JPH04133342U - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JPH04133342U JPH04133342U JP4899391U JP4899391U JPH04133342U JP H04133342 U JPH04133342 U JP H04133342U JP 4899391 U JP4899391 U JP 4899391U JP 4899391 U JP4899391 U JP 4899391U JP H04133342 U JPH04133342 U JP H04133342U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulation performance
- beam current
- faraday
- faraday system
- circuit
- Prior art date
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- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ファラデー系のアースに対する絶縁性能を簡
単に判定することができるようにする。 【構成】 ファラデー系20に流れるビーム電流を計測
するビーム電流計測回路26の他に、ファラデー系20
のアースに対する絶縁性能を判定する絶縁性能判定回路
40と、ファラデー系20をこの絶縁性能判定回路40
とビーム電流計測回路26とに切り換える切換器28と
を設けた。
単に判定することができるようにする。 【構成】 ファラデー系20に流れるビーム電流を計測
するビーム電流計測回路26の他に、ファラデー系20
のアースに対する絶縁性能を判定する絶縁性能判定回路
40と、ファラデー系20をこの絶縁性能判定回路40
とビーム電流計測回路26とに切り換える切換器28と
を設けた。
Description
【0001】
この考案は、イオン注入装置に関し、より具体的には、そのファラデー系のア
ースに対する絶縁性能を判定する手段に関する。
【0002】
図2は、従来のイオン注入装置の一例を示す概略図である。
【0003】
このイオン注入装置は、基本的には、真空容器4内に設けたプラテン8に装着
されたターゲット(例えばウェーハ)6に、図示しない走査手段によって走査さ
れたイオンビーム2を照射してイオン注入を行うよう構成されている。
【0004】
プラテン8は、ターゲット6の着脱等のために、回転軸10によって矢印Aの
ように立てたり倒したりされる。
【0005】
プラテン8の上流側には、イオンビーム2がターゲット6やプラテン8に当た
った際に放出される二次電子がアースへ逃げるのを防止してイオンビーム2のビ
ーム電流の計測を正確に行うために、ファラデーケース(ファラデーカップやフ
ァラデーケージとも呼ばれる)12を設けている。
【0006】
また、この例ではプラテン8の上流側に、回転軸18によって矢印Bのように
立てたり倒したりされるフラッグ14を配置して、更にそのフラッグ14の背面
側にファラデーカップ16を配置して、ターゲット6に対するイオン注入時以外
にフラッグ14を立てて、その開口部14aを通過したイオンビーム2のビーム
電流を計測してイオンビーム2の集束度等を確認することができるようにしてい
る。
【0007】
この例では、上記のようなプラテン8、回転軸10、ファラデーケース12、
フラッグ14、ファラデーカップ16および回転軸18によってファラデー系2
0が構成されている。従って、このファラデー系20を構成する全ての要素はア
ースから電気的に絶縁されている。
【0008】
そして、この例では抵抗22および電流計24を含むビーム電流計測回路26
をこのファラデー系20とアース間に接続して、ターゲット6に対するイオン注
入時のイオンビーム2のビーム電流を正確に計測することができるようにしてい
る。
【0009】
ところが、上記イオン注入装置においては、運転を続けている内に、イオンビ
ーム2がプラテン8等に当たることによって放出されるスパッタ粒子やその他の
パーティクル(ごみ等)によって、ファラデー系20のアースに対する絶縁性能
が低下する可能性があり、そうなると、絶縁性能が低下した部分からビーム電流
がアースへ分流してしまい、そのぶんビーム電流計測回路26に流れるビーム電
流が少なくなるので、ビーム電流計測回路26によるビーム電流の計測に誤差が
生じるという問題がある。ちなみにこのような誤差が生じると、通常はターゲッ
ト6に対するイオン注入量(ドーズ量)はこのビーム電流計測回路26で計測し
たビーム電流に基づいて制御しているので、ターゲット6に対するイオン注入量
は所望のものより多くなってしまう。
【0010】
そこでこの考案は、上記のようなファラデー系のアースに対する絶縁性能を簡
単に判定することができるようにしたイオン注入装置を提供することを主たる目
的とする。
【0011】
上記目的を達成するため、この考案のイオン注入装置は、前記ファラデー系の
アースに対する絶縁性能を判定する絶縁性能判定回路と、前記ファラデー系をこ
の絶縁性能判定回路と前記ビーム電流計測回路とに切り換える切換器とを設けた
ことを特徴とする。
【0012】
上記構成によれば、切換器によってファラデー系を絶縁性能判定回路側に切り
換えることによって、ファラデー系のアースに対する絶縁性能を簡単に判定する
ことができる。
【0013】
図1は、この考案の一実施例に係るイオン注入装置を示す概略図である。図2
の従来例と同一または相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従
来例との相違点を主に説明する。
【0014】
この実施例においては、従来の構成に加えて、前述したようなファラデー系2
0のアースに対する絶縁性能を判定する絶縁性能判定回路40と、ファラデー系
20をこの絶縁性能判定回路40と前述したようなビーム電流計測回路26とに
切り換える切換器28とを設けている。
【0015】
切換器28は、リレーでも良いし、スイッチ等でも良い。
【0016】
絶縁性能判定回路40は、この実施例では、直流電源30と、アースを経由し
てこの直流電源30に流れる電流を電圧に変換する抵抗32、34と、それから
の電圧が基準電圧源36によって設定された基準値を超えたときに警報信号Sを
出力する比較器38とを備えている。
【0017】
上記構成によれば、切換器28を絶縁性能判定回路40側に切り換えると、直
流電源30の電圧がファラデー系20に印加され、そのアースに対する絶縁性能
が低下していると、この直流電源30からの電流が抵抗32、34、アースおよ
びファラデー系20を経由して流れて比較器38に対する入力電圧が高くなり、
これが基準値を超えると当該比較器38から警報信号Sが発せられる。これによ
って、ファラデー系20のアースに対する絶縁性能を簡単に判定することができ
る。
【0018】
ちなみに上記のような判定は、例えば、ターゲット6に対するイオン注入の前
に行えば良い。そして、ファラデー系20の絶縁性能に異常がなければ、切換器
28をビーム電流計測回路26側に切り換えてそれによるイオンビーム2のビー
ム電流計測が可能な状態にしてイオン注入を始めれば良い。もしファラデー系2
0の絶縁性能が悪いと判定された場合は、比較器38からの警報信号Sを用いて
、イオン注入動作にインターロックをかけても良いし、警報表示を出すようにし
ても良い。このようにすることにより、ビーム電流の計測誤差に伴うターゲット
6への過多注入といった注入量異常が発生するのを防止することができる。
【0019】
なお、上記絶縁性能判定回路40の構成はあくまでも一例であり、上記以外の
構成によってファラデー系20のアースに対する絶縁性能を判定しても良いのは
勿論である。
【0020】
また、ファラデー系20の構成も上記例のようなものに限定されるものではな
く、例えば、フラッグ14、ファラデーカップ16および回転軸18を含まない
ファラデー系等でも良い。
【0021】
以上のようにこの考案によれば、切換器を絶縁性能判定回路側に切り換えるこ
とによって、ファラデー系のアースに対する絶縁性能を簡単に判定することがで
きる。その結果、ターゲットに対する注入量異常が発生するのを未然に防止する
ことも可能になる。
【図1】 この考案の一実施例に係るイオン注入装置を
示す概略図である。
示す概略図である。
【図2】 従来のイオン処理装置の一例を示す概略図で
ある
ある
2 イオンビーム
6 ターゲット
8 プラテン
12 ファラデーケース
20 ファラデー系
26 ビーム電流計測回路
28 切換器
40 絶縁性能判定回路
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
// H01L 21/265
Claims (1)
- 【請求項1】 イオンビームのビーム電流を計測するた
めのファラデー系と、このファラデー系に流れるビーム
電流を計測するビーム電流計測回路とを備えるイオン注
入装置において、前記ファラデー系のアースに対する絶
縁性能を判定する絶縁性能判定回路と、前記ファラデー
系をこの絶縁性能判定回路と前記ビーム電流計測回路と
に切り換える切換器とを設けたことを特徴とするイオン
注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4899391U JPH04133342U (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4899391U JPH04133342U (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04133342U true JPH04133342U (ja) | 1992-12-11 |
Family
ID=31927241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4899391U Pending JPH04133342U (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04133342U (ja) |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP4899391U patent/JPH04133342U/ja active Pending
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