JPH04131366A - 基板のクリーニング方法 - Google Patents
基板のクリーニング方法Info
- Publication number
- JPH04131366A JPH04131366A JP25038790A JP25038790A JPH04131366A JP H04131366 A JPH04131366 A JP H04131366A JP 25038790 A JP25038790 A JP 25038790A JP 25038790 A JP25038790 A JP 25038790A JP H04131366 A JPH04131366 A JP H04131366A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- particles
- ionized
- cleaning
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はイオンブレーティング法等の前処理工程に用い
られる基板のクリーニング方法に関するものである。
られる基板のクリーニング方法に関するものである。
〔従来技術と発明が解決しようとする課題〕イオンブレ
ーティング法は、クロム等の蒸着材料を加熱蒸発させ、
蒸発した粒子をグロー放電によりイオン化し、さらにイ
オン化された粒子を電界により基板に衝突させて基板表
面にコーティング層（薄膜）を形成する方法であり、こ
のような方法により膜付けを行なう場合には、蒸着粒子
の付着強度を高めるために基板表面を膜付けの前にクリ
ーニングする必要がある。
ーティング法は、クロム等の蒸着材料を加熱蒸発させ、
蒸発した粒子をグロー放電によりイオン化し、さらにイ
オン化された粒子を電界により基板に衝突させて基板表
面にコーティング層（薄膜）を形成する方法であり、こ
のような方法により膜付けを行なう場合には、蒸着粒子
の付着強度を高めるために基板表面を膜付けの前にクリ
ーニングする必要がある。
従来、基板表面のクリーニングはアルゴンガス等の不活
性ガスをイオン源とするイオンボンバードによって行な
っていたが、このような方法によるとクリーニング後の
残留ガスによって膜質が劣化するため、基板のクリーニ
ングと膜付けを単一の装置で行なうことができなかった
。
性ガスをイオン源とするイオンボンバードによって行な
っていたが、このような方法によるとクリーニング後の
残留ガスによって膜質が劣化するため、基板のクリーニ
ングと膜付けを単一の装置で行なうことができなかった
。
本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、
その目的とするところは膜質を劣化させることなく基板
のクリーニングと膜付けを単一の装置で行なうことので
きる基板のクリーニング方法を提供することにある。
その目的とするところは膜質を劣化させることなく基板
のクリーニングと膜付けを単一の装置で行なうことので
きる基板のクリーニング方法を提供することにある。
上記課題を解決するために本発明は、基板に蒸着粒子を
蒸着させてコーティング層を形成する前処理工程におい
て、前記蒸着粒子と同一材料のイオン化粒子を基板に衝
突させて基板表面をクリーニングするものである。
蒸着させてコーティング層を形成する前処理工程におい
て、前記蒸着粒子と同一材料のイオン化粒子を基板に衝
突させて基板表面をクリーニングするものである。
すなわち、本発明ではイオン源として基板に蒸着される
粒子と同一材料を用いるため、残留ガスによる膜質の劣
化を防止でき、基板のクリーニングと膜付けを単一の装
置で行なうことかできる。
粒子と同一材料を用いるため、残留ガスによる膜質の劣
化を防止でき、基板のクリーニングと膜付けを単一の装
置で行なうことかできる。
Ｃ実施例〕
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第１図は本発明方法を適用した基板クリーニング装置の
概略図であり、イオン化室を形成する装置本体１内には
基板２が矢印方向に移動可能に設けられているとともに
、るつぼ３が基板２に対向して設けられている。このる
つぼ３内には基板２に蒸着されるコーテイング材と同じ
材質のクリーニング材（例えばＣｒ等）４がイオン源と
して収容されており、図示しない加熱手段により加熱蒸
発するようになっている。
概略図であり、イオン化室を形成する装置本体１内には
基板２が矢印方向に移動可能に設けられているとともに
、るつぼ３が基板２に対向して設けられている。このる
つぼ３内には基板２に蒸着されるコーテイング材と同じ
材質のクリーニング材（例えばＣｒ等）４がイオン源と
して収容されており、図示しない加熱手段により加熱蒸
発するようになっている。
また、装置本体１内には加熱蒸発したクリーニング材４
をイオン化するイオン化電極５が設けられている。この
イオン化電極５はイオン化電源Ｅ１のマイナス側に接続
されており、るつ（子３との間にイオン化放電（アーク
放電）を発生させて蒸発粒子６をイオン化するように構
成されて０る。
をイオン化するイオン化電極５が設けられている。この
イオン化電極５はイオン化電源Ｅ１のマイナス側に接続
されており、るつ（子３との間にイオン化放電（アーク
放電）を発生させて蒸発粒子６をイオン化するように構
成されて０る。
一方、前記るつぼ３と基板２との間にはノくイアスミ圧
Ｅｂが印加されており、このノくイアスミ圧Ｅｂにより
イオン化された蒸発粒子６を電界加速して基板２に衝突
させ、基板２の表面１こ付着した油分等の不純物をイオ
ン化電極く一トにより除去するように構成されている。
Ｅｂが印加されており、このノくイアスミ圧Ｅｂにより
イオン化された蒸発粒子６を電界加速して基板２に衝突
させ、基板２の表面１こ付着した油分等の不純物をイオ
ン化電極く一トにより除去するように構成されている。
なお、前記装置本体１内にはイオン化された粒子６の拡
散を防止するために遮蔽板７がるつ（ヨ３と基板２との
間に設けられている。
散を防止するために遮蔽板７がるつ（ヨ３と基板２との
間に設けられている。
このように構成される基板クリーニング装置では、前述
したようにイオン源として基板２（こ蒸着される粒子と
同一材料を用いるため、残留ガス（こよる膜質の劣化を
防止でき、基板２のクリーニングと膜付けを単一の装置
で行なうこと力くできる。
したようにイオン源として基板２（こ蒸着される粒子と
同一材料を用いるため、残留ガス（こよる膜質の劣化を
防止でき、基板２のクリーニングと膜付けを単一の装置
で行なうこと力くできる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しな０範囲で種々の変形実施か可能
である。
本発明の要旨を逸脱しな０範囲で種々の変形実施か可能
である。
以上説明したように本発明は、基板に蒸着粒子を蒸着さ
せてコーティング層を形成する前処理工程において、前
記蒸着粒子と同一材料のイオン化粒子を基板に衝突させ
て基板表面をクリーニングするものである。したがって
、イオン源として基板に蒸着される粒子と同一材料を用
いるため、残留ガスによる膜質の劣化を防止でき、基板
のクリーニングと膜付けを単一の装置で行なうことがで
きる。
せてコーティング層を形成する前処理工程において、前
記蒸着粒子と同一材料のイオン化粒子を基板に衝突させ
て基板表面をクリーニングするものである。したがって
、イオン源として基板に蒸着される粒子と同一材料を用
いるため、残留ガスによる膜質の劣化を防止でき、基板
のクリーニングと膜付けを単一の装置で行なうことがで
きる。
第１図は本発明方法を適用した基板クリーニング装置の
概略図である。 １・・・装置本体、２・・・基板、３・・・るつぼ、４
・・・クリーニング材、５・・・イオン化電極、６・・
・イオン化された蒸発粒子、７・・・遮蔽板。 第１工 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
概略図である。 １・・・装置本体、２・・・基板、３・・・るつぼ、４
・・・クリーニング材、５・・・イオン化電極、６・・
・イオン化された蒸発粒子、７・・・遮蔽板。 第１工 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- 基板に蒸着粒子を蒸着させてコーティング層を形成す
る前処理工程において、前記蒸着粒子と同一材料のイオ
ン化粒子を基板に衝突させて基板表面をクリーニングす
ることを特徴とする基板のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25038790A JPH04131366A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 基板のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25038790A JPH04131366A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 基板のクリーニング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04131366A true JPH04131366A (ja) | 1992-05-06 |
Family
ID=17207164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25038790A Pending JPH04131366A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 基板のクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04131366A (ja) |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP25038790A patent/JPH04131366A/ja active Pending
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