JPH04128290A

JPH04128290A - チアゾリルアセトアミドセフェム誘導体

Info

Publication number: JPH04128290A
Application number: JP2250137A
Authority: JP
Inventors: Shigeto Negi; 茂人根木; Hiroshi Yamauchi; 博山内; Motosuke Yamanaka; 基資山中; Kamamasa Katsu; 勝　鎌政; Isao Sugiyama; 功杉山; Takeki Komatsu; 雄毅小松; Manabu Sasho; 学佐生
Original assignee: Eisai Co Ltd
Current assignee: Eisai Co Ltd
Priority date: 1989-09-22
Filing date: 1990-09-21
Publication date: 1992-04-28
Anticipated expiration: 2014-10-06
Also published as: JP2959821B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、新規なチアゾリルアセトアミドセフェム誘導
体に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕特開昭
５９−８９６８９号公報には、７−置換−３−ビニル−
３−セフェム化合物として、−数式で表わされる化合物
はすでに開示されている。

方、特開昭６２−４９１号公報には、下記−数式で表わ
される化合物も開示されている。

しかし、さらに抗菌力のすぐれた化合物が要望されてい
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、３位にシクロプロピルビニル基を有する
新規なチアゾリルアセトアミドセフェム誘導体がすぐれ
た抗菌力を有することを見い出し、すでに特許出願した
。

さらに検討の結果、３位に上記と異なる特定の置換基を
有するビニル基を導入することにより、さらにすぐれた
抗菌力を有することを見い出した。

さらに詳細には、本発明は、種々の病原菌に対して高い
活性を有する抗菌剤、特に経口投与用に有用な新規チア
ゾリルアセトアミドセフェム誘導体及びその医薬として
許容される塩を提供するものである。

即ち、本発明は、−数式（１）〔式中、Ｒ１は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。Ｒ
２はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボキシ
ル基を示す。Ｒ’、Ｒ５は同一あるいは異なる低級アル
キル基を示すか、またはそれらが結合している窒素原子
と共に、−緒になってモルホリン環を形成してもよい。

〕で表わされるチアゾリルアセトアミドセフェム誘導体及
び薬理学的に許容できる塩；その製造方法ならびに、そ
れを含有する抗菌剤である。

ここでＲ１で示す低級アルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブ
トキシ、５ｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシなどＣ１から
０４のアルコキシ基があげられる。

Ｒ２のカルボキシル基の保護基としては、メチル、エチ
ル、ｔ−ブチルなと低級アルキル基、ｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル、３．４−ジメトキシベンジ
ル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルなどの（
置換基を有していてもよいフェニル基）で置換された低
級アルキル基：２．２．２−　）　ＩＪクロロエチル、
２−ヨードエチルなどのハロゲン化低級アルキル基；ピ
バロイルオキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニ
ルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、バレリルオキ
シメチル、１−アセトキシエチル、２−アセトキシエチ
ル、１−ピバロイルオキシエチル、２−アセトキシエチ
ル、１−ピバロイルオキシエチル、２−ピバロイルオキ
シエチルなどの低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
；バルミトイルオキシエチル、ヘプタペカノイルオキシ
メチル、１−バルミトイルオキシエチルなどの高級アル
カノイルオキシ低級アルキル基；メトキシカルボニルオ
キシメチル、１−ブトキシカルボニルオキシエチル、１
−ｔ−ブトキシカルボニルオキシエチル、１−エトキシ
カルボニルオキシエチル、１−（イソプロポキシカルボ
ニルオキシ）エチルなどの低級アルコキシカルボニルオ
キシ低級アルキル基；カルボキシメチル、２−カルボキ
シエチルなどのカルボキシ低級アルキル基；３−フタリ
ジルなどの複素環基；４−グリシルオキシベンゾイルオ
キシメチル、４−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グ
リシルオキシベンゾイルオキシメチルなどの置換基を有
していてもよいベンゾイルオキシ低級アルキル基；　（
５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−
イル）メチルなどの（置換ジオキソレン）低級アルキル
基、１−シクロへキシルアセチルオキシエチルなどのシ
クロアルキル置換低級アルカノイルオキシ低級アルキル
基、１−シクロへキシルオキシカルボニルオキシエチル
などのシクロアルキルオキシカルボニルオキシ低級アル
キル基等があげられるが、要するに、何らかの手段で分
解されてカルボン酸となり得る保護基であればいかなる
基でもよい。

Ｒ’　　Ｒ’で示す低級アルキル基としては、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、５
ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチルなどの炭素数１〜４のアルキ
ル基が挙げられる。

また、医薬として許容される塩としては、例えばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニウ
ム塩；テトラエチルアンモニウム塩、ベタイン塩などの
４級アンモニウム塩：カルシウム塩、マグネシウム塩な
どのアルカリ土類金属塩；塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化
水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩などの無機酸塩；
酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩などの有機カ
ルボン酸塩；メタンスルホン酸塩、ヒドロキシメタンス
ルホン酸塩、ヒドロキシェタンスルホン酸塩、タウリン
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など
の有機スルホン酸塩：アルギニン塩、リジン塩、セリン
塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン塩な
どのアミノ酸塩；トリメチルアミン酸、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジ
アミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、ジェタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、トリス（ヒドロキシメ
チルアミノ）メタン塩、フェネチルベンジルアミン塩な
どのアミン塩などがあげられる。

本発明化合物は次に示す方法に従って製造することがで
きる。

〔式中、ｐｈはフェニル基、Ｒ１は水酸基、低級アルコ
キシ基又は保護基で保護された水酸基を示す。

Ｒｚはカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボキ
シル基を示す。Ｒ４はアミノ基又は保護基で保護された
アミノ基を示す、〕で表される化合物あるいはそれらの塩と次の式〔式中、
Ｒａ、Ｒｓは同一あるいは、異なる低級アルキル基を示
すか、またはそれらが結合している窒素原子と共に、−
緒になってモルホリン環を形成してもよい、〕で表わさ
れる化合物と反応させ、必要によりアミノ基、水酸基、
又はカルボキシル基の保護基を脱離することにより、〔
式中Ｒ′は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。

Ｒ２はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボキ
シル基を示す。Ｒ’、Ｒ’は同一あるいは異なる低級ア
ルキル基を示すか、またはそれらが結合している窒素原
子と共に、−緒になってモルホリン環を形成してもよい
。〕で表わされるチアゾリルアセトアミドセフェム誘導
体及びその医薬として許容される塩を得ることができる
。

上記反応は、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラハ
イドロフラン、アセトン、酢酸エム、テトラハイドロフ
ラン、アセトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール
、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン等の不活性溶媒中、反応温度−５０℃〜５０℃で行う
ことができる。

保護基の脱離は、用いた保護基の種類に応じて、常法に
より行うことができる。

アミノ基の保護基としては、例えばホルミル基、アセチ
ル基、クロルアセチル基、ジクロルアセチル基、フェニ
ルアセチル基、チエニルアセチル基、ｔ−ブトキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリチル基、
ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、ベンジ
リデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、ｍ−ニトロベン
ジリデン基、３．４−メチレンジオキシベンジリデン基
、ｍ−クロルベンジリデン基などがあげられる。

ハイドロキシイミノ基の保護基としてはトリチル基、テ
トラハイドロピラニル基などがあげられる。

次に、本発明化合物の有用性を示すために、本発明の代
表化合物について抗菌活性の試験データを実験例によっ
て示す。

１、試験化合物化合物Ａ：　７−　［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド
）　−３−［（Ｚ）−３−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモ
イルオキシ）−１−プロペニル］−３−セフェムー４−
カルボン酸　ナトリウム塩（実施例１）化合物Ｂ　：　７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド）−３−（（Ｚ）−３−（１−モルポリニルカルボニ
ルオキシ）−１−プロペニル〕−３−セフェムー４−カ
ルボン酸　ナトリウム塩（実施例３）２、結果表に示す０表１の数値はＭＩＣ（μｇ　／ｓ　１　）を
示す。

本発明化合物を抗菌剤として使用する際には、症状の程
度；患者の年令；性別；体重；惑学性差；投与方法；投
与の時期；間隔；医薬製剤の性質、有効成分の種類など
によって異なり、特に限定されないが、通常１日ＩＯ・
０−ｇ〜５ｇを１〜４回にわけて経口あるいは非経口的
に投与することができる。

本発明化合物の急性毒性値（ＬＤ、。（マウス・経口）
〕は、いずれも２ｇ／ｋｇ以上であった。

本則としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、・シ
ロップ剤、液剤などがあげられる。これらは、公知の製
剤担体を加え、常法により製造することができる。

次に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

尚、本発明の化合物の原料となる化合物の合成例を実施
例に先んじて製造例として示す。

下記の式中、Ｔｒｔはトリチル基を意味する。

ｌ」−＝ルノＪ−に７−　（（Ｚ）−２−（２−）ジチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−）リチルオキシイミノアセトアミド
）−３−（１−トリフェニルホスホラニリデン）メチル
−３−セフェム−４−カルボン酸　４−メトキシフェニ
ルメチル３４．４６ｇ（２７，６３ｍｍｏｊりとＮ、Ｎ
−ジメチルカルバモイルオキシアセトアルデヒド４　ｇ
　　（３０，５３ｍａ＋ｏｆ）とのジクロロメタン１５
０ｍｊ！溶液を室温下１６時間撹拌した。

溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１＝１）で精製
し、目的物を１１．３　ｇ　（１０，２６ｗ＋ｍｏｆ　
。

３７．１％）得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｓ）δ：　２．８４（６８，ｓ、Ｎ（
ＣＨ１）ｚ）、３．３２（２Ｂ。

ＡＢｑ、　Ｊ＝１８．０Ｈｚ、　ＣＨｚ）　、　３．７
８　（３Ｂ、　ｓ、　０ＣＲ３）　、　４．３０〜４．
７０（２Ｈ，ｔａ、　ＣＨｚ）　、　５．０６　（１８
，ｄ、　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　ＣＩ）　、　５．１６　（
２Ｈ，ｂｓ　。

ＣＯ□ＧＨｚ−）、５．５０〜６．１０（２Ｈ，ｍ、Ｃ
Ｈ，＝Ｃｊｌ−）、６．２６（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１１．８）１ｚ、−ＣＨ＝）、６．４０〜７．５０
（３５Ｈ，ｍ、チアゾールＨ，Ｐｈ−ＨＸ３４） −４−カルボンラム製造例１の化合物３．５　ｇ　（３，１７９ｏ＋５ｏｆ
）のアニソール２８１１１溶液に氷冷下、トリフルオロ
酢酸３０−２を滴下し、その後室温で２時間撹拌した。

減圧上濃縮後、濃縮溶液をＩＰＥ（イソプロピルエーテ
ル）　６０　＋＋ｆ！、　　ｎ−ヘキサン１８０＋ｗ４
の混合液に滴下し析出した結晶を炉底した。結晶を９０
％ギ酸３０ｙａ１．に加え室温下３時間撹拌した。

減圧下溶媒留去後、残留物をＴＰＥで摩砕し結晶を炉底
した。結晶をメタノール６０ｍｆに溶かし、酢酸ナトリ
ウム７８２ｍｇ　（９，５３３ｍｍｏｆ）を加え減圧上
溶媒留去した。粗生成物を２−プロパツールで摩砕し粗
結晶を炉底した。粗結晶をＯＤＳカラムクロマトグラフ
ィー（８％水性メタノール）で精製し、溶出液を減圧上
濃縮後、凍結乾燥し、目的化合物を３１０＋ｗｇ　（０
，５９８ｍｍｏｆｆｉ、　１８．８％）得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）　δ：　２．８３（ｆＪ、ｓ
、Ｎ（ＣＨｓ）ｚ）、３．５３（２Ｂ、　ＡＢｑ　、　
Ｊ＝　１８．０Ｈｚ　、　ＣＨｚ）　、　４．５５〜４
．７５　（２Ｈ，ｄ＋ｎ、　ＣＨｚ）　。

５．０２　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．１Ｈｚ、　ＣＩ）　
、　５．１５〜５．２０　（ＩＨ，ｒａ、　＝ＣＨ−）
　。

５、５７　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝８．２．４．７Ｈｚ、
　ＣＩ）　、　６．６２　（１８，ｄ、　Ｊ＝１２．１
Ｈｚ。

−ＣＨ・）、６．６５（ＩＨ，Ｓ、チアゾールＨ）、７
．０９（２Ｈ，ｓ、ＮＨｔ）。

９．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ・８．２Ｈｚ、Ｃ０ＮＨ）。

Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ）　　：５１Ｂ　（Ｍ”　）、　５１
９（Ｍ”　＋１）Ｚ　　−３−ＮＮ−ジ　チルカルバモイルオキシ１−プロペニル　−３−セフェム −４−カルボンビバ′ロイルオキシメチル製造例１の化合物１２０ｍｇ　（０，２３２ｍｍｏｆ）
の乾燥ジメチルホルムアミド２　ｍｌ溶液に氷冷下ヨー
ドメチルビバレート５６ｍｇ　（０，２３１ｍｍｏ１）
の乾燥ジメチルホルムアミド０．５＋ｎｆｆ１溶液を滴
下し３０分撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加え乾燥した
。減圧下濃縮し、濃縮溶液をｎ−ヘキサン５０ｍｆに滴
下した。析出した結晶を濾過後乾燥し、目的化合物を９
８　ｍｇ　（０，１６１ａ＋ｍｏｊ！　、６９．２％）
得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）　　δ：　１．１５（９Ｈ，
ｓ、Ｃ（ＣＨｓ）ｇ）、２．８１（６Ｈ，ｓ、　Ｎ　（
ＣＩり　ｚ）　、　３．６１　（２）１．　ＡＢｑ、　
Ｊ＝１８．０Ｈｚ、　ＣＨｚ）　、　４．４０〜４．６
０　（２８，ｄｍ、　ＣＨり　、　５．２４　（ＩＨ，
ｄ、　Ｊ＝５．１Ｈｚ、　ＣＨ）　、　５．６５〜５．
７０　（１）１．　ｍ、　＝ＣＨ−）　、５　、８０　
（２Ｈ，ＡＢｑ、　ＪＪ、　ＯＨｚ、　ＣＯｇＣＨｚＯ
）　。

５、８０〜５．８５　（ｉｌｌ、　ｍ、　ＣＨ）　、　
６．２８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１１．７）１ｚ　、　−
ＣＨ＝）　。

６．６６（ＩＨ，Ｓ、チアゾールＨ）＋７−ＩＨ２Ｈ９
ｓ、Ｎ１ｈ）、９．４６（ＩＨｌｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ、
Ｃ０ＮＨ）　、　１１．２９（ＩＨ，ｓ、＝Ｎ−ＯＨ）
Ｍａｓｓ（＋ｎ／ｚ）　　：　６１０　　（Ｍ”　）、
　　６１１（Ｍ”　　＋１）また、上記目的化合物８０
ｍｇ　（０，１３１ｍｍｏｌの酢酸エチル２　ｖａｌｔ
溶液に氷冷下７　Ｎ−ＨＣｊ２　／ジメチルエーテル溶
液０．０４ｍｊ２を滴下し２０分撹拌した。減圧上溶媒
留去後、残渣をテトラヒドロフラン２１ＩＩ２に溶かし
、ｎ−ヘキサン２０＋ｎｊ！に滴下した。析出した結晶
を濾過後乾燥し、目的化合物の塩酸塩を４２＋＋＋ｇ　
（０，０６５ｍｍｏ１．４９．６％）得た。

−４−カルボンラム（１）　　７−〔（Ｚ）−２−（２−）ジチルアミノチ
アゾール−４−イル）−２−）リチルオキシイミノアセ
トアミド）−３−（（Ｚ）−３−（１−モルホリニルカ
ルボニルオキシ）−１−プロペニルツー３−セフヱムー
４−カルボン酸　４−メトキシフェニルメチルの合成７−　（（Ｚ）−２−（２−）ジチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド
）−３−（）リフェニルホスホラニリデン）メチル−３
−セフェム−４−カルボン酸４−メトキシフェニルメチ
ル２４　ｇ　（１７，４６＋＋ｕ＋＋ｏｆ）と１−モル
ホリニルカルボニルオキシアセトアルデヒド４　ｇ　（
２３，１２ｍｍｏｆ）　とのジクロロメタン１００＋ａ
ｊ！溶液を室温下１６時間撹拌した。溶媒を減圧留去後
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝１　：　１）で精製し標記化合物
を３．４　ｇ　（２，９８＋＋＋＋ｎｏ１．１７．１％
）得た。

（２）７−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド）　−３
−（（Ｚ）−３−（１−モルホリニルカルボニルオキシ
）−１−プロペニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸
　ナトリウム塩の合成（１）の方法により得られた７−
（（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリメチルオキシイミノアセトアミド〕−
３−（（Ｚ）−３−（１−モルホニルカルボニルオキシ
）−１−プロペニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸
　４−メトキ゛ジフェニルメチル３．０ｇ（２，６３ｍ
ｍｏｊ２）のアニソール２２ａｊ！溶液に水冷下、トリ
フルオロ酢酸２４ｍ１を滴下し、その後、室温で２時間
撹拌した。減圧上濃縮後、濃縮溶液をイソプロピルエー
テル６０ｗｆ！Ｓｎ−ヘキサン１８０ｍ１の混合液に滴
下し、析出した結晶を炉底した。結晶を９０％ギ酸３０
ｍｊ！に加へ室温下３時間撹拌した。減圧下溶媒留去後
、残留物をイソプロピルエーテルで摩砕し結晶を炉底し
た。結晶をメタノール６０＋ｎｊ！に溶かし酢酸ナトリ
ウム６４７＋＊ｇ　（７，８９ＩＩｎ＋ｏｊ！　）を加
え、減圧上溶媒留去した。粗生成物を２−プロパツール
で摩砕し、粗結晶を炉底した。粗結晶をＯＤＳカラムク
ロマトグラフィー（８％水性メタノール）で精製し、溶
出液を減圧上濃縮後、凍結乾燥し目的物である標記化合
物を３００ｍｇ　（０，５４ｍｍｏｆ、　　２０．４％
）得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ）　　δ：　３．１５（４０，
Ｓ、ＣＩ！Ｘ２）、３．５５（４Ｈ，ＩＩ、　ＣＨ２Ｘ
　２）　、　３．６８（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１８．Ｏ
Ｈ２，ＣＴｏ）　、　４．６０〜４．７５（２Ｈ，ｄａ
ｅ、　ＣＩ（ｔ）　、５．０６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．
９Ｈ２，ＣＩ）　、　５．３０〜５．３５（ＩＨ，ｍ、
＝ＣＨ−）、５．６２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．０，４．
９１１２．ＣＩ）。

６．６２（１Ｂ、ｄ、Ｊ＝１０．２Ｈｚ、−ＣＨ＝）、
６．６３（ＩＨ，ｓ、チアゾールＨ）、７．１４（２８
，ｓ、Ｎｕｔ）＋９．４４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ
、Ｃ０ＮＨ）。

Claims

【特許請求の範囲】１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。Ｒ＾２はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボ
キシル基を示す。Ｒ＾４、Ｒ＾５は同一あるいは異なる
低級アルキル基を示すか、またはそれらが結合している
窒素原子と共に、一緒になってモルホリン環を形成して
もよい。〕で表わされるチアゾリルアセトアミドセフェム誘導体及
びその医薬として許容される塩。２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｈはフェニル基を示す。Ｒ＾１は水酸基、低
級アルコキシ基又は保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ＾２はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボ
キシル基を示す。Ｒ＾３はアミノ基又は保護基で保護されたアミノ基を示
す。〕で表わされる化合物あるいはそれらの塩と次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５は同一あるいは異なる低級アル
キル基を示すか、またはそれらが結合している窒素原子
と共に、一緒になってモルホリン環を形成してもよい。〕で表わされる化合物と反応させ、必要によりアミノ基、
水酸基又はカルボキシル基の保護基を脱離することを特
徴とする、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾４およびＲ＾５は前記と同
様の意味を有する。〕で表わされるチアゾリルアセトア
ミドセフェム誘導体またはその薬理学的に許容できる塩
の製造法。３）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水酸基又は低級アルコキシ基を示す。Ｒ＾２はカルボキシル基又は保護基で保護されたカルボ
キシル基を示す。Ｒ＾４、Ｒ＾５は同一あるいは異なる
低級アルキル基を示すか、またはそれらが結合している
窒素原子と共に、一緒になってモルホリン環を形成して
もよい。］で表わされるチアゾリルアセトアミドセフェム誘導体又
はその薬理学的に許容できる塩を有効成分とする抗菌剤
。