号Ｓｃを作成する。基準信号Ｐｃ
は、スピンドルモータ２２からの回転タイミング信号Ｐ
に基づいてＰＬＬ４６にて生成される。そして、この合
成回路４５からの制御信号Ｓｃが超音波発生器４４に供
給されることにより、超音波発生器４４において発生し
た超音波が上記制御信号Ｓｃによって変調され、ＡＯＤ
１４に供給されることになる。

【００４４】対物レンズ１９は、フォーカスサーボ機構
４７によって、フォトレジスト膜１８に対する焦点調整
が行われる。このフォーカスサーボ機構４７は、対物レ
ンズ１９をダンパ（図示せず）で吊り、スピーカの磁気
回路と同じようにコイル４８で駆動するアクチュエータ
４９と、いわゆる離軸法と呼ばれるレーザ光Ｌｆを用い
た誤差検出光学系から構成されている。

【００４５】この誤差検出光学系は、図示するように、
上記ガスレーザ光源１１から出射されるレーザ光Ｌｒと
は異なる波長で、かつダイクロイックミラー１５を反射
する波長のレーザ光Ｌｆを出射するフォーカス用のレー
ザ光源５１と、このレーザ光源５１からのレーザ光Ｌｆ
をダイクロイックミラー１５を介して対物レンズ１９側
に入射させ、かつ対物レンズ１９を通してフォトレジス
ト膜１８上で反射した戻り光を光検出器５２側に導く光
アイソレータ５３とから構成されている。なお、光アイ
ソレータ５３は偏光ビームスプリッタ５４と１／４波長
板５５から構成されている。

【００４６】一般に、対物レンズ１９によって、レーザ
光Ｌｒを絞ると、その焦点深度が浅くなるため、例えば
ガラス基板１７に反りなどがある場合には、均一に露光
することができなくなる。しかし、この実施例において
は、上述したように、フォーカスサーボ機構４７を備え
ているため、その焦点誤差を±０．１μｍ以下に抑える
ことができ、ガラス基板１７に反りなどが生じていて
も、レーザ光Ｌｒによるフォトレジスト膜１８に対する
露光を均一に行うことが可能となる。

【００４７】次に、上記本実施例に係るレーザカッティ
ング装置でガラス基板１７上のフォトレジスト膜１８に
対して記録パターンの描画（露光）を行う場合の動作を
説明する。

【００４８】まず、レーザ光源１１から出射されたレー
ザ光Ｌｒが、フィードバック系２８を備えたＥＯＭ１２
において、その光出力が一定となるように制御される。
即ち、レーザ光源１１からのレーザ光Ｌｒは、ＥＯＭ１
２において、このＥＯＭ１２に供給される直流電圧Ｖに
基づいて強度変調され、レーザ光Ｌｒは、供給される直
流電圧Ｖに応じてそのビーム径が一定となるように整形
される。

【００４９】このとき、温度変化やバイアス電位の変動
によって、ＥＯＭ１２の動作点が容易に変動することに
なるが、本実施例に係るレーザカッティング装置におい
ては、フィードバック系２８によって、レーザ光Ｌｒの
一部を検出して、レーザ光Ｌｒの光出力（光量）が一定
となるように上記ＥＯＭ１２をフィードバック制御する
ため、このＥＯＭ１２を透過するレーザ光Ｌｒの光出力
は安定化する。しかも、レーザ光Ｌｒに含まれているノ
イズ、特に、フィードバックの帯域内における高周波ノ
イズが低減される。従って、ＥＯＭ１２からは、ノイズ
及び光量変動の少ない良質の連続光が出力される。

【００５０】そして、このＥＯＭ１２を透過したレーザ
光Ｌｒは、後段のＡＯＭ１３において、超音波発生器４
３の入力端子φｉｎに供給された記録信号Ｓｗによって
変調された超音波ＵＰ₁ に基づいて強度変調される。こ
の場合、原理的に上記ＥＯＭ１２のような動作点変動は
ない。また、フィードバック制御を行わないため、どの
ようなデューティの信号や低周波の信号に対しても安定
に強度変調される。

【００５１】その後、上記ＡＯＭ１３を透過したレーザ
光Ｌｒは、後段のＡＯＤ１４にて微小角偏向される。と
ころで、上記ＡＯＭ１３とこのＡＯＤ１４間には、ハー
フミラー又はビームスプリッタ（以下、ハーフミラー等
と記す）５６が配されており、上記ＡＯＭ１３を透過し
たレーザ光Ｌｒのうち、ハーフミラー等５６で反射した
光成分がＡＯＤ１４に入射され、上記ハーフミラー等５
６を透過した光成分がモニタ用の光検出器５７に入射さ
れる。この光検出器５７に既知の波形表示手段を接続す
ることにより、ＡＯＭ１３にて強度変調されたレーザ光
Ｌｒの波形をモニタすることができる。

【００５２】上記ＡＯＤ１４を透過したレーザ光Ｌｒ
は、ダイクロイックミラー１５及びミラー２０を介して
対物レンズ１９に導かれ、最終的にこの対物レンズ１９
によって集光されて、フォトレジスト膜１８上に照射さ
れる。このとき、ガラス基板１７が、スピンドルモータ
２２によってＣＬＶ方式で一方向に回転しており、ま
た、カッティングヘッド１６が移動機構によって、ガラ
ス基板１７の径方向に移動することから、フォトレジス
ト膜１８に記録信号Ｓｗに基づいた記録パターンが描画
され、その描画された記録パターンに沿って感光され
る。また、このとき、フォーカスサーボ機構４７によっ
て、対物レンズ１９のフォトレジスト膜１８に対する焦
点調整が同時に行われる。

【００５３】この記録パターンの描画時、レーザ光Ｌｒ
は、ＡＯＤ１４にてガラス基板１７の径方向に沿って微
小角偏向される。この場合、同時にガラス基板１７がス
ピンドルモータ２２によってＣＬＶ方式にて回転してい
ることから、フォトレジスト膜１８に描画される記録パ
ターンは、トラック方向に沿って蛇行状に形成されるこ
とになる。

【００５４】その後は、例えば無電解めっきを施して、
フォトレジスト膜１８を導電化させた後、金属めっきを
施して、フォトレジスト膜１８全面に金属めっき膜を形
成する。その後、この金属めっき膜を剥離することによ
り、金属製のスタンパーが完成する。このとき、記録パ
ターンは、蛇行線を有する突起状に形成される。

【００５５】上記スタンパーを用いて、光磁気ディスク
を作製するときは、上記工程以後、大量複製工程に移
り、スタンパーを型として、例えば射出成形法、圧縮成
形法あるいはフォトポリマリゼージョン（２ｐ）法を用
いて、光磁気ディスクを複製する。このとき、上記スタ
ンパーに形成されている記録パターンに対応した部分が
蛇行状の案内溝１（図１Ａ参照）として形成される。

【００５６】上記製造方法によれば、レーザ光源１１か
ら出射されたレーザ光Ｌｒを、まず、ＥＯＭ１２におい
て、このＥＯＭ１２に供給される直流電圧Ｖに基づいて
強度変調するが、このとき、フィードバック系２８によ
って、レーザ光Ｌｒの光出力（光量）が一定となるよう
にＥＯＭ１２をフィードバック制御するため、このＥＯ
Ｍ１２を透過するレーザ光Ｌｒの光出力は安定化し、し
かも、レーザ光Ｌｒに含まれているノイズ、特に、フィ
ードバックの帯域内における高周波ノイズが低減され、
ノイズ及び光量変動の少ない良質で、かつビーム径が一
定となった連続光を得ることができる。

【００５７】そして、上記ＥＯＭ１２を透過したレーザ
光Ｌｒは、後段のＡＯＭ１３において、このＡＯＭ１３
に供給される超音波（記録信号Ｓｗによって変調された
超音波）ＵＰ₁ に基づいて強度変調するが、この場合、
原理的に上記ＥＯＭ１２のような動作点変動はなく、ま
た、フィードバック制御を行わないため、どのようなデ
ューティの信号や低周波の信号に対しても安定に強度変
調される。

【００５８】従って、このレーザカッティング装置によ
れば、レーザ光源１１の種類及び印加信号の種類に拘ら
ず、フォトレジスト膜１８に記録パターンを高精度に描
画することができる。即ち、フィードバック系２８によ
って、ＥＯＭ１２を透過したレーザ光Ｌｒのノイズリダ
クション及びパワーコントロールを行うため、きわめて
安定な露光が可能となる。このことから、フォトレジス
ト膜１８に対して高感度であるが、ノイズが多いため使
用が困難であったＨｅ−Ｃｄレーザを、このレーザカッ
ティング装置のレーザ光源１１として使用することがで
きる。

【００５９】しかも、案内溝１に対応する記録パターン
をレーザ光Ｌｒにて描画する際、プリフォーマット情報
Ｓｆに基づいて変調された超音波ＵＰ₂ が供給されるＡ
ＯＤ１４にてレーザ光Ｌｒを微小角偏向するようにした
ので、案内溝１は、上記プリフォーマット情報Ｓｆに応
じて蛇行線を描くようになり、図１で示すように、プリ
ピットの形成が不要となる光磁気ディスクを容易に作製
することができる。

【００６０】

【発明の効果】上述のように、本発明に係る円盤状記録
媒体によれば、トラック方向に沿って案内溝が形成さ
れ、セクタ毎にプリフォーマット情報とデータが記録さ
れている円盤状記録媒体において、上記案内溝に上記プ
リフォーマット情報を記録するようにしたので、プリピ
ットの作製を省略することができ、製造工程の簡略化及
び製造コストの低廉化を効率よく図ることができると共
に、プリフォーマット領域とデータ領域を同一空間に配
することができ、記録容量の増大化を図ることができ
る。

【００６１】また、本発明に係る円盤状記録媒体の製造
方法によれば、基板上に塗布されたフォトレジスト膜に
対し、レーザ光により記録パターンを描画した後、現像
処理を施して上記基板上にフォトレジスト膜によるマス
クを形成し、その後、めっき処理を施して金属製のスタ
ンパーを作製する円盤状記録媒体の製造方法において、
上記レーザ光により、フォトレジスト膜に対し、案内溝
に沿った記録パターンを描画する段階において、上記レ
ーザ光をプリフォーマット情報に基づいて微小角偏向さ
せて上記記録パターンを描画するようにしたので、プリ
ピットの作製を省略することができ、製造工程の簡略化
及び製造コストの低廉化を効率よく図ることができると
共に、プリフォーマット領域とデータ領域を同一空間に
配することができ、記録容量の増大化を図ることができ
る円盤状記録媒体を容易に作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る円盤状記録媒体を光磁気ディスク
に適用した実施例（以下、実施例に係る光磁気ディスク
と記す）の１セクタ毎のトラックフォーマット並びに回
転制御方式による１セクタ毎の記録パターンを模式的に
示す説明図である。

【図２】実施例に係る光磁気ディスクの製造方法に用い
られるレーザカッティング装置の光学系及び回路系の構
成を示すブロック線図である。

【図３】上記レーザカッティング装置に具備されるフィ
ードバック系の回路構成を示すブロック線図である。

【図４】上記レーザカッティング装置に使用されるＥＯ
Ｍの入力−出力特性を示す特性図である。

【図５】従来例に係るトラックフォーマットを模式的に
示す説明図である。

【符号の説明】

１案内溝Ｚｐプリフォーマット領域Ｚｄデータ領域１１レーザ光源１２ＥＯＭ１３ＡＯＭ１４ＡＯＤ１６カッティングヘッド１７ガラス基板１８フォトレジスト膜４３，４４超音波発生器４５合成回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラック方向に沿って案内溝が形成さ
れ、セクタ毎にプリフォーマット情報とデータが記録さ
れている円盤状記録媒体において、上記案内溝に上記プリフォーマット情報が記録されてい
ることを特徴とする円盤状記録媒体。
【請求項２】上記案内溝は、所定周波数を有する基準
信号と上記プリフォーマット情報とが合成された信号に
基づいて、蛇行状に形成されていることを特徴とする請
求項１記載の円盤状記録媒体。
【請求項３】基板上に塗布されたフォトレジスト膜に
対し、レーザ光により記録パターンを描画した後、現像
処理を施して上記基板上にフォトレジスト膜によるマス
クを形成し、その後、めっき処理を施して金属製のスタ
ンパーを作製する円盤状記録媒体の製造方法において、上記レーザ光により、フォトレジスト膜に対し、案内溝
に沿った記録パターンを描画する段階において、上記レ
ーザ光をプリフォーマット情報に基づいて微小角偏向さ
せて上記記録パターンを描画することを特徴とする円盤
状記録媒体の製造方法。
【請求項４】所定周波数を有する基準信号と上記プリ
フォーマット情報とが合成された信号に基づいて、上記
レーザ光を微小角偏向させることを特徴とする請求項３
記載の円盤状記録媒体の製造方法。