JPH04137777A - 放電励起エキシマレーザ装置 - Google Patents
放電励起エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH04137777A JPH04137777A JP2260978A JP26097890A JPH04137777A JP H04137777 A JPH04137777 A JP H04137777A JP 2260978 A JP2260978 A JP 2260978A JP 26097890 A JP26097890 A JP 26097890A JP H04137777 A JPH04137777 A JP H04137777A
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- JP
- Japan
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- gas
- pressure vessel
- laser
- fan
- discharge
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- Pending
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、放電励起エキシマレーザ装置に関する。
従来の技術
希ガスハロゲンエキシマレーザは紫外域で発振する高出
力のガスレーザであり、超微細加工用光源として半導体
リングラフィや化学プロセス等の広範な用途に利用され
ている。希ガスハロゲンエキシマレーザの励起方式には
電子ビーム励起と放電励起とがあるが、後者は比較的簡
便な構成で高繰り返し発振が可能であるため、広く一般
に用いられている。
力のガスレーザであり、超微細加工用光源として半導体
リングラフィや化学プロセス等の広範な用途に利用され
ている。希ガスハロゲンエキシマレーザの励起方式には
電子ビーム励起と放電励起とがあるが、後者は比較的簡
便な構成で高繰り返し発振が可能であるため、広く一般
に用いられている。
以下に従来の放電励起エキシマレーザ装置について説明
する。
する。
第4図fatは放電励起エキシマレーザのなかでも最も
一般的な三軸直交型の紫外線予備電離放電励起エキシマ
レーザ装置の圧力容器の断面図、同図(blは同放電励
起エキシマレーザ装置の全体構成図である。圧力容器1
中には希ガスとハロゲンガスからなるレーザ媒質ガスが
大気圧以上の高圧で封入されている。圧力容器1の内部
に設けられた一対の細長い励起放電電極2,2間で−様
なパルス放電を起こすことによって、励起放電領域内の
レーザ媒質ガスを励起する。
一般的な三軸直交型の紫外線予備電離放電励起エキシマ
レーザ装置の圧力容器の断面図、同図(blは同放電励
起エキシマレーザ装置の全体構成図である。圧力容器1
中には希ガスとハロゲンガスからなるレーザ媒質ガスが
大気圧以上の高圧で封入されている。圧力容器1の内部
に設けられた一対の細長い励起放電電極2,2間で−様
なパルス放電を起こすことによって、励起放電領域内の
レーザ媒質ガスを励起する。
第4図(blに示す放電回路について説明する。スイッ
チ3が開いている間に充電用コイル4を経由して充電用
コンデンサ5か充電される。スイッチ3を閉じると、充
電用コンデンサ5の電荷がピーキングコンデンサ6に移
行し、予備電離放電ギャップ7が放電して紫外線を発生
し、引き続きピーキングコンデンサ6の端子間電圧が励
起放電電極2の放電開始電圧に達すると励起放電が起こ
る。
チ3が開いている間に充電用コイル4を経由して充電用
コンデンサ5か充電される。スイッチ3を閉じると、充
電用コンデンサ5の電荷がピーキングコンデンサ6に移
行し、予備電離放電ギャップ7が放電して紫外線を発生
し、引き続きピーキングコンデンサ6の端子間電圧が励
起放電電極2の放電開始電圧に達すると励起放電が起こ
る。
これで1回のレーザ動作は終了するが、一般にスイッチ
3にはサイラトロン等が使用され、繰り返しレーザ動作
を行うようになっている。
3にはサイラトロン等が使用され、繰り返しレーザ動作
を行うようになっている。
励起放電の終了後しばらくの間、励起放電領域内のレー
ザ媒質ガスには放電で生成した不純物が残留しているほ
か、圧力の不均一や電気的な不均一があるため、発振繰
り返し数を上げていくと引き続く励起放電が不安定にな
り出力が低下していく。さらに発振繰り返し数を上げる
と、もはや均一な励起放電は得られず、レーザ発振不能
となる。数十Hz以上の高繰り返し発振を実現するため
には、励起放電終了直後の励起放電領域のレーザ媒質ガ
スを均質かつ清浄な状態に戻してやることが必要になっ
てくる。そのために、圧力容器1の内部にはレーザ媒質
ガスの循環用ファンが収められており、励起放電後の励
起放電領域内のレーザ媒質ガスを強制的に除去し、常に
清浄かつ均質な状態に保つようにしている。循環用ファ
ンとしてはクロスフローファン8が一般に用いられてい
る。
ザ媒質ガスには放電で生成した不純物が残留しているほ
か、圧力の不均一や電気的な不均一があるため、発振繰
り返し数を上げていくと引き続く励起放電が不安定にな
り出力が低下していく。さらに発振繰り返し数を上げる
と、もはや均一な励起放電は得られず、レーザ発振不能
となる。数十Hz以上の高繰り返し発振を実現するため
には、励起放電終了直後の励起放電領域のレーザ媒質ガ
スを均質かつ清浄な状態に戻してやることが必要になっ
てくる。そのために、圧力容器1の内部にはレーザ媒質
ガスの循環用ファンが収められており、励起放電後の励
起放電領域内のレーザ媒質ガスを強制的に除去し、常に
清浄かつ均質な状態に保つようにしている。循環用ファ
ンとしてはクロスフローファン8が一般に用いられてい
る。
このようにレーザ媒質ガスの循環によって繰り返し動作
時のレーザ出力の低下は抑制することができる。しかし
長期的に見るとレーザ媒質ガスの劣化によるレーザ出力
の低下は避けられない。エキシマレーザで使用するフッ
素等のハロゲンガスは反応性が極めて高いために、圧力
容器1の内壁への吸着や放電生成物との反応によって減
少していくからである。レーザ出力を維持するためには
、充電用コンデンサ5の充電電圧を徐々に上げて励起放
電への投入エネルギーを大きくする。さらにレーザ媒質
ガスの劣化が進み、レーザ出力の低下を充電電圧を上げ
ることだけで補えなくなりた時には、レーザ媒質ガス供
給装置9からガス供給口10を通じてハロゲンガスの補
充やレーザ媒質ガスの部分交換あるいはレーザ動作中の
連続交換を行う。なお、11はガス排気口である。
時のレーザ出力の低下は抑制することができる。しかし
長期的に見るとレーザ媒質ガスの劣化によるレーザ出力
の低下は避けられない。エキシマレーザで使用するフッ
素等のハロゲンガスは反応性が極めて高いために、圧力
容器1の内壁への吸着や放電生成物との反応によって減
少していくからである。レーザ出力を維持するためには
、充電用コンデンサ5の充電電圧を徐々に上げて励起放
電への投入エネルギーを大きくする。さらにレーザ媒質
ガスの劣化が進み、レーザ出力の低下を充電電圧を上げ
ることだけで補えなくなりた時には、レーザ媒質ガス供
給装置9からガス供給口10を通じてハロゲンガスの補
充やレーザ媒質ガスの部分交換あるいはレーザ動作中の
連続交換を行う。なお、11はガス排気口である。
発明が解決しようとする課題
レーザ媒質供給装置9は、圧力容器1のガス供給口10
およびガス排気口11に接続されている。ガスの排気口
11と供給口10はガスの交換効率を高めるためにもで
きるだけ離して設けることが望ましいが第4図fa)の
ように圧力容器1の両端部に設けると、排気口11側の
ガス混合比と供給口10側のガス混合比との間に差が生
じてしまう。ガス循環用のクロスフローファン8は、そ
の回転軸方向にはガスをすみやかに移動させないために
圧力容器1内のガスの混合は円滑に行われず、ガス混合
比の不均一がなかなか解消されない。このことが、励起
放電領域においてもガス混合比のばらつきを生じ、励起
放電の不安定さ、レーザ出力の低下をもたらす原因とな
っていた。
およびガス排気口11に接続されている。ガスの排気口
11と供給口10はガスの交換効率を高めるためにもで
きるだけ離して設けることが望ましいが第4図fa)の
ように圧力容器1の両端部に設けると、排気口11側の
ガス混合比と供給口10側のガス混合比との間に差が生
じてしまう。ガス循環用のクロスフローファン8は、そ
の回転軸方向にはガスをすみやかに移動させないために
圧力容器1内のガスの混合は円滑に行われず、ガス混合
比の不均一がなかなか解消されない。このことが、励起
放電領域においてもガス混合比のばらつきを生じ、励起
放電の不安定さ、レーザ出力の低下をもたらす原因とな
っていた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、圧力容器内
にレーザ媒質ガスを供給した後のガス混合比の不均一を
解消する手段を有する放電励起エキシマレーザ装置を提
供するものである。
にレーザ媒質ガスを供給した後のガス混合比の不均一を
解消する手段を有する放電励起エキシマレーザ装置を提
供するものである。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明は、レーザ媒質ガスを
封入する圧力容器と、レーザ媒質ガスを圧力容器内に供
給する手段と、レーザ媒質ガスを励起する励起放電電極
と、レーザ動作中に圧力容器内でレーザ媒質ガスを循環
させるクロスフローファンとを備えた三軸直交型放電励
起エキシマレーザ装置において、圧力容器の内部にはク
ロスフローファンの回転軸方向にレーザ媒質ガスを移動
させる軸流ファンを備えており、かつその細流ファンの
回転軸はクロスフローファンの回転軸と同一であるよう
にしたものである。
封入する圧力容器と、レーザ媒質ガスを圧力容器内に供
給する手段と、レーザ媒質ガスを励起する励起放電電極
と、レーザ動作中に圧力容器内でレーザ媒質ガスを循環
させるクロスフローファンとを備えた三軸直交型放電励
起エキシマレーザ装置において、圧力容器の内部にはク
ロスフローファンの回転軸方向にレーザ媒質ガスを移動
させる軸流ファンを備えており、かつその細流ファンの
回転軸はクロスフローファンの回転軸と同一であるよう
にしたものである。
作用
この構成によって、クロスフローファンの回転軸方向に
もレーザ媒質ガスを移動させることができるため、圧力
容器内のガスの混合が円滑に素早く行われる。したがっ
て励起放電領域内のガス混合比の差も即座に解消され、
励起放電の不安定さによるレーザ出力の低下を回避する
ことかできる。
もレーザ媒質ガスを移動させることができるため、圧力
容器内のガスの混合が円滑に素早く行われる。したがっ
て励起放電領域内のガス混合比の差も即座に解消され、
励起放電の不安定さによるレーザ出力の低下を回避する
ことかできる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第1図は本発明の一実施例における放電励起エキシマレ
ーザ装置の圧力容器の断面図である。圧力容器1内には
励起放電電極2、ガス循環用のクロスフローファン12
、軸流ファン13が収められている。軸流ファン13の
回転軸はクロスフローファン12と同一であるため、ク
ロスフローファン12の回転駆動力をそのまま利用でき
る構造である。圧力容器1には、レーザ媒質ガス供給装
置9から清浄なレーザ媒質ガスの供給を受けるためのガ
ス供給口10と、繰り返し放電により劣化したレーザ媒
質ガスを排気して圧力容器1内のガス圧を一定に保つた
めのガス排気口11が設けられている。ガス供給口10
とガス排気口11は圧力容器1のレーザビーム方向両端
部に設けられているから、圧力容器1内に供給された清
浄なガスがただちに排気されることはない。
ーザ装置の圧力容器の断面図である。圧力容器1内には
励起放電電極2、ガス循環用のクロスフローファン12
、軸流ファン13が収められている。軸流ファン13の
回転軸はクロスフローファン12と同一であるため、ク
ロスフローファン12の回転駆動力をそのまま利用でき
る構造である。圧力容器1には、レーザ媒質ガス供給装
置9から清浄なレーザ媒質ガスの供給を受けるためのガ
ス供給口10と、繰り返し放電により劣化したレーザ媒
質ガスを排気して圧力容器1内のガス圧を一定に保つた
めのガス排気口11が設けられている。ガス供給口10
とガス排気口11は圧力容器1のレーザビーム方向両端
部に設けられているから、圧力容器1内に供給された清
浄なガスがただちに排気されることはない。
第2図(al、 fblは本実施例におけるクロスフロ
ーファンと軸流ファンの正面図と側面図である。
ーファンと軸流ファンの正面図と側面図である。
般に、クロスフローファンの翼は数枚の円盤により固定
されているので、クロスフローファンの軸に軸流ファン
を取り付けると翼固定用の円盤が軸方向のガス流の障害
となってしまう。本実施例では、翼固定用の円盤を軸流
ファンに置き換えてクロスフローファンと軸流ファンの
二つのファンを一体化することにより円滑なガス流と同
時に軽量化も達成した。また、二つのファンを一体構造
とすることによりクロスフローファン12の回転駆動力
を軸流ファン13の駆動にそのまま使うことができる。
されているので、クロスフローファンの軸に軸流ファン
を取り付けると翼固定用の円盤が軸方向のガス流の障害
となってしまう。本実施例では、翼固定用の円盤を軸流
ファンに置き換えてクロスフローファンと軸流ファンの
二つのファンを一体化することにより円滑なガス流と同
時に軽量化も達成した。また、二つのファンを一体構造
とすることによりクロスフローファン12の回転駆動力
を軸流ファン13の駆動にそのまま使うことができる。
エキシマレーザ装置では腐食性の高いハロゲンガスを使
用するため、一般に圧力容器1の内部にモータを設置す
ることができない。外部モータの回転駆動力を圧力容器
1の内部に導入するためには、磁性流体シール等の複雑
、高価、かつ信頼性の低い駆動力導入機構を使用せざる
をえない。本実施例によれば、軸流ファン12専用のモ
ータおよび駆動力導入機構が不要であり、安全性、信頼
性、経済性の面において大変有利である。
用するため、一般に圧力容器1の内部にモータを設置す
ることができない。外部モータの回転駆動力を圧力容器
1の内部に導入するためには、磁性流体シール等の複雑
、高価、かつ信頼性の低い駆動力導入機構を使用せざる
をえない。本実施例によれば、軸流ファン12専用のモ
ータおよび駆動力導入機構が不要であり、安全性、信頼
性、経済性の面において大変有利である。
第3図は本発明のレーザ装置の動作およびレーザパルス
エネルギーの状態を示す図である。第3図を参照しなが
ら第1図のレーザ装置の動作について説明する。
エネルギーの状態を示す図である。第3図を参照しなが
ら第1図のレーザ装置の動作について説明する。
レーザ動作中、圧力容器1内ではクロスフローファン1
2の回転によってレーザ媒質ガスが循環し、励起放電電
極2.2間でガス流が生しているため、発振の高繰り返
し化によるレーザパルスエネルギーの低下は抑制されて
いる。しかし発振回数の累積とともに、ハロゲンの減少
や不純物の増加ニよってレーザパルスエネルギーは徐々
に低下していく。しばらくの間は、充電用コンデンサ5
の充電電圧を徐々に上げて励起放電への投入エネルギー
を大きくしていくことで、レーザパルスエネルギーの低
下を防ぐことができる。しかし高圧電源には容量の限界
があるから、ある程度レーザ媒質ガスが劣化すると出力
の低下を補えなくなる。この時点でレーザ媒質ガス供給
装置9が、少量のハロゲンガスをガス供給口10から圧
力容器1内に供給する。このとき同時にガス排気口11
から劣化したガスを圧力容器1の外に排気して、圧力容
器1内のガス圧を一定に保つ。圧力容器1内に供給され
たハロゲンガスは軸流ファン13の回転によってクロス
フローファン12の内部に導かれる。クロスフローファ
ン12による効果と細流ファン13による効果があいま
って、供給されたハロゲンガスは圧力容器1内ですばや
く拡散するので圧力容器1内におけるガス混合比のばら
つきが即座に解消される。従来、ハロゲンガス供給直後
に問題となっていた励起放電の不安定によるレーザパル
スエネルギーの低下やばらつきを防ぐことができる。
2の回転によってレーザ媒質ガスが循環し、励起放電電
極2.2間でガス流が生しているため、発振の高繰り返
し化によるレーザパルスエネルギーの低下は抑制されて
いる。しかし発振回数の累積とともに、ハロゲンの減少
や不純物の増加ニよってレーザパルスエネルギーは徐々
に低下していく。しばらくの間は、充電用コンデンサ5
の充電電圧を徐々に上げて励起放電への投入エネルギー
を大きくしていくことで、レーザパルスエネルギーの低
下を防ぐことができる。しかし高圧電源には容量の限界
があるから、ある程度レーザ媒質ガスが劣化すると出力
の低下を補えなくなる。この時点でレーザ媒質ガス供給
装置9が、少量のハロゲンガスをガス供給口10から圧
力容器1内に供給する。このとき同時にガス排気口11
から劣化したガスを圧力容器1の外に排気して、圧力容
器1内のガス圧を一定に保つ。圧力容器1内に供給され
たハロゲンガスは軸流ファン13の回転によってクロス
フローファン12の内部に導かれる。クロスフローファ
ン12による効果と細流ファン13による効果があいま
って、供給されたハロゲンガスは圧力容器1内ですばや
く拡散するので圧力容器1内におけるガス混合比のばら
つきが即座に解消される。従来、ハロゲンガス供給直後
に問題となっていた励起放電の不安定によるレーザパル
スエネルギーの低下やばらつきを防ぐことができる。
以上はハロゲンガスを供給した例である。希ガスやバッ
ファガスも含めて圧力容器1内のガスを部分交換する場
合またはレーザ動作中に少量ずつ連続的に交換する場合
も二つのファンの働きは同しである。
ファガスも含めて圧力容器1内のガスを部分交換する場
合またはレーザ動作中に少量ずつ連続的に交換する場合
も二つのファンの働きは同しである。
なお本発明によれば、レーザ動作中のガス供給時だけで
なく圧力容器1内を真空排気後再びガスを充填する際に
もすばやくガスを混合することができる。
なく圧力容器1内を真空排気後再びガスを充填する際に
もすばやくガスを混合することができる。
発明の効果
以上のように本発明は、クロスフローファンと軸流ファ
ンをその各回転軸を一致させて設けることにより、圧力
容器内に供給直後のレーザ媒質ガスの混合比の不均一を
すばやく解消することができ励起放電を安定化させるこ
とができる放電励起エキシマレーザ装置を実現するもの
である。
ンをその各回転軸を一致させて設けることにより、圧力
容器内に供給直後のレーザ媒質ガスの混合比の不均一を
すばやく解消することができ励起放電を安定化させるこ
とができる放電励起エキシマレーザ装置を実現するもの
である。
第1図は本発明の一実施例における放電励起エキシマレ
ーザ装置の圧力容器の断面図、第2図fat、 (bl
は本発明の実施例におけるクロスフローファンと軸流フ
ァンの正面図と側面図、第3図は本発明の放電励起エキ
シマレーザ装置の動作ならびにレーザパルスエネルギー
の状態を示す図、第4図(alは従来の放電励起エキシ
マレーザ装置の圧力容器の断面図、第4図+blは同放
電励起エキシマレーザ装置の全体構成図である。 1・・・・・・圧力容器、2・・・・・・励起放電電極
、9・・・・・・レーザ媒質ガス供給装置(供給する手
段)、12・・・・・・クロスフローファン、13・・
・・・・軸流ファン。 代理人の氏名 弁理士小鍜治明 ほか28第 第 図 図 CCI) (b) 第 図
ーザ装置の圧力容器の断面図、第2図fat、 (bl
は本発明の実施例におけるクロスフローファンと軸流フ
ァンの正面図と側面図、第3図は本発明の放電励起エキ
シマレーザ装置の動作ならびにレーザパルスエネルギー
の状態を示す図、第4図(alは従来の放電励起エキシ
マレーザ装置の圧力容器の断面図、第4図+blは同放
電励起エキシマレーザ装置の全体構成図である。 1・・・・・・圧力容器、2・・・・・・励起放電電極
、9・・・・・・レーザ媒質ガス供給装置(供給する手
段)、12・・・・・・クロスフローファン、13・・
・・・・軸流ファン。 代理人の氏名 弁理士小鍜治明 ほか28第 第 図 図 CCI) (b) 第 図
Claims (1)
- レーザ媒質ガスを封入する圧力容器と、レーザ媒質ガス
を圧力容器内に供給する手段と、レーザ媒質ガスを励起
する励起放電電極と、レーザ動作中に圧力容器内でレー
ザ媒質ガスを循環させるクロスフローファンとを備えた
三軸直交型放電励起エキシマレーザ装置において、前記
圧力容器の内部には前記クロスフローファンの回転軸方
向にレーザ媒質ガスを移動させる軸流ファンを備えてお
り、かつその軸流ファンの回転軸は前記クロスフローフ
ァンの回転軸と同一であることを特徴とする放電励起エ
キシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260978A JPH04137777A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 放電励起エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260978A JPH04137777A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 放電励起エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04137777A true JPH04137777A (ja) | 1992-05-12 |
Family
ID=17355384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2260978A Pending JPH04137777A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 放電励起エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04137777A (ja) |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2260978A patent/JPH04137777A/ja active Pending
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