JPH0413720A - ポリカーボネート - Google Patents

ポリカーボネート

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JPH0413720A
JPH0413720A JP2115086A JP11508690A JPH0413720A JP H0413720 A JPH0413720 A JP H0413720A JP 2115086 A JP2115086 A JP 2115086A JP 11508690 A JP11508690 A JP 11508690A JP H0413720 A JPH0413720 A JP H0413720A
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JP
Japan
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optical
polymer
light
loss
aimed
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Pending
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JP2115086A
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English (en)
Inventor
Saburo Imamura
三郎 今村
Tatsuo Izawa
達夫 伊澤
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NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光集積回路用導波路およびプラスチック光フ
ァイバなどのような光学材料および電気絶縁材料等のよ
うに電子部品材料として使用する、ハロゲン元素および
重水素を含むポリカーボネートに関するものである。
CY。
ただし、式中XおよびYは同一または異なり、重水素あ
るいはハロゲン元素である。
(以下余白) [従来の技術] 光学部品および光ファイバの基材としては、光伝送損失
が小さくかつ伝送帯域が広いことから、一般に石英ガラ
スおよび多成分ガラス等のような無機系のものが使用さ
れている。
一方、プラスチックを基材とする光学材料も開発されて
いる。これらのプラスチック光学材料は、無機系の材料
に比べて加工性がよく、取り扱い易い等の特徴を持つこ
とから注目されている。
例えば光ファイバにおいては、ポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)あるいはポリスチレンのように透明性に
優れたプラスチックを芯(コア)とし、その芯成分より
も屈折率の低いプラスチックを鞘(クラッド)成分とし
た同心のコアークラッド構造からなるものが知られてい
る。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、これらのプラスチック光ファイバは、無
機系のファイバに比べて内部を伝達する光の減衰度合が
大きいという問題点がある。
光の伝達は光回路あるいはファイバの一端に入射した光
を長さ方向に沿って内部で全反射させることにより行な
うが、プラスチックの内部を光が伝達するときに、光が
吸収あるいは散乱されることによって光の減衰を強める
ような要因を最小にすることが重要である。
光回路部品においては現状の光フアイバ通信に用いられ
ている、波長が650〜1600nmの光を用いている
ので、光ファイバの材料としてプラスチックを用いる場
合、上述の波長領域における低損失化はより切実である
プラスチックの光伝送損失の最も大きな要因は、プラス
チックを構成する分子における炭素−水素間の赤外振動
吸収の高調波である。この炭素−水素結合に起因する高
調波を小さくし、また長波長シフトさせるために、プラ
スチック分子中の水素原子を弗素等のハロゲン原子ある
いは重水素原子で置換することが提案されている。
例えば、水素を弗素で置換したプラスチックとしては、
エステル側鎖の水素の一部を弗素置換したポリメタクリ
レート −CH,−C(CH,)− COO(CHI)、(CF2)。cFsがPMMAより
低損失となることが示された(例えば「戒能俊邦、高分
子論文集、42巻、 1985年257−264頁、高
分子学会」参照)。
しかしながら、エステル側鎖あるいは主鎖の、メチル基
に炭素−水素結合が残っているために低損失化は充分で
はない、エステル側鎖の水素をすべて重水素置換あるい
は弗素置換することは低損失化に有用と考えられる。し
かしながら、重水素置換は水素交換反応が起こりやすく
、弗素置換は原料アルコールの安定性が悪い等の合成上
の問題があり、上述のような完全な置換体のモノマを得
ることは非常に困難であった。
また、コア材料として用いられる重水素化ポリメチルメ
タクリレート −CDx −C(CDs) − COOCD。
はポリメチルメタクリレートに比べると低損失化が図れ
るが、小さいながらもC−D結合に起因する高調波吸収
があり、光集積回路のように1300〜1600nm付
近の光を用いる場合、光損失を無視することはできない
、さらにポリスチレン等に比べ吸湿性が高く、2%程度
の飽和吸湿率を持つ。
従って、湿度が高い環境では、水分子のOHの振動吸収
が光損失に影響を与える。OH振動吸収の高調波によっ
て、特に近赤外域の光伝送損失は低下する(例えば「戒
能俊邦、高分子学会予稿集32巻、4号、 1983年
2525頁」参照)、すなわち使用環境条件の湿度変化
により光伝送損失が変動するという問題点があった。
また、有機系ポリマ、特にポリメチルメタクリレート系
ポリマのガラス転移温度は一般に100℃前後である。
そのため耐熱温度の上限は70℃程度であり、実用的な
ものとしては使用することができなかった。そこで、こ
れらのような耐熱性に関する問題点を解決するものとし
て、ポリカーボネートを用いた光導波路および光ファイ
バが提案されている(例えば、「日中ら、富士通、39
巻。
1号、65頁」参照)。これらは優れた耐熱性と安定し
た伝送特性を示すが、側鎖にC−H結合が存在するため
光伝送損失が高いという問題点がある。
本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、
その目的は可視光〜近赤外光域において低損失であり、
しかも耐熱性に優れ、かつ吸湿に伴うOH振動吸収の影
響の少ないプラスチック光学材料、撥水材等の表面処理
剤および酸素富化膜等の機能膜として使用可能なポリカ
ーボネートを提供することにある。
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明は、下記−数
式(1)で表わされる繰り返し単位からなることを特徴
とする。
ただし、式中XおよびYは同一または異なり、重水素あ
るいはへロゲン元素である。
[作 用] 本発明においては、ポリカーボネートの水素をハロゲン
化あるいは重水素化することによりC−H結合に起因す
る高調波吸収を小さく、かつ長波長シフトさせることに
より低損失の光学材料を得ることができる。さらに側鎖
のハロゲン化によりポリマの吸湿性は大幅に低下し、吸
湿に基づ(0−H振動吸収強度は極めて小さ(なる。P
MMA系のポリマが吸湿性が大きいために吸湿あるいは
脱湿によってOH基に基づ(吸収強度が大きく変動し、
安定した導光特性が得られなかったのに比べ、本発明は
極めて安定した光特性を維持し得るという特徴がある。
本発明におけるポリマの製造法は、一般のポリカーボネ
ート製造法と同様であり、ビスフェノールをピリジン等
の有機溶媒やジクロルメタン−水酸化ナトリウム水溶液
に溶解し、ホスゲンを導入し、縮重合を行なわせるもの
である。
[実施例] 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
虱ユjJUL九工 100m1の三ロフラスコにデュウテロジフェニロール
プロパンd−14を20gと140■1のピリジンを入
れた。溶解後かき混ぜつつ約1+g/mlの割合でホス
ゲンを溶液中に通した。温度を25−30℃に保った。
ピリジン塩駿塩が析出し、反応液が黄赤色になったとき
にホスゲンの添加をやめた。反応混合物を600m1の
水中に注ぎポリマを分離した。
ポリマは濾別後水洗い乾燥させた。得られたポリマの分
子量は54000であった。化学構造は表1に示す。
基因ヱl亘土ユ 300m1のフラスコに20gのデュウテロジフェニロ
ールヘキサフルオロブロバンd−8,6gの水酸化ナト
リウム、1gのベンジルトリメチルアンモニウムの塩化
物、 100m1の蒸留水および50+olのジクロル
メタンをいれた。混合物を速くかきまぜ、水冷下20℃
に保ちながらホスゲンをIg/winの割合で通した。
反応終了後ジクロルメタンを留去し、粗製ポリマを水洗
し、乾燥させた。得られたポリマの分子量は75000
であった。化学構造は表1に示す。
ポリマ ゛ 3−8 製造例1および2と同様にして、表1に示すポリマを製
造した。
表1 製造したポリマ 化学構造 Y3 叉11乱1 ポリマ製造例1で得た棒状重合体の両端を光学研磨し、
分光器で近赤外〜可視光域での吸収を測定した。その結
果、660.850.1300および1550nmにお
けるオプティカルデンシティ(OD)はそれぞれ0.0
12.0.005.0.005および0.120 (c
m−’)であり、きわめて高い透光性を示した。同様に
して他のポリマについても吸収を測定した。表2にその
結果をまとめた。
表2 製造したポリマの透光性 化学構造 叉11肌λ ポリマ製造例1で得たポリマをコア成分、ポリマ製造例
2で得たポリマをクラッド成分とする光り導波路を作製
した。
上述の2種のポリマをメチルイソブチルケトンに溶解し
溶液とした。まず、クラッド成分ポリマをシリコン基盤
上に約15μmの厚さに塗布した。
焼成および乾燥処理後、クラッド成分ポリマ上にコア成
分ポリマな約8μmの厚さに塗布した。次に、ホトリソ
グラフィおよびドライエツチングにより、コア成分ポリ
マを長さ50mm、幅8μm、高さ8μmの直線矩形パ
タンに加工した。加工後クラッド成分をコア成分ポリマ
上に塗布し光導波路を得た。
波長1300nmの光を導波路の一端から照射し、他端
から出てくる光量を測定することにより導波路の損失を
計算した。この導波路の損失は0.12dB/cI11
であり充分に種々の光回路に供し得ると考えられる。
叉JJ乳且 コア成分としてポリマ製造例1で得たポリマを、クラッ
ド成分としてポリマ製造例2で得たポリマな用いて光フ
ァイバを作製した。
コア成分ポリマを過熱しつつ押し出し機にてファイバ化
し、これを溶媒化したクラッド成分ポリマ中に通すこと
によりコーティングを行なった。この工程を経てコア直
径0.75mmクラッド膜厚0、05mmの光ファイバ
を得た。このファイバは波長650止で100dB/k
m、波長850nmで60dB/km以下の低損失窓が
観察された。
このプラスチック光ファイバを、温度60℃、湿度90
%RHの条件下で2昼夜静置してから取り出し、光伝送
特性を測定した。吸湿に基づく損失増は波長850止で
50dB/km以下であった。同じ条件下でバーデユー
テロポリメチルメタクリレートの、吸湿に基づく損失増
は300dB/km以上であり、光損失が大幅に改善さ
れた。
大11糺A 本実施例は、封止絶縁材料としてポリマ使用した実施例
である。
ポリマ製造例4で得たポリマの衝撃強度は410kg、
 cm/cm”と非常に太き(、またガラス転移温度は
160℃であり熱変形温度も140℃と耐熱性に優れて
いた。また加工性にも優れ、30%のポリマと70%の
溶媒シリカからなる混合物に半導体を封止し、加熱成形
することが可能であった。樹脂封止したものを耐湿性加
速試験(121”C,100%相対湿度)したところ、
 1500時間経過しても不良が発生しなかった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によるポリカーボネートは
、従来のプラスチック光学材料に比べ、可視〜近赤外光
域において極めて優れた光伝送特性を有すると共に、高
温多湿条件下にさらされても損失増が著しく少ない。そ
のため、近赤外光域における光集積回路用材料および可
視光域あるいは近赤外光域用光源を用いる数100mの
距離間における光信号伝送媒体として安定して使用し得
るという利点がある。
また、従来光フアイバ通信に用いられている、650〜
1600r+mの波長域において低損失であるので、多
成分系ガラスおよび石英系光ファイバと、光/電気変換
あるいは電気/光変換なしに接続して使用することがで
きる。すなわち、これらの光学材料を使って作製した光
部品により経済性に優れたローカルエリアネットワーク
などのような光信号伝送システムを構成できるという利
点がある。
さらに、光学材料としてだけではなく広範囲にわたる用
途が可能であるという利点がある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記一般式(1)で表わされる繰り返し単位からな
    ることを特徴とするポリカーボネート;▲数式、化学式
    、表等があります▼・・・(1) ただし、式中XおよびYは同一または異なり、重水素あ
    るいはハロゲン元素である。
JP2115086A 1990-05-02 1990-05-02 ポリカーボネート Pending JPH0413720A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002036659A3 (en) * 2000-11-03 2003-02-13 Corning Inc Highly-halogenated low optical loss polyester
JP2016538523A (ja) * 2013-11-29 2016-12-08 キム, ノ ウルKIM, No Eul プラスチック温水ボイラ

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