JPH04126790A - 発光素子 - Google Patents

発光素子

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JPH04126790A
JPH04126790A JP2247161A JP24716190A JPH04126790A JP H04126790 A JPH04126790 A JP H04126790A JP 2247161 A JP2247161 A JP 2247161A JP 24716190 A JP24716190 A JP 24716190A JP H04126790 A JPH04126790 A JP H04126790A
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JP
Japan
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hole transport
light
formula
phenylenediamine
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JP2247161A
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English (en)
Inventor
Shigeru Takahara
茂 高原
Nobuhiro Fukuda
福田 信弘
Yutaka Ohashi
豊 大橋
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は液晶のバックライトや各種デコレーシテンなど
の照明や、デイスプレィや表示、光通信の光源などに用
いられる薄膜型の発光素子に関する。
C従来の技術] 高輝度の電荷注入型有機電界発光素子が最近発表され、
これらが面発光素子であり、マトリックス可動型デイス
プレィなどへの応用が期待されている。
これらの電荷注入型電界発光素子については、例えば、
アプライド フィジフクス レター(Appl、Phy
s、Let、) Ll 913 (1987)やジャパ
ニーズ ジャーナル オブ アプライド フィジフクス
(Jpn、J、Appl、Phys、) U 1269
 (1988)などに発表されている0発表されている
薄膜デバイスの積層構造は、ガラスなどの透明基板上に
透明電極を作成し、その上にジアミンなどの有機化合物
からなる正孔輸送層、発光層、電極からなり、全体の厚
さは数μm以下の1il1発光素子となり得る。
〔発明が解決しようとする!!Iff]上記の有機電界
発光素子においては、発光強度が時間とともに低下して
いく現象、すなわち発光輝度の経時劣化が課題とされて
いる。したがって発光輝度の経時劣化の改善と発光輝度
の向上が望まれている。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した
結果、有機化合物からなる正孔輸送層にもちいるジアミ
ン誘導体として、m−フェニレンジアミン系化合物を用
いることによって、高効率の薄膜型発光素子が得られる
のではないかとの着想を得て、これを試みたところ、高
発光効率のみならず経時劣化の少ない薄膜型発光素子が
実現し、本発明を完成した。
電子写真用感光体の研究において、トリフェニルアミン
系のジアミン誘導体が正孔輸送層の材料として知られて
いる。この中でも、m−フェニレンジアミン系化合物に
ついては、例えば国中、検出らの日本化学会第56回春
期年会、3XII C39での発表にみられるように、
電子写真用感光体の樹脂分散系のキャリア輸送材料とし
て、m−フェニレンジアミン系化合物が検討され、他の
アミン系化合物と比較して、高いドリフト移動度を有し
ている。この理由として、フェニレンジアミンがm位に
ついた誘導体では、分子内の電子密度の偏りが小さいと
実送まれている。このために、正孔を移動する中間状態
であるイオンラジカル状態が分子内で局在化せず、高い
ドリフト移動度を与えるのではないかと提案している。
電子写真用感光体においては、通常、正孔輸送材料は樹
脂に分散させて用いられ、光によって電荷を発生する電
荷発生材料とともに用いられる。
また、電子写真用感光体に用いられる正孔輸送層は20
μm程度の厚みで形成され、電荷発生材料で発生した微
量の正孔を輸送し、コロナ帯電した表面電荷を消去する
機能を果たしている。
これに対して、本発明における発光素子においては、電
子写真用素子における帯電電荷の消去とは興なり、連続
的な直流電流が直接流れるばかりではなく、正孔輸送層
には高い電界をかけるため非常に薄い膜が形成され樹脂
などは用いられない。
しかしながら、m−フェニレンジアミン系化合物の正孔
を移動するイオンラジカル状態の非局在化が本発明にお
けるような素子においても、高い正孔輸送能を発現し、
発光効率を向上させるのではないかと考えた。また、意
外なことに、今までm−フェニレンジアミン系化合物は
発光素子に用いられたことはなかった。
驚いたことには、m−フェニレンジアミン系化合物を正
孔輸送層に用いたところ、高い発光輝度が得られたのみ
ならず、発光の経時劣化が小さくなることを見いだした
。これば、m位の置換体であるため、2位での置換体な
どに比べて対称性がくずれ、本発明で用いられるような
バインダーなどの構成物がない薄膜においてもドメイン
などをつくりにくいためであると考えられる。
これによって、高い正孔輸送能をもちながら安定な正孔
輸送層が得られたものと考えられる。
本発明は、少なくとも透明電極上に有機化合物からなる
正孔輸送層、発光層、電極を順に積層した構成からなり
、有機化合物からなる正孔輸送層が、−数式(1) 〔式(1)において、R1、R2、R1、R4、R3は
水素原子、アルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子
を示し、それぞれ置換できるかぎり置換してもよく、ま
た、すべての置換基は同一でも、それぞれ互いに異なっ
ていてもよい。Mは水素原子、アルキル基、アルコキシ
ル基、ハロゲン原子、または、−数式(2) 〔式(2)においてR−1R7は水素原子、アルキル基
、アルコキシル基、ハロゲン原子を示し、それぞれ置換
できるかぎり置換してもよく、また、すべての置換基は
同一でも、それぞれ互いに異なっていてもよい]を示す
〕 で表されるm−フェニレンジアミン系化合物であること
を特徴とする発光素子及び発光層と電極の間に電子輸送
層が積層されている上記の発光素子に関するものである
すなわち、m−フェニレンジアミン系化合物を正孔輸送
層とした高輝度で低劣化の薄膜型発光素子である。
なお、式(1)及び(2)において「それぞれ置換でき
る」の意味は式中の各ベンゼン環が各々1〜5の置換基
を持ちうろことを意味する。
図1は本発明の構成を例示した図である。図1において
100は透明基板を表し、製造上および素子の機械的構
成要素や保護の目的で用いられるが、場合によってはな
くとも構わない。透明基板は入射光に対して透明であれ
ばよく、好適な例としては、ガラスやプラスチック樹脂
基板があげられる。これらの基板には発光する光を一部
分除去するために無機やを機の顔料や染料などの添加物
を加えてもよい。また、光学フィルター4ill!能を
もつ膜を挿入または積層してもよい。
本発明における透明電極は図1では101で示される。
用いられる材料は、入射光あるいは出力光に対して十分
な光透過性を持つものであればよい、好適な例としては
、正孔輸送層に正孔を注入しやすいものが好まれ、−船
釣に電子の仕事関数の大きな金属、合金、金属酸化物な
どの金属化合物薄膜や、それらの積層された薄膜などが
用いられる。例えば、白金、金、セレン、パラジウム、
ニッケル、タングステン、タンタル、テルルなどの金属
や合金化合物またそれらの積層膜、CuIなどの金属化
合物薄膜や積層膜が好ましい例としてあげられる。
本発明において、透明電極上に有機化合物からなる正孔
輸送層が形成される。図1においては、有機化合物から
なる正孔輸送層は102で示される。本発明の特徴はこ
の有機化合物からなる正孔輸送層材料に、−数式(1)
で示されるm−フェニレンジアミン系化合物を用いるこ
とである。
例えば、好適な例としてN、N、N”、N“−テトラフ
ェニル−1,3−ジアミノトンゼン(m−PDA)C式
%式% 〔式(12)) 、N、N、N’、N’−テトラキス(
3−メチルフェニル’)−3,5−ジアミノトルエン(
5Me−m−PDA)C式(13)) 、N、N、N’
、N’、N”、N“−へキサキス(4〜メチルフエニル
)−1,3,5−トリアミノベンゼン(6Me−1,3
,5−DPAB)C式(14)Eなどをあげることがで
きる。これらの例の構造式を式(11)から式(14)
に示す。
(I2) また、これらのm−フェニレンジアミン系化合物の合成
方法は、例えば、特開平1−142642号に開示され
一般に知られているものである。
本発明における有機化合物からなる正孔輸送層の厚さは
特に限定されないが通常5nmから2μmが採用される
本発明における正孔輸送層の製造方法としては、真空蒸
着法や昇華法、モレキュラービームエピタキシー法、L
B法、ディッピングやスピンコードなどの塗布法などの
物理的または化学的な薄膜形成方法をとることができる
上記の有機化合物からなる正孔輸送層と接して発光層が
形成される。図1においては103が発光層を示す。本
発明における発光層に用いられる有機化合物としては、
高い発光量子収率をもち、外部摂動を受けやすいπ電子
系を有し、容易に励起されやすい有機化合物などが好適
に用いられる。
このような有機化合物としては、例えば、アントラセン
、コロネン、ペリレンなどの縮合多環芳香族炭化水素類
やP−ターフェニル、ポリ−p−キシレンなどのポリフ
ェニル12.5−ジフェニルオキサゾール、1,4−ビ
ス−(2−メチルスチリル)−ベンゼンなどのジスチル
ヘンセン類、シクロペンタジェン類、ペリノン類、キサ
ンチン類、クマリン類、アクリジン類、NK1952(
日本感光色素製品)などのシアニン色素類、ヘンシフエ
ノン類、フタロシアニン色素類、ならびに、上記以外の
複素環化合物、芳香族アミン、芳香族ポリアミン、およ
びキノン構造を有する化合物の中で励起状態で錯体を形
成する化合物やポリアセチレン、ポリシランなどを挙げ
ることができる。また、金属と有機物の配位子からなる
金属錯体化合物が好ましい例としてあげられる。具体的
な例としては金属種としては例えば、^1、Ga、 I
r、 Zn、Cd、 Mg、 Pb、τaなどが好まし
く、有機物からなる配位子としては、例えばポルフィリ
ン、クロロフィル、8−ヒドロキシキノリン(オキシン
)、フタロシアニン、サリチルアルデヒドオキシム、1
−ニトロソ−2−ナフトール、クフェロン、ジチゾン、
アセチルアセトンなどが用いられる。より具体的には、
例えば、オキシン錯体、5,7−ジブロムオキシン錯体
、5.7−ジヨードオキシン錯体、チオオキシン錯体、
メチルオキシン錯体があげられ、より具体的にはアルミ
ニウムオキシン錯体、鉛オキシン錯体、鉛ジブロムオキ
シン錯体、鉛(5,7−ジヨードオキシン)錯体、鉛チ
オオキシン錯体、鉛セレノオキシン錯体、ビスマスメチ
ルオキシン錯体などが好ましい例としてあげられる。
代表例として弐(21)に示されるトリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウムや式(22)から式(26
)に示されるような多環系の化合物があげられる。
また、これらの化合物の混合物を用いてもかまわない。
これらの発光層にドーパントと呼ばれる添加剤を0.0
1wtχから30−tχの量で添加することにより発光
色を変えることができる。例えば式(21)に示されて
いるトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウムに
クマリンを添加することによってもとの緑色の発光から
青緑色の発光となる。また、スチリル系色素の添加では
橙色の発光色が得られることが知られている。添加剤を
いれた場合の発光は添加剤からの発光であり、添加剤を
変えることによって発光を変えることができることを示
している。
本発明における発光層はこれらの有機化合物の非晶質、
微結晶または微結晶を含む非晶質、多結晶、単結晶層で
ある。層の厚さは特に限定されないが通常5nmから2
μmが採用される。
本発明における発光層の製造方法としては、真空蒸着法
や昇華法、モレキュラービームエピタキシー法、LB法
、ディッピングやスピンコードなどの塗布法などの物理
的または化学的な薄膜形成方法をとることができる。
さらに発光層と接して電極がもうけられる。本発明を示
す例である図1において、電極は104で示される。ま
た、電極と発光層との間に電子輸送層をもうけてもよい
本発明において、発光層もしくは電子輸送層と接する電
極は透明または半透明、または透明でなくともよい、こ
こで用いられる電極は発光層または電子輸送層に電子を
注入しやすいものが好ましく、−iに電子の仕事関数の
小さな金属や合金薄膜、その積層膜が用いられ、例えば
、マグネシウム、リチウム、カリウム、カルシウム、ル
ビジウム、ストロンチウム、セリウムなどの金属薄膜や
マグネシウム−銀などの合金やCCs−0−A、C5z
SbSNaJSbSCsNaJSb、などの金属化合物
薄膜、またはそれらの積層薄膜があげられる。 本発明
において、発光層と電極との間にあってもよい電子輸送
層に用いられる材料としては、例えば、式(31)や式
(32)に示されるようなジフェノキノン類などの交差
共役系化合物やベンゾフェノン系、ヒドラゾン系の化合
物や2,4.7− )ジニトロ−9−フルオレノンや式
(33)に示される化合物などのフルオレン系化合物な
どが好適な例としてあげることができる。
Cat、、CI“ 本発明における電子輸送層の製造方法としては、真空蒸
着法や昇華法、モレキュラービームエピタキシー法、L
B法、ディッピングやスピンコードなどの塗布法などの
物理的または化学的な薄膜形成方法をとることができる
。膜厚としては特に制限はないが、10nmから2μm
程度が使用される。
[発明の効果] 本発明の発光素子はm−フェニレンジアミン系化合物を
正孔輸送層に用いることによって、発光輝度の経時劣化
が改善され、なおかつ高い発光輝度をもつ発光素子であ
る。
C実施例] 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、これ
により本発明の実施の形態が限定されるものではない。
実施例I ITOを透明電極として200nmの厚さでパターンエ
ツチングされているガラス基1(松崎真空社製)上に真
空蒸着法によってm−フェニレンジアミン系化合物であ
るm−PDAの薄膜を作成した。真空度10− ’To
rrの条件で水晶発振膜厚計の振動数が0.5 kHz
変化したところで蒸着をやめ、さらに、同条件でトリス
(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウムをこの層の上
に蒸着した。膜厚は水晶発振膜厚計が0.4k)Iz変
化するところまでとした。さらに、この上に真空度2 
Xl0−6Torrの条件でMgを200 n mの厚
みまで真空蒸着した。
このようにして作成した積層薄膜の電極のITO側を正
、Mg側を負にして電圧をかけると発光が観測された。
電圧を逆に印加した場合は発光は観察されなかった。
電圧に対する発光輝度特性を図2に示す。2000cd
/m”近くまでの発光輝度が得られ、高い発光輝度の素
子であることが示される。
この試料に電圧を印加したまま、ドライボックス中で連
続発光させた。この場合の発光輝度が初期において12
7cd/+”であったものが100時間後に同し12V
の電圧の印加で113cd/m”であった。
比較例1 実施例1に準して、ITOを透明電極として200nm
の厚さでパターンエツチングされているガラス基板(松
崎真空社製)上に真空蒸着法によってフェニレンジアミ
ン系化合物であるがm位の置換体ではないN、N’−ジ
フェニル−N、 N’−ビス(3−メチルフェニル)−
1,4−ジアミノベンゼン(p−PDA)の薄膜を作成
した。真空度10−’Torrの条件で水晶発振膜厚計
の振動数がQ、5kHz変化したところで蒸着をやめ、
さらに、同条件でトリス(8−ヒドロキシキノリン)ア
ルミニウムをこの層の上に蒸着した。膜厚は水晶発振膜
厚計が0.4kHz変化するところまでとした。さらに
、この上に真空度2 X 10− ’Torrの条件で
Mgを200nmの厚みまで真空蒸着した。
ここで用いたp−PDAは以下のようにして合成した。
 N、N’−ジフェニル−1,4−ジアミノベンゼン(
東京化成) 21.8g、炭酸カリウム8.5g、銅粉
末1.1g、ニトロベンゼン100II+1を24時間
還流反応させた0反応後、水蒸気蒸留により溶媒および
未反応原料を除いた。残留物を水洗しベンゼン400 
−slにあけ、硫酸マグネシウムで乾燥し、不溶物をろ
過で除去した。この溶液から展開液をベンゼン−ヘキサ
ン1:1(体積比)として活性アルミナカラムクロマト
で分離をjテい、最初に溶出してくるフラクシヨンをわ
けとった。溶媒を留去して淡黄色の固体を得た。収量9
.8g、収率44Z。ベンゼン−メタノールから再結晶
しうすい黄色の板結晶を得た。この結晶をさらに昇華精
製し白色固体となったものを使用した。融点170−1
71°C0作成した積層薄−M試料の電圧に対する発光
輝度特性を図3に実線で示した。
この試料に電圧を印加したまま、ドライボックス中で連
続発光させた。この場合の発光輝度が初期において18
Vの電圧印加で118cd/m”であったものが100
時間後に同じ18Vの電圧の印加で70cd/+” と
減少した。
実施例1と比較すると電圧−輝度特性が劣り、輝度の経
時劣化に大きな差があることがわかる。
比較例2 比較例1と同様、実施例1に準じて、ITOを透明電極
として200nmの厚さでパターンエツチングされてい
るガラス基板(松崎真空社製)上に真空蒸着法によって
m−PDAの代わりに正孔輸送材料の一つとして知られ
ているニッケルフタロシアニン(東京化成)の薄膜を作
成した。真空度10−’Torrの条件で水晶発振膜厚
計の振動数が0.4kHz変化したところで蒸着をやめ
、さらに、同条件でトリス(8−ヒドロキシキノリン)
アルミニウムをこの層の上に蒸着した。S厚は水晶発振
膜厚計が0.4kHz変化するところまでとした。さら
に、この上に真空度2 Xl0−”丁orrの条件でM
gを200nmの厚みまで真空蒸着した。 作成した積
層薄膜試料の電圧に対する発光輝度特性を図3に破線で
示した。
実施例1と比較すると電圧−輝度特性が大きく劣ること
が示される。
実施例2 ITOを透明電極として200nmの厚さでパターンエ
ツチングされているガラス基板(秘峰真空社製)上に真
空蒸着法によってm−フェニレンジアミン系化合物であ
るN、N、N’、N’、N”、N”−へキサキス(4−
メチルフェニル) −1,3,5−トリアミノベンゼン
(6Me−1,3,5−DPAB)の薄膜を作成した。
真空度10−’Torrの条件で水晶発振膜厚計の振動
数が0.6kHz変化したところで蒸着をやめ、さらに
、同条件でトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニ
ウムをこの層の上に蒸着した。
膜厚は水晶発振膜厚計が0.4kHz変化するところま
でとした。さらに、この上に真空度2X10−’Tor
rの条件でMgを200nmの厚みまで真空蒸着した。
ここで用いた6Me−1,3,5−DPABは以下のよ
うにして合成した。フロログルシノール(牛丼化学)2
gとp+ p’−ジトリルアミン(東京化成)14.5
g、ヨウ素0.6gをオートクレーブ中250°Cで2
0時間反応させた。反応後、ベンゼン1mlにあけ、炭
酸ナトリウム、硫酸ナトリウムをそれぞれ5gづつ加え
て2時間撹拌した。ろ過で不溶物を除去し、この溶液か
ら展開液をベンゼン−ヘキサンl:1(体積比)として
活性アルミナカラムろ過を行った。溶媒を留去し、昇華
管を使ってp、p’−ジトリルアミン、油状物を除いて
ろすい茶色の固体を得た。収量0.66g、収率6.3
χ。ヘンセンーメタノルから再結晶し白色の針状結晶を
得てこれを使用した。融点234−236°C0 作成した積層薄膜試料の電圧に対する発光輝度特性を図
4に示した。実施例1と同様高い発光輝度を示した。
この試料に電圧を印加したまま、ドライボックス中で連
続9発光させた。この場合の発光輝度が初期においてI
OVの電圧印加で115cd/m2であったものが10
0時間後に同じIOVの電圧の印加で105cd/m”
であった。実施例1と同様安定性に優れていることが示
される。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明の構成例を示す斜視図である。 100:透明基板   101:透明電極102:正孔
輸送層  103:発光層104:電極 図2および図4はそれぞれ実施例1および2の電圧−輝
度特性を表したグラフである。 図3は比較例の電圧−輝度特性を表したグラフである。 □:比較例1  −−−−・−:比較例2特許出願人 
 三井東圧化学株式会社 図1 輝度(c d / m2) 輝度 (cd/m2)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.少なくとも透明電極上に有機化合物からなる正孔輸
    送層、発光層、電極を順に積層した構成からなり、有機
    化合物からなる正孔輸送層が、一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(1)において、R_1、R_2、R_3、R_4
    、R_5は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、ハ
    ロゲン原子を示し、それぞれ置換できるかぎり置換して
    もよく、また、すべての置換基は同一でも、それぞれ互
    いに異なっていてもよい。Mは水素原子、アルキル基、
    アルコキシル基、ハロゲン原子、または、一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(2)においてR_6、R_7は水素原子、アルキ
    ル基、アルコキシル基、ハロゲン原子を示し、それぞれ
    置換できるかぎり置換してもよく、また、すべての置換
    基は同一でも、それぞれ互いに異なっていてもよい〕を
    示す〕 で表されるm−フェニレンジアミン系化合物であること
    を特徴とする発光素子。
  2. 2.発光層と電極の間に電子輸送層が積層されている請
    求項1記載の発光素子。
JP2247161A 1990-09-19 1990-09-19 発光素子 Pending JPH04126790A (ja)

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