JPH04132639A - 熱線遮蔽ガラス - Google Patents
熱線遮蔽ガラスInfo
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- JPH04132639A JPH04132639A JP2253832A JP25383290A JPH04132639A JP H04132639 A JPH04132639 A JP H04132639A JP 2253832 A JP2253832 A JP 2253832A JP 25383290 A JP25383290 A JP 25383290A JP H04132639 A JPH04132639 A JP H04132639A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000012216 screening Methods 0.000 title abstract 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 32
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 3
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 hafnium nitride Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 35
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 9
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004160 TaO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N dioxotantalum Chemical compound O=[Ta]=O NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000003716 rejuvenation Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は熱線遮蔽ガラスに関し、とりわけ単板の状態で
使用可能な耐摩耗性を有し、自動車や建築用の窓ガラス
に適した熱線遮蔽性のガラスに関する。
使用可能な耐摩耗性を有し、自動車や建築用の窓ガラス
に適した熱線遮蔽性のガラスに関する。
[従来技術]
近年、車両や建築物の窓ガラスに、車両内部に流入する
太陽光エネルギーを低減する目的で、熱線遮蔽性の被膜
を被覆した熱線遮蔽ガラスが用いられている。このよう
な熱線遮蔽ガラスの例としては、cuX AlAgのよ
うな金属膜や、窒化チタン、窒化ジルコニウムのような
金属窒化膜の熱線反射特性を利用したもの、あるいは高
屈折率材料の膜と低屈折率材料の膜を交互に積層して光
学干渉作用により熱線を反射するようにしたガラスが知
られている。これらの中でCuX AlAgのような金
属膜を利用したものは、化学的耐久性すなわち酸やアル
カリを含む雰囲気による腐食や機械的な耐久性すなわち
スクラッチによる被膜の傷の問題を克服するために、複
層ガラスや合せガラスにして被膜を外部環境に露出しな
いようにして用いられている。また、熱線遮蔽性の膜と
して耐久性が優れているといわれる金属窒化膜を利用し
たものでも、単板ガラスとして用いるには耐久性が十分
とは言えない。
太陽光エネルギーを低減する目的で、熱線遮蔽性の被膜
を被覆した熱線遮蔽ガラスが用いられている。このよう
な熱線遮蔽ガラスの例としては、cuX AlAgのよ
うな金属膜や、窒化チタン、窒化ジルコニウムのような
金属窒化膜の熱線反射特性を利用したもの、あるいは高
屈折率材料の膜と低屈折率材料の膜を交互に積層して光
学干渉作用により熱線を反射するようにしたガラスが知
られている。これらの中でCuX AlAgのような金
属膜を利用したものは、化学的耐久性すなわち酸やアル
カリを含む雰囲気による腐食や機械的な耐久性すなわち
スクラッチによる被膜の傷の問題を克服するために、複
層ガラスや合せガラスにして被膜を外部環境に露出しな
いようにして用いられている。また、熱線遮蔽性の膜と
して耐久性が優れているといわれる金属窒化膜を利用し
たものでも、単板ガラスとして用いるには耐久性が十分
とは言えない。
したがって熱線遮蔽ガラスの耐久性を向上させるために
最上層に耐久性の優れた保護膜を被覆する研究が活発に
行われており、例えば基板の土に耐摩耗性の被膜を被覆
した耐久性の高い熱線遮蔽ガラスとしては、特開昭63
−206333号に開示されているように、被膜の最上
層に酸化物の厚膜、例えばS i 02膜の少なくとも
1μm以上を被覆したものが提案されている。
最上層に耐久性の優れた保護膜を被覆する研究が活発に
行われており、例えば基板の土に耐摩耗性の被膜を被覆
した耐久性の高い熱線遮蔽ガラスとしては、特開昭63
−206333号に開示されているように、被膜の最上
層に酸化物の厚膜、例えばS i 02膜の少なくとも
1μm以上を被覆したものが提案されている。
[発明が解決しようとする課題]
車両や建築用のガラスのように直接外部の雰囲気にさら
される状態で用いられる場合、被膜には機械的および化
学的耐久性が要求されるが、とりわけスクラッチに対す
る耐摩耗性が強いことが重要である。上記した従来技術
の5i02の如き酸化物の厚膜を最上層に被覆したもの
は、十分な耐久性を有するようにするには被膜の厚みを
厚くすることが必要であり、そのために被覆に長時間を
必要とし、生産性が悪いという欠点がある。また」二記
の5i02膜は、石英ガラスをターゲットとして高周波
スパッタリングで被覆されるか、シリコンをターゲット
として直流スパッタリングにより被覆されるが、いずれ
の方法でも大面積の基体に被覆するのに必要な大きなプ
ラズマ放電を安定して得るのは困難であるという問題点
があった。本発明の目的は、上記の5i02の如き酸化
物を保護膜とする熱線遮蔽ガラスを製造する際の問題点
を解決するためになされたものであって、保護膜のスク
ラッチ傷のような機械的強度が大きく、かつ、前記保護
膜の被覆を大面積の基板に安定してできる熱線遮蔽ガラ
スを提供するものである。
される状態で用いられる場合、被膜には機械的および化
学的耐久性が要求されるが、とりわけスクラッチに対す
る耐摩耗性が強いことが重要である。上記した従来技術
の5i02の如き酸化物の厚膜を最上層に被覆したもの
は、十分な耐久性を有するようにするには被膜の厚みを
厚くすることが必要であり、そのために被覆に長時間を
必要とし、生産性が悪いという欠点がある。また」二記
の5i02膜は、石英ガラスをターゲットとして高周波
スパッタリングで被覆されるか、シリコンをターゲット
として直流スパッタリングにより被覆されるが、いずれ
の方法でも大面積の基体に被覆するのに必要な大きなプ
ラズマ放電を安定して得るのは困難であるという問題点
があった。本発明の目的は、上記の5i02の如き酸化
物を保護膜とする熱線遮蔽ガラスを製造する際の問題点
を解決するためになされたものであって、保護膜のスク
ラッチ傷のような機械的強度が大きく、かつ、前記保護
膜の被覆を大面積の基板に安定してできる熱線遮蔽ガラ
スを提供するものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、透明なガラス板の上に少なくとも一層からな
る熱線遮蔽性の被膜が被覆され、前記熱線遮蔽性の被膜
の上にシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜が
被覆された熱線遮蔽ガラスである。本発明の保護膜は、
5iCxNyOZなる化学式であられすことができ、X
s ys Zの比は必要とする透明性や耐摩耗性や
熱線遮蔽性を考慮して定められる。すなわち可視域の全
波長にわたって透明であることを重視する場合は、Xを
相対的に小さな値とし、一方yとZを大きくする。
る熱線遮蔽性の被膜が被覆され、前記熱線遮蔽性の被膜
の上にシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜が
被覆された熱線遮蔽ガラスである。本発明の保護膜は、
5iCxNyOZなる化学式であられすことができ、X
s ys Zの比は必要とする透明性や耐摩耗性や
熱線遮蔽性を考慮して定められる。すなわち可視域の全
波長にわたって透明であることを重視する場合は、Xを
相対的に小さな値とし、一方yとZを大きくする。
Xが1,22以下、yが0. 7以下、2が0.4以上
とした保護膜は、可視域における光学的な吸収が実質上
止じることがなく、かつ、膜の屈折率が2.0以下にな
るので、可視域において高透過性、低反射性で、かつ、
耐久性が優れた熱線遮蔽ガラスの保護膜となる。本発明
にかかるシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜
の被覆方法としては、減圧した雰囲気内でおこなうスパ
ッタリング法やアーク蒸着法や真空蒸着法が用いられる
が、なかでもスパッタリング法が大きな面積の基板の上
に安定して被膜を被覆する土で好ましい。
とした保護膜は、可視域における光学的な吸収が実質上
止じることがなく、かつ、膜の屈折率が2.0以下にな
るので、可視域において高透過性、低反射性で、かつ、
耐久性が優れた熱線遮蔽ガラスの保護膜となる。本発明
にかかるシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜
の被覆方法としては、減圧した雰囲気内でおこなうスパ
ッタリング法やアーク蒸着法や真空蒸着法が用いられる
が、なかでもスパッタリング法が大きな面積の基板の上
に安定して被膜を被覆する土で好ましい。
上記方法で被覆するときの雰囲気ガスとしては、不活性
ガスと窒素と酸素の混合ガス、または窒素と酸素の混合
ガスのいずれも用いることができる。
ガスと窒素と酸素の混合ガス、または窒素と酸素の混合
ガスのいずれも用いることができる。
そしてこれらのガスの割合を変えることにより保護膜の
組成が調整される。アルゴンと窒素と酸素の雰囲気では
、少な(とも窒素は0.066Pa以上の分圧を有し、
全圧の20%以上を占めるように雰囲気の組成を調整す
るのが好ましい。さらに、酸素の分圧は全圧の1%以上
とすることが好ましい。
組成が調整される。アルゴンと窒素と酸素の雰囲気では
、少な(とも窒素は0.066Pa以上の分圧を有し、
全圧の20%以上を占めるように雰囲気の組成を調整す
るのが好ましい。さらに、酸素の分圧は全圧の1%以上
とすることが好ましい。
また、得られるガラスの熱線遮蔽性を重視するときは、
可視域での吸収が大きくならない程度にXを相対的に大
きな値とし、一方yとZの値を相対的に小さくすること
ができる。Zを0. 4以下にすることにより可視域の
透過率を大きく低下させることなく熱線遮蔽性能を太き
スすることができる。
可視域での吸収が大きくならない程度にXを相対的に大
きな値とし、一方yとZの値を相対的に小さくすること
ができる。Zを0. 4以下にすることにより可視域の
透過率を大きく低下させることなく熱線遮蔽性能を太き
スすることができる。
本発明の保護膜をスパッタリングで被覆するときは、炭
化ケイ素の焼結体からなるターゲットを用い、少なくと
も窒素と酸素を含む減圧された雰囲気内でおこなう反応
性スパッタリングの方法を用いるのが好ましい。このと
き遊離シリコンを含をしている炭化ケイ素のターゲット
を用いることは、ターゲットの導電性が向」ニし、直流
による反応性スパッタリングが可能となるので、窓ガラ
スのような大きなサイズの絶縁性の基板に安定して被覆
をおこなう」二で好ましい。ここで炭化ケイ素に含有さ
せるシリコンの重量比率は、5〜20重量%が好ましく
10−15重量%がさらに好ましい。5重量%よりも少
ないと、ターゲットの導電性が十分でなく、大電流を印
加する高速直流スパッタリングを行うときのグロー放電
が不安定になるので好ましくない。また20重量%より
多いと、ターゲットがもろくなり安定した放電を長く続
けることか困難になるので好ましくない。
化ケイ素の焼結体からなるターゲットを用い、少なくと
も窒素と酸素を含む減圧された雰囲気内でおこなう反応
性スパッタリングの方法を用いるのが好ましい。このと
き遊離シリコンを含をしている炭化ケイ素のターゲット
を用いることは、ターゲットの導電性が向」ニし、直流
による反応性スパッタリングが可能となるので、窓ガラ
スのような大きなサイズの絶縁性の基板に安定して被覆
をおこなう」二で好ましい。ここで炭化ケイ素に含有さ
せるシリコンの重量比率は、5〜20重量%が好ましく
10−15重量%がさらに好ましい。5重量%よりも少
ないと、ターゲットの導電性が十分でなく、大電流を印
加する高速直流スパッタリングを行うときのグロー放電
が不安定になるので好ましくない。また20重量%より
多いと、ターゲットがもろくなり安定した放電を長く続
けることか困難になるので好ましくない。
本発明にかかる保護膜の厚みとしては5nm以上である
ことが望ましい。これよりも薄い厚みでは、実用上必要
な耐摩耗性を得ることが困難となる。逆に1100n以
」二厚く被覆しても、耐摩耗性が厚みに応じて大きくな
ることがなく被覆に+1r1間がかかるばかりでなく、
膜の剥離を生じることがあるので好ましくない。上記の
理由から被覆の経済性、得られるガラスの光学特性を考
慮して20〜80nmの範囲に設定するのがさらに好ま
しい。
ことが望ましい。これよりも薄い厚みでは、実用上必要
な耐摩耗性を得ることが困難となる。逆に1100n以
」二厚く被覆しても、耐摩耗性が厚みに応じて大きくな
ることがなく被覆に+1r1間がかかるばかりでなく、
膜の剥離を生じることがあるので好ましくない。上記の
理由から被覆の経済性、得られるガラスの光学特性を考
慮して20〜80nmの範囲に設定するのがさらに好ま
しい。
透明なガラス板上に被覆される熱線遮蔽性を存する被膜
は、特に限定されない。窒化チタン、窒化ジルコニウム
、窒化ハフニウム、窒化クロムの群から選ばれる少なく
とも一種が好んで用いられる。このときの金属窒化物の
膜の厚みは、可視光線透過率を高くするためには薄い方
が好ましく、熱線の遮蔽性を大きくするためには厚い方
が好ましく、とりわけ自動車の窓ガラスとして要求され
可視光線透過率が高いガラスとするには2,5〜7nm
の範囲が好ましい。さらに前記熱線遮蔽(1の被膜が、
低屈折率材料の被膜と高屈折率飼料の被膜が交互に積層
された多層膜の構成の被膜であってもよい。低屈折率材
料の被膜七高屈折率祠料の被膜の厚みは、遮蔽したい熱
線の波長をλとすると、その先学膜厚で約λ/4に定め
られる。
は、特に限定されない。窒化チタン、窒化ジルコニウム
、窒化ハフニウム、窒化クロムの群から選ばれる少なく
とも一種が好んで用いられる。このときの金属窒化物の
膜の厚みは、可視光線透過率を高くするためには薄い方
が好ましく、熱線の遮蔽性を大きくするためには厚い方
が好ましく、とりわけ自動車の窓ガラスとして要求され
可視光線透過率が高いガラスとするには2,5〜7nm
の範囲が好ましい。さらに前記熱線遮蔽(1の被膜が、
低屈折率材料の被膜と高屈折率飼料の被膜が交互に積層
された多層膜の構成の被膜であってもよい。低屈折率材
料の被膜七高屈折率祠料の被膜の厚みは、遮蔽したい熱
線の波長をλとすると、その先学膜厚で約λ/4に定め
られる。
ここで高屈折率材料の被膜としては、TiO2,5n0
2、In20B、ITO(酸化錫を含む酸化インジウム
)、ZrO2、Zn0s TaO2などの高屈折率を
有する被膜が例示でき、低屈折率材料の膜としては、5
i02、Al2O,、MgF2などの膜が例示できる。
2、In20B、ITO(酸化錫を含む酸化インジウム
)、ZrO2、Zn0s TaO2などの高屈折率を
有する被膜が例示でき、低屈折率材料の膜としては、5
i02、Al2O,、MgF2などの膜が例示できる。
本発明にかかる保護膜は、光の吸収率が小さいことに基
づき可視光線透過率が高く、また屈折率が小さいことに
基づき表面反射率が小さいので、熱線遮蔽性の被膜の厚
みと保護膜の厚みを選ぶことにより、自動車の窓ガラス
に適した可視光透過率が70%以上の熱線遮蔽性のガラ
スとすることができる。
づき可視光線透過率が高く、また屈折率が小さいことに
基づき表面反射率が小さいので、熱線遮蔽性の被膜の厚
みと保護膜の厚みを選ぶことにより、自動車の窓ガラス
に適した可視光透過率が70%以上の熱線遮蔽性のガラ
スとすることができる。
本発明の透明なガラス板としては、無色透明のフロート
ガラスやブロンズ、グレー ブルーなどの着色フロート
ガラスを用いることができる。
ガラスやブロンズ、グレー ブルーなどの着色フロート
ガラスを用いることができる。
[作用]
本発明の熱線遮蔽ガラスの最上層のシリコンと炭素と窒
素と酸素とからなる保護膜は、可視域で透明でかつ摩耗
強度が大きいので、透明基体上に被覆された熱線遮蔽性
の被膜を摩耗やスクラッチなどの外力から保護し、キズ
を生じにくくする。
素と酸素とからなる保護膜は、可視域で透明でかつ摩耗
強度が大きいので、透明基体上に被覆された熱線遮蔽性
の被膜を摩耗やスクラッチなどの外力から保護し、キズ
を生じにくくする。
また、保護膜中の酸素は、被膜の屈折率を低下させると
ともに、被膜の耐摩耗性を向上させる。
ともに、被膜の耐摩耗性を向上させる。
これは酸素を含むことによって、膜中および基板との間
の5i−0の結合が増加することによると考えられる。
の5i−0の結合が増加することによると考えられる。
さらに、保護膜の厚みおよび屈折率を調整することによ
り、熱線遮蔽ガラスの可視光反射率を低く抑えることが
できる。
り、熱線遮蔽ガラスの可視光反射率を低く抑えることが
できる。
[実施例コ
以下の実施例に基づいて、本発明の詳細な説明する。第
1図は本発明の熱線遮蔽ガラスの一部断面図で、■はガ
ラス板、2は熱線遮蔽性の被膜、3はシリコンと炭素と
窒素と酸素とからなる保護膜である。
1図は本発明の熱線遮蔽ガラスの一部断面図で、■はガ
ラス板、2は熱線遮蔽性の被膜、3はシリコンと炭素と
窒素と酸素とからなる保護膜である。
実施例1
2つのカソードが設置された直流マグネトロンスパッタ
装置の一方のカソードには金属チタンを、他方のカソー
ドには約18重電%の遊離のシリコンを含む炭化ケイ素
焼結体を、それぞれターゲットとじて設置した。清浄に
された2、+mm厚のフロートガラス板をスパッタ装置
の真空槽に入れ、クライオポンプで5.3X]O−’P
aまで真空に排気した。その後、窒素ガスを50sec
mの流量で真空槽内に導入して、真空槽内の圧力を0゜
4PaにWR節した。そして、直流電源から金属チタン
ターゲットに電力を投入しグロー放電を生起させた。I
Aの電流値にセラl−した後、金属チタンターゲラ)・
の上方にあるンヤッターを20秒間開いて、金属チタン
に対向する位置にあるガラス板に窒化チタンの膜を被覆
した。ターゲットへの電力の印加を停止し、さらにガス
導入を停止して、再びクライオポンプで5.3X10−
’PaまでiJl気後、窒素ガスを47.5secm1
酸素ガス2゜5secm真空槽内1こ導入し、真空槽内
の圧力を0.4Paに調整した。そして直流電源から炭
化ケイ素ターゲットに電力を印加し、2Aの電流値でグ
ロー放電を生起させた。その後炭化ケイ素ターゲット上
のシャッターを1分間開いて、前記窒化チタン被膜の上
にさらにシリコンと炭素と窒素と酸素とからなり化学式
で5iCxNyOzで表せる保護膜を被膜した。
装置の一方のカソードには金属チタンを、他方のカソー
ドには約18重電%の遊離のシリコンを含む炭化ケイ素
焼結体を、それぞれターゲットとじて設置した。清浄に
された2、+mm厚のフロートガラス板をスパッタ装置
の真空槽に入れ、クライオポンプで5.3X]O−’P
aまで真空に排気した。その後、窒素ガスを50sec
mの流量で真空槽内に導入して、真空槽内の圧力を0゜
4PaにWR節した。そして、直流電源から金属チタン
ターゲットに電力を投入しグロー放電を生起させた。I
Aの電流値にセラl−した後、金属チタンターゲラ)・
の上方にあるンヤッターを20秒間開いて、金属チタン
に対向する位置にあるガラス板に窒化チタンの膜を被覆
した。ターゲットへの電力の印加を停止し、さらにガス
導入を停止して、再びクライオポンプで5.3X10−
’PaまでiJl気後、窒素ガスを47.5secm1
酸素ガス2゜5secm真空槽内1こ導入し、真空槽内
の圧力を0.4Paに調整した。そして直流電源から炭
化ケイ素ターゲットに電力を印加し、2Aの電流値でグ
ロー放電を生起させた。その後炭化ケイ素ターゲット上
のシャッターを1分間開いて、前記窒化チタン被膜の上
にさらにシリコンと炭素と窒素と酸素とからなり化学式
で5iCxNyOzで表せる保護膜を被膜した。
このようにして得たガラスサンプルは、ガラス上に約5
nmの厚みの窒化チタンの被膜およびその上に約75n
mのシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜が被
覆された熱pH遮蔽性を有するガラスで、可視光線透過
率が72.3%、可視光線反射率がガラス面から入射す
る光ζこ対して6.4%、太陽輻射透過率が65.3%
であった。このガラスサンプルの被膜を市販のテーパー
摩耗試験機を用いて耐摩耗試験をおこなった。No、C
810Fの2つの摩耗輪に各500gの荷重をかけ、6
0 r pmの回転数で1000回転の摩耗を被膜に加
えた後、ヘイズ率を測定したところ、わずか0.1%の
変化が認められたのみで、キズはほとんど目立たなかっ
た。
nmの厚みの窒化チタンの被膜およびその上に約75n
mのシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜が被
覆された熱pH遮蔽性を有するガラスで、可視光線透過
率が72.3%、可視光線反射率がガラス面から入射す
る光ζこ対して6.4%、太陽輻射透過率が65.3%
であった。このガラスサンプルの被膜を市販のテーパー
摩耗試験機を用いて耐摩耗試験をおこなった。No、C
810Fの2つの摩耗輪に各500gの荷重をかけ、6
0 r pmの回転数で1000回転の摩耗を被膜に加
えた後、ヘイズ率を測定したところ、わずか0.1%の
変化が認められたのみで、キズはほとんど目立たなかっ
た。
同じスパッタ装置を用いて、ガラス基板上に約75nm
のシリコンと炭素と窒素と酸素上からなる化合物の単層
の被膜をイij若させ、X線回折測定と電子顕微鏡観察
をおこなった。X線回折によれば、ガラス板に基づくブ
ロードなピーク以外には、保護膜の結晶に基づく回折ピ
ークは観測されず、得られた保護膜は非晶質であること
が分かった。
のシリコンと炭素と窒素と酸素上からなる化合物の単層
の被膜をイij若させ、X線回折測定と電子顕微鏡観察
をおこなった。X線回折によれば、ガラス板に基づくブ
ロードなピーク以外には、保護膜の結晶に基づく回折ピ
ークは観測されず、得られた保護膜は非晶質であること
が分かった。
一方電子顕微鏡観察によれば、保護膜はち密で柱状構造
は認められず、かつその被膜の表面は極めて平滑である
ことがわかった。
は認められず、かつその被膜の表面は極めて平滑である
ことがわかった。
実施例2
実施例】と同様の方法を用い、真空槽に導入するガスの
流量の割合を種々変化させて、シリコンと炭素と窒素と
酸素上からなる保護膜のみをガラス板の上に被覆した。
流量の割合を種々変化させて、シリコンと炭素と窒素と
酸素上からなる保護膜のみをガラス板の上に被覆した。
得られた被膜について耐摩耗性を測定し、保護膜5iC
xNyOzの光学定数を測定した結果を第1表に示す。
xNyOzの光学定数を測定した結果を第1表に示す。
第1表より耐摩耗試験前後の可視光線透過率の変化は1
.23%以下の小さい値であり、また試験後の被膜のヘ
イズ率も約2.1%と小さく、保護膜5iCxNyO2
は耐摩耗性が優れていることが分かった。
.23%以下の小さい値であり、また試験後の被膜のヘ
イズ率も約2.1%と小さく、保護膜5iCxNyO2
は耐摩耗性が優れていることが分かった。
実施例3
炭化ケイ素ターゲットに印加する電流とスパッタリング
する時間を変えてシリコンと炭素と窒素と酸素とからな
り化学式で5iCxNyOzで表せる保護膜の厚みを1
0nmとしたことのほかは、実施例1と同じようにして
熱線遮蔽ガラスを製作した。このガラスサンプルの被膜
を市販のテーパー摩耗試験機を用いて、実施例1と同じ
ようにして耐摩耗試験をおこなった。No、C8]OF
の2つの摩耗輪に各500gの荷重をかけ、60rpm
の回転数で1000回転の摩耗を被膜に加えた後、ヘイ
ズ率を1llll定したところ、わずかO,1%の変化
が認められたのみで、キズはほとんど「1立たなかった
。
する時間を変えてシリコンと炭素と窒素と酸素とからな
り化学式で5iCxNyOzで表せる保護膜の厚みを1
0nmとしたことのほかは、実施例1と同じようにして
熱線遮蔽ガラスを製作した。このガラスサンプルの被膜
を市販のテーパー摩耗試験機を用いて、実施例1と同じ
ようにして耐摩耗試験をおこなった。No、C8]OF
の2つの摩耗輪に各500gの荷重をかけ、60rpm
の回転数で1000回転の摩耗を被膜に加えた後、ヘイ
ズ率を1llll定したところ、わずかO,1%の変化
が認められたのみで、キズはほとんど「1立たなかった
。
第1表
比較例1
実施例1と同様の方法を用い、真空槽内に導入するガス
流量の割合を種々変化させて、/リコンと炭素と酸素と
からなる保護膜のみをガラス板の上に被覆した。得られ
たシリコンと炭素と酸素とからなる化学式でS i C
x0zと表せる被膜の耐摩耗性試験を実施例1と同じよ
うに行い、また光学定数を測定した結果を第2表に示す
。第2表に示すとおり、摩耗試験の結果可視光線透過率
は10%以上変化し、またヘイズ率も3〜4%であった
。
流量の割合を種々変化させて、/リコンと炭素と酸素と
からなる保護膜のみをガラス板の上に被覆した。得られ
たシリコンと炭素と酸素とからなる化学式でS i C
x0zと表せる被膜の耐摩耗性試験を実施例1と同じよ
うに行い、また光学定数を測定した結果を第2表に示す
。第2表に示すとおり、摩耗試験の結果可視光線透過率
は10%以上変化し、またヘイズ率も3〜4%であった
。
比較例2
実施例1と同じスパッタ装置を用いて洗浄した2、1m
m厚のガラス板上に、アルゴンのみを真空槽に導入した
雰囲気によるスパッタリングにより、5iCxの化学式
で表せる被膜を75nm被覆した。この被膜の屈折率は
3.79と極めて高(、かつ可視域で光の吸収を示すも
のであった。
m厚のガラス板上に、アルゴンのみを真空槽に導入した
雰囲気によるスパッタリングにより、5iCxの化学式
で表せる被膜を75nm被覆した。この被膜の屈折率は
3.79と極めて高(、かつ可視域で光の吸収を示すも
のであった。
また同条件での耐摩耗試験後のヘイズ率は4.0%と大
きい値であった。
きい値であった。
内
第2表
比較例3
実施例1と同じスパッタ装置を用いて洗浄した2、1m
m厚のガラス板」二に、窒素ガスのみを真空層に導入し
た雰囲気によるスパッタリングで5icxNyの化学式
で表せる被膜を75nm被覆した。この被膜の屈折率は
2.04であった。また実施例1と同条件行った耐摩耗
試験後のヘイズ率は3,1%であった。
m厚のガラス板」二に、窒素ガスのみを真空層に導入し
た雰囲気によるスパッタリングで5icxNyの化学式
で表せる被膜を75nm被覆した。この被膜の屈折率は
2.04であった。また実施例1と同条件行った耐摩耗
試験後のヘイズ率は3,1%であった。
上記のように、本発明にかかるシリコンと炭素と窒素と
酸素とからなる保護膜は、耐摩耗性が優れていることが
わかる。
酸素とからなる保護膜は、耐摩耗性が優れていることが
わかる。
[発明の効果]
本発明の熱線遮蔽ガラスの空気と接する最外層は、シリ
コンと炭素と窒素と酸素とからなる耐摩耗性に優れた保
護膜を育するので、直接外気に触れる状態で使用しても
スクラッチなどによる傷がつきに(い。したがって自動
車の窓ガラスや建物の窓ガラスとして複層ガラスや合わ
せガラスにすることなく単板の状態で用いることができ
る。
コンと炭素と窒素と酸素とからなる耐摩耗性に優れた保
護膜を育するので、直接外気に触れる状態で使用しても
スクラッチなどによる傷がつきに(い。したがって自動
車の窓ガラスや建物の窓ガラスとして複層ガラスや合わ
せガラスにすることなく単板の状態で用いることができ
る。
また、本発明の保護膜は直流スパッタリング法により被
覆できるので、大きな基板に安定して被覆することがで
きる。
覆できるので、大きな基板に安定して被覆することがで
きる。
第1図は、本発明の熱線遮蔽ガラスの一部断面図である
。 1・・・ガラス板、2書Φ・熱線遮蔽性の被膜、3・命
・シリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜。 V?眸 ξ14願人 口太析諸子 vJ°〒1″合21 1合 手12年12月19 日
。 1・・・ガラス板、2書Φ・熱線遮蔽性の被膜、3・命
・シリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜。 V?眸 ξ14願人 口太析諸子 vJ°〒1″合21 1合 手12年12月19 日
Claims (5)
- (1)透明なガラス板の上に少なくとも一層からなる熱
線遮蔽性の被膜が被覆され、前記熱線遮蔽性の被膜の上
にシリコンと炭素と窒素と酸素とからなる保護膜が被覆
された熱線遮蔽ガラス。 - (2)前記熱線遮蔽性の被膜が、窒化チタン、窒化ジル
コニウム、窒化ハフニウム、窒化クロムの群から選ばれ
た少なくとも一種であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の熱線遮蔽ガラス。 - (3)前記熱線遮蔽性の被膜が、低屈折率材料からなる
被膜と高屈折率材料からなる被膜が交互に積層された多
層構成の被膜であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項ないし第2項に記載の熱線遮蔽ガラス。 - (4)前記保護膜の厚みが、5nm以上100nm以下
である特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかの
項に記載の熱線遮蔽ガラス。 - (5)前記保護膜が、遊離のシリコンを含有する炭化ケ
イ素のターゲットを用いて、減圧された雰囲気内での直
流反応性スパッタリングにより被覆されたことを特徴と
する特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかの項
に記載の熱線遮蔽ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02253832A JP3028576B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 熱線遮蔽ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02253832A JP3028576B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 熱線遮蔽ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04132639A true JPH04132639A (ja) | 1992-05-06 |
| JP3028576B2 JP3028576B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=17256757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02253832A Expired - Fee Related JP3028576B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 熱線遮蔽ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3028576B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0857700A1 (fr) * | 1997-02-10 | 1998-08-12 | Saint-Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'au moins une couche mince à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procédé d'obtention |
| US6800182B2 (en) | 1999-10-13 | 2004-10-05 | Asahi Glass Company, Limited | Sputtering target, process for its production and film forming method |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020047879A (ko) * | 2000-12-14 | 2002-06-22 | 엘지전자 주식회사 | 친수성 코팅막 |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP02253832A patent/JP3028576B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0857700A1 (fr) * | 1997-02-10 | 1998-08-12 | Saint-Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'au moins une couche mince à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procédé d'obtention |
| FR2759362A1 (fr) * | 1997-02-10 | 1998-08-14 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'au moins une couche mince a base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procede d'obtention |
| US6800182B2 (en) | 1999-10-13 | 2004-10-05 | Asahi Glass Company, Limited | Sputtering target, process for its production and film forming method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3028576B2 (ja) | 2000-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |