JPH04134291A - 加速器のプロファイルモニター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は例えば超ＬＳＩ微細加工などに用いられる加速
器のプロファイルモニターに関する。

（従来の技術） 加速器は電子、陽子、イオンなどのビームを高エネルギ
ー状態に加速するためのものであるが、最近は例えば電
子からの放射光（ＳＯＲ光といわれる）を利用した超Ｌ
ＳＩ微細加工（リソグラフィ）などの新しい分野への応
用か進められている。

プロファイルモニターは、ビームの調整時などにしばし
ば用いられるビーム破壊型モニターの代表的なものの−
っである。

従来のプロファイルモニターは第４図にホブ様に、１枚
の螢光板１をビームライン上に挿入し、ビーム２がここ
に当たると螢光が発せられるのでこれを観測窓３を通し
て工業用テレビなどでモニタリングするものである。

第５図に示す様に、加速器には通常、複数個のプロファ
イルモニター９が設置されるので、ビーム調整時にビー
ムがどこまで誘導されているのかを確認できる。ところ
がこの場合せいぜいビームの最初の１回転目までを確認
できるだけであり、多重回転入射方式のように徐々にビ
ームの水平方向の軌道を変えていくときには、１回転ま
でにビームが損なわれてしまうので２回転目以降のビー
ムの位置を確認することが出来ない。この時は他のモニ
ター例えばγ線モニターなどによりビームがビームダク
トに当ってビームが損失している場所を間接的に知るだ
け【こなってしまう。

以上の様に直接的にビームの位置を知る二とかできない
と、必然的にビーム調整の効率が悪くなり、ビーム調整
期間が長くなる。このことからＳＯＲ光を利用したリソ
グラフィーや各種の研究開発の効率が低下するという問
題がある。

（発明か解決しようとする課題〉 このように従来の構成にあっては、プロファイルモニタ
ーの螢光板は１枚のみであるので、ビームの入射調整時
、２回転目以降のビームの位置を確認できない。

本発明はこのような点にかんがみてなされたもので、そ
の目的とするところは２回転目以降もビームを確認しな
がらビーム調整を行なうことが可能な加速器のプロファ
イルモニターを提出することにある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 上記の目的を達成するため、本発明ではプロファイルモ
ニターの螢光板を複数個配設し、各螢光仮を駆Ｊ７１す
る駆動機溝を設ける。

（作　用） つまり、ビームの入射調整時、最初は全ての螢光板をビ
ームライン上に挿入し、ビーム入射直後の１回転目のビ
ームの位置を確認する。次にビームの当っている螢光仮
を引扱くとビームの２回転目の位置かＴｉ７Ｉｎ’Ｚて
きる。この様にしてビームか入射した後のビームの位置
の移動を知ることかできる。これらの位置か、当初のビ
ーム調整時の設計軌道と違う時は、加速器を構成してい
る偏向電磁石、四極電磁石、補正電磁石等の励磁量を調
整して、ビームか所定の位置を通るようにする。この様
にビームの入射調整時と２回転目以降のビームの位置が
モニタリングでき、ビーム調整できるので、ビーム調整
の効率を向上させることができる。

（実施例） 以下第１図及び第２図を参照して本発明の一実施例を説
明する。第１図はプロファイルモニターの一状態を示す
断面図であり、本プロファイルモニターは、ビームダク
ト４内に複数個の螢光板１と、ビーム調整時などには螢
光板１をビームライン上へ挿入しそれ以外の時にはビー
ムの通過を妨げないように引扱く駆動機溝５を有してい
る。

第２図は、ビーム２が螢光板１に当たった時に発生する
螢光を、他の螢光板に妨げられることなく観測できるよ
うに螢光板が配設されている様子を示している。

さてビームの入射調整時、第１図に示すように、複数個
の螢光板１を全てビームダクト内に挿入しておき、ビー
ムの１回転目の位置を螢光１３を観測して調べる。この
結果を予め設計したビーム調整時のビーム軌道と比較し
ながら偏向電磁石、補正電磁石あるいはバンプ電磁石等
々の励磁量を調整する。

次にこのビームの当たっている螢光板を引扱くと、ビー
ムはここを通過し次のプロファイルモニターの螢光板に
当たる。以下同じ様にして各電磁石の励磁量を調整しつ
つ、螢光板を引抜いていくとビームは加速器を１回転す
るようになる。そのｉ１２回転目に入ったビームは、再
び最初のプロファイルモニターの螢光仮に当たる。ここ
で再び電磁石の励磁量を調整し、ビームか当っている螢
光仮を引扱く。

この様にしてビーム入射時の２回転目以降のビーム位置
を確認しつつビーム軌道を調整することかできるので、
ビーム調整の効率を向上させることができる。

これによってＳＯＲ光を利用したりソグラフイや各種の
研究、開発を早期に効率よく行うことができる。

尚、本発明は前記一実施例に限定されるものではなく、
例えば第３図に示すように螢光板を二列に配設すると、
前列の螢光板の隙間をビームの中心が通過する様な場合
には有効でありより詳細なビーム調整が可能となる。

［発明の効果］ 以上述べたように、本発明の加速器のプロファイルモニ
ターによると、加速器にビームが入射した後、２回転目
以降のビームの位置を調べられるのて、これによって効
率のよいビーム調整か可能となり、ＳＯＲ光を利用した
りソグラフィや各種の研究、開発を早期に立上げて効率
よく行うことかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す加速器のプロファイル
モニターの断面図、第２図は第１図の螢光板の配列を示
す図、第３図は他の実施例の螢光板の配列を示す図、第
４図は従来の加速器のプロファイルモニターの断面図、
第５図は一般的な加速器の構成要素を示す図である。 １・・・ビーム　　　　２・・・螢光板３・・・観測窓
　　　　４・・・ビームダクト５・・・駆動機構　　　
６・・・フランジ７・・・ビーム輸送系　８・・・入射
器９・・・プロファイルモニター １０−・・偏向電磁石　　１１・・・四極電磁石１２・
・・加速空洞　　　１３・・・螢光代理人　弁理士　則
　近　憲　佑 第 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ビームが通過するダクト内に配設した複数個の螢光板と
   、ビームが螢光板に当った時に発生する螢光を他の螢光
   板に妨げられることなく観測できるように各螢光板を駆
   動する駆動機構とを備えたことを特徴とする加速器のプ
   ロファイルモニター。