JPH04139172A

JPH04139172A - α―スルフィニル置換アセトアミド誘導体

Info

Publication number: JPH04139172A
Application number: JP26330190A
Authority: JP
Inventors: Koichi Hirai; 平井　功一; Yuji Iwano; 雄次岩野; Keiichi Tabata; 田端　敬一
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1990-10-01
Filing date: 1990-10-01
Publication date: 1992-05-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【目的】【産業上の利用分野】

本発明は、優れた、胃酸分泌抑制作用及び抗潰瘍作用を
有する、新規なα−スルフィニル置換アセトアミド誘導
体又はその塩及びその合成中間体に関する。

【従来の技術】

２−［（３，５−ジメチル−４−メトキシ−２−ピリジ
ル）メチルスルフィニル１−５−メトキシ−（ＩＨ）−
ベンズイミダゾール（オメブラゾール）［特開昭５４−
１４１７８３号公報記載の化合物］が、胃酸分泌の最終
段随に関与する酵素であるＨ”、Ｋ”−アデノシントリ
フォスファターゼ（以下、Ｈ”　、　Ｋ　”−ＡＴＰａ
ｇｅと略記する。）を阻害することによって、胃酸分泌
を抑制し、抗潰瘍剤として臨床で有効であることが知ら
れている。

【発明が解決しようとする課題】

本発明者等は、α−スルフィニル置換アセトアミド誘導
体の合成とその薬理活性について、永年に亘り鋭意研究
を行なった結果、本発明の化合物ｆＩｌが、上記の既知
のオメプラゾールに比べ、より強い、Ｈ”、　Ｋ”−Ａ
ＴＰａｓｅ酵素阻害活性を有し、優れた薬剤となること
を見出し本発明を完成した。

【構成】

本発明の新規な、・アミド誘導体は、一般式スルフィニル置換アセト［式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ’及びＲ４は、同−又は異なって、水素
原子又は下記置換基群Ａより選択される基を示し、Ｒ″は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を示
し、Ｒ６は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群Ａ
より選択される基で１乃至３個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Ａより選択される基で１乃
至３個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又は
下記置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換され
たベテロアリ−ル基を示し、Ａは、酸素原子、硫黄原子又は−数式ＮＲ’で表される
基（式中、Ｒ７は、水素原子又は低級アルキル基を示す
。）を示す。１　を有し、その合成中間体である化合物
は、一般式［式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ３及びＲ４は、同−又は異なって、水素
原子又は下記置換基群Ａより選択される基を示し、Ｒ’は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を示
し、Ｒ６は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群Ａ
より選択される基で１乃至３個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Ａより選択される基で１乃
至３個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又は
下記置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換され
たヘテロアリール基を示し、Ａは、酸素原子、硫黄原子又は−数式ＮＲ’で表される
基（式中、Ｒ？は、水素原子又は低級アルキル基を示す
。）を示す。］　を有する。「置換基群Ａ」低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基上記−数式ｆＩｌにおいて、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ７及び置換基群Ａの定義における「低級
アルキル基」とは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、Ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メ
チルブチル、ネオペンチル、ｎ−へキシル、４−メチル
ペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、
３，３−ジメチルブチル、２．２−ジメチルブチル、１
．１−ジメチルブチル、１．２−ジメチルブチル、１．
３−ジメチルブチル５２，３−ジメチルブチルのような
炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、
好適には炭素数１乃至４個のアルキル基である。Ｒ５及びＲ６の定義における「アリール基」並びにＲ“
の定義における、「下記置換基群Ａより選択される基で
１乃至３個置換されたアリール基」の「アリール基」と
は、例えばフェニル、ナフチルのような炭素数５乃至１
４個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適には
フェニル基である。Ｒ６の定義における、「アラルキル基」、「下記置換基
群Ａより選択される基で１乃至３個置換されたアラルキ
ル基」の「アラルキル基」及び置換基群Ａの定義におけ
る「アラルキル基」とは、上記「アリール」が前記「低
級アルキル基」に結合した基をいい、例えば、ベンジル
、ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメ
チル、■−フェネチル、２−フェネチル、■−ナフチル
エチル、２−ナフチルエチル、ｌ−フェニルプロピル、
２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、■−ナ
フチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチル
プロピル、■−フェニルブチル、２−フェニルブチル、
３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、ｌ−ナフチ
ルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、
４−ナフチルブチル、■−フェニルペンチル、２−フェ
ニルペンチル、３−フェニルブチル、４−フェニルペン
チル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、
２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナ
フチルペンチル、５−ナフチルペンチル、■−フェニル
ヘキシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシ
ル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６
−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフ
チルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘ
キシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシル
を挙げることができ、好適には、「低級アルキル基Ｊの
炭素数が１乃至４個の１アラルキル基」である。Ｒ６の定義における、「ヘテロアリール基」及び「下記
置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換されたヘ
テロアリール基」の「ヘテロアリール基」とは、硫黄原
子、酸素原子又は／及び窒素原子を１乃至３個含む５乃
至７貫の芳香族複素環基を示し、例えば、フリル、チエ
ニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソ
キサゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、　１，２．
３−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、
チアジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル及びピラジニルを拳げることかでき、好適には、窒素
原子を少なくとも１個含み、酸素原子又は硫黄原子を含
んでいてもよい５乃至７員の芳香族複素環基を示し、例
えば、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソ
キサゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、１．２．３
−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チ
アジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル
及びピラジニルを拳げることかでき、さらに好適には、
ピリジル基及びチアゾリル基である。置換基群Ａの定義における、「低級アルコキシ基」とは
、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基をい
い、例えば、メトキシ、エトキシ、ロープロポキシ、イ
ンプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、Ｓ−ブト
キシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、イソペントキシ
、２−メチルブトキシ、ネオペントキシ、ローへキシル
オキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ
、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチルブトキシ、
２．２−ジメチルブトキシ、１．１−ジメチルブトキシ
、１．２−ジメチルブトキシ、１．３−ジメチルブトキ
シ、２．３−ジメチルブトキシのような炭素数１乃至６
個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適には炭素
数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基である。置換基群Ａの定義における、「保護された水酸基」の「
保護基」としては、反応における保護基及び生体に投与
する際のプロドラッグ化のための保護基を示し、例えば
、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソ
バレリル、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、
トリデカノイル、バルミトイル、ステアロイルのような
アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
うなハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチ
ルのような低級アルコキシアルキルカルボニル基、ｆＥ
ｉ２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α−ナ
フトイル、Ｂ−・ナフトイルのようなアリールカルボニ
ル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルの
ようなハロゲン化アリールカルボニル基、２，４．６−
トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級ア
ルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロ
ベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのような二゛トロ化
アリールカルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベ
ンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリール
カルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリー
ル化アリールカルボニル基等の芳香族アシル基：テトラ
ヒドロビラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロビラ
ン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロビラン−４−
イル、テトラヒドロチオビラン−２−イル、４−メトキ
シテトラヒドロチオビラン−４−イルのようなテトラヒ
ドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基；テトラ
ヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２
−イルのようなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロ
チオフラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル
、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブ
チルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級
アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニ
ルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエ
ニルジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリー
ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル
基：メトキシメチル、１．１−ジメチル−１−メトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロ
ポキシメチル、ブトキシメチル、ｔブトキシメチルのよ
うな低級アルコキシメチル基、２−メトキシエトキシメ
チルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基
、２，２．２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−
クロロエトキシ）メチルのようなハロゲン化低級アルコ
キシメチル等のアルコキシメチル基：１−エトキシエチ
ル、ｌ（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコキ
シ化エチル基、２．２．２−トリクロロエチルのような
ハロゲン化エチル基、２−（フェニルゼレネニル）エチ
ルのようなアリールゼレネニル化エチル基等の置換エチ
ル基；ベンジル、α−ナフチルメチル、Ｂ−ナフチルメ
チル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナ
フチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのよう
なｌ乃至３個のアリール基で置換された低級アルキル基
、４−メチルベンジル、２，４．６−）−リメチルベン
ジル、３．４．５−トリメチルベンジル、４−メトキシ
ベンジル、４−メトキシフエニルジフェニルメチル、２
−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベ
ンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、ビ
ス（２−ニトロフェニル）メチル、ビペロニルのような
低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シ
アノ基でアリール環が置換されたｌ乃至３個のアリール
基で置換された低級アルキル基等のアラルキル基；メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコ
キシカルボニル基、２，２゜２−トリクロロエトキシカ
ルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルの
ようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換さ
れた低級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニルのようなアルケニルオキシカルボニル基；ベンジル
オキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、３．４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベン
ジルオキシカルボニルのような、■乃至２個の低級アル
コキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよ
いアラルキルオキシカルボニル基のような反応における
保護基及びピバロイルオキシメチルオキシカルボニルの
ような生体に投与する際のプロドラッグ化のための生体
内で加水分解され易い保護基を挙げることができ、好適
には、脂肪族アシル基及び芳香族アシル基であり、更に
、好適には脂肪族アシル基である。置換基群Ａの定義における、「置換されたアミン基」と
は、下記の置換基が１又は２個アミノ基を置換している
基を示し、該置換基としては、例えば、前記「低級アル
キル基」　：前記「低級アルコキシ基」、２−メトキシ
エトキシのような低級アルコキシ化低級アルコキシ基、
２．２．２−トリクロロエトキシのようなハロゲン化低
級アルコキシ基等のアルキルオキシ基；ベンジルオキシ
、フェネチルオキシ、３−フェニルプロポキシ、α−ナ
フチル、メトキシ、β−ナフチルメトキシ、ジフェニル
メトキシ、トリフェニルメトキシ、α−ナフチルジフェ
ニルメトキシ、９−アンスリルメトキシのよりな１乃至
３個のアリール基で置換された低級アルコキシ基、４−
メチルベンジルオキシ、２，４．６−トリメチルベンジ
ルオキシ、３，４．５−トリメチルベンジルオキシ、４
〜メトキシベンジルオキシ、４−メトキシフエニルジフ
ェニルメトキシ、２−ニトロベンジルオキシ、４−ニト
ロベンジルオキシ、４−クロロベンジルオキシ、４−ブ
ロモベンジルオキシ、４−シアノベンジルオキシ、４−
シアノベンジルジフェニルメトキシ、ビス（２−ニトロ
フェニル）メトキシ、ビペロニルオキシのような低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアン基
でアリル環が置換されたｌ乃至３個のアリール基で置換
された低級アルコキシ基等のアラルキルオキシ基：水酸
基；ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒ
ドロキシプロピルのようなヒドロキシ置換低級アルキル
基：２−アミノエチル、３−アミノプロピルのようなア
ミノ置換アルキル基又はフェニル、４−トリル、４−メ
トキシフェニル、４−クロロフェニル、α若しくはβ−
ナフチルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲンで置換されていてもよいアリール基をあげることが
でき、好適には、低級アルキル基及び低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲンで置換されていてもよいアリー
ル基であり、更に好適には、低級アルキル基である。置換基群Ａの定義における、「保護されたアミノ基」と
は、下記の保護基が１又は２個アミノ基を保護している
基を示し、該保護基としては、通常アミノ基の保護基と
して使用するものであれば限定はないが、好適には、例
えば、前記「脂肪族アシル基」　；前記「芳香族アシル
基」　：前記「アルコキシカルボニル基」　：前記「ア
ルケニルオキシカルボニル基」　；前記「アラルキルオ
キシカルボニル基」　：前記「シリル基」及び前記「ア
ラルキル基」を挙げることができ、更に好適には、脂肪
族アシル基、芳香族アシル基及びシリル基である。置換基群Ａの定義における、「保護されたメルカプト基
」の「保護基」としては、通常メルカプトの保護に用い
られるものであれば限定はないが、好適には、前記「脂
肪族アシル基」及び前記「芳香族アシル基」である。置換基群Ａの定義における、「ハロゲン原子」としては
、弗素、塩素、臭素又は沃素を示す。本発明の化合物（Ｉ）は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩
、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素
酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩：メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン
酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−ｔ−ルエンスルホ
ン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、
コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン
酸塩等の有機酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸
塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。本発明の化合物（Ｉ）は、分枝内に不斉炭素を有し、各
々が　Ｒ配位、Ｓ配位である立体異性体が存在するが、
その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包
含される。本発明の化合物＋Ｉ＋　において、好適な化合物として
は、（１）Ｒ’　、Ｒ”　、Ｒ”及びＲ４が、同−又は異な
って、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
保護された水酸基、保護されたアミノ基又はハロゲン原
子である化合物＋２）Ｒ’　、Ｒ”　、Ｒ”及びＲ４が、同−又は異な
って、水素原子、炭素数１乃至３個のアルキル基、炭素
数１乃至３個のアルコキシ基、脂肪族アシルオキシ基、
脂肪族アシルアミノ基又はハロゲン原子である化合物Ｒ２又は／及びＲ３が、同−又は異なって、低級アルコ
キシ基である化合物Ｒ２又は／及びＲ３が、同−又は異なって、炭素数１乃
至３個のアルコキシ基である化合物Ｒ５が、水素原子又は低級アルキル基である化合物Ｒ’が、水素原子又は炭素数１乃至３個のアルキル基で
ある化合物Ｒ’が、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群Ａ
より選択される基で１乃至３個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Ａより選択される基で１乃
至３個置換されたアラルキル基又はヘテロアリール基で
ある化合物Ｒ６が、アリール基、下記置換基群Ａより選択される基
で１乃至３個置換されたアリール基、アラルキル基、下
記置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換された
アラルキル基である化合物（９）Ｒ’が、下記置換基群Ａより選択される基で１乃
至３個置換されたアリール基、下記置換基群Ａより選択
される基で１乃至３個置換されたアラルキル基である化
合物（１０１Ｒ’が、低級アルキル基、アリール基、下記置
換基群Ａ゛より選択される基で１乃至３個置換されたア
リール基、アラルキル基、下記置換基群Ａ゛より選択さ
れる基で１乃至３個置換されたアラルキル基又はヘテロ
アリール基である化合物（１１）　Ｒ’が、アリール基、下記置換基群Ａ°より
選択される基で１乃至３個置換されたアリール基、アラ
ルキル基、下記置換基群Ａ°より選択される基で１乃至
３個置換されたアラルキル基である化合物＋１２）　Ｒ’が、下記置換基群Ａ′より選択される基
で１乃至３個置換されたアリール基又は下記置換基群Ａ
°より選択される基で１乃至３個置換されたアラルキル
基である化合物（１３）　Ｒ’が、低級アルコキシ基又はハロゲン原子
で１乃至３個置換されたアリール又はアラルキルである
化合物（１４）　Ａが、硫黄原子又は−数式ＮＲ’で表される
基（式中、Ｒ７は、水素原子又は低級アルキル基を示す
、）である化合物（１５）　Ａが、硫黄原子又は−数式ＮＲ’で表される
基（式中、Ｒ７は、水素原子又は炭素数１乃至３個のア
ルキル基を示す、）である化合物ｆ１６１　Ａが、硫黄
原子又は−数式ＮＨで表される基である化合物「置換基群Ａ」低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基「置換基群Ａ’　Ｊ低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子本発明の代表的化合物としては、例えば、第１表に記載
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。尚、表中、ｐｈはフェニル基、Ｂｚはベンジル基、Ｐｙ
　（Ｐｙ−３−はピリジル基の３位で結合する基を示す
）はピリジル基を示す。き１」−ｊく例示化合物４−Ｃ１，０Ｐｈ− ４−にＨ−ＯＢＺ− ４−Ｃ，ＨｍＯＰｈ− ４−（：ＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，ＯＰｈ− ４−ＣＨｓＯＢｚ− ４−Ｃ−ＨｍＯＰｈ− ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，ＱＰｈ− ４−ＣＨｓＯＢｚ− ４−ＣＪｓＯＰｈ− ４−ＣＩＨＩＯＢＺ− ４−ＣＨ，ＯＰｈ− 例示化合物Ｈ４−ＣＨ，０Ｂｚ− Ｈ４−Ｃ，Ｈ，０Ｐｈ− ＣＨｓ　　　４−ＣＪｓＯＢｚＣ，ＨＩ　　４−ＣＨｌＯＰｈ− ＣＨｘ　３，４，５ｔｒｉＣＨ，０Ｐｈ−ＣＨ□　　４
−ＣｔＨ，０Ｐｈ− ＣＪｓ　　４−ＣｘＨｓＯＢｚ− Ｃ，Ｈ，４−ＣＨ，０Ｐｈ− ＣＨ，４−ＣＨ，０Ｂｚ− ＣｔＨｓ　　４−Ｃ□Ｈ，０Ｐｈ− ＣＪｔ　　４−ＣＪｉＯＢｚ− ＣＨ，４−（：Ｈ，０ＰｈＣＪｓ　　４−（：ＨｚＯＢｚ− ＣｔＬ　　４−ＣオＨ，０Ｐｈ− ＣＨ３４−ＣＪｓＯＢｚＣ，Ｈ，４−ＣＨ，０Ｐｈ− ＣＩＨＴ　　４−ＣＨＪＢｚＨ４−ＦＰｈ− Ｈ４−ＣＩＰｈ− Ｈ２，３−ｄｉＦＰｈ− Ｈ３，４−ｄｉＦＰｈ− Ｈ３，５−ｄｉＦＰｈ− Ｈ’　　　２．３−ｄｉＣＩＰｈ− Ｈ３，４−ｄｉＣＩＰｈ− Ｈ３，５−ｄｉＧＩＰｈ− 例示化合物２．３．４−ｔｒｉＦＰｈ−０３，４，５−ｔｒｉＦＰｈ−Ｓ２、３．４−ｔｒｉＣＩＰｈ−Ｓ３、４．５−ｔｒｉＣＩＰｈ−５４−ＦＢｚ−５４−ＣＩＢｚ−０２，３−ｄｉＦＢｚ−Ｓ３４−ｄｉＦＢｚ−Ｓ３．５−ｄｉＦＢｚ−Ｓ２３−ｄｉＣＩＢｚ−０３，４−ｄｉＣＩＢｚ−Ｓ３．５−ｄｉＣＩＢｚ−Ｓ２．３，４−ｔｒｉＦＢｚ−Ｓ３４．５−ｔｒｉＦＢｚ−Ｓ２、３．４−ｔｒｉＣＩＢｚ−Ｓ３．４．５−ｔｒｉｃｌＨｚ−０４−（：Ｈ，０Ｐｈ−ＮＨ４−ＣＨｌＯＢｚ−ＮＨ４−Ｃ，ＨｓＯＰｈ−■ ４−（：ＪｓＯＢｚ−ＮＨ４−ＣＨ，０Ｐｈ−間４−ＣＨ，０Ｂｚ−ＮＨ４−Ｃ，ＨｌｏＰｈ−■ ４−Ｃ，Ｈ，０Ｂｚ−ＮＨ４−ＣＨ，０Ｐｈ−冊例示化合物Ｒ５Ｒ６Ｈ４−ＣＨ，０Ｂｚ−Ｎ）ＩＨ４−（：、Ｈ，０Ｐｈ−■ Ｈ３，４，５ｔｒｉＣＬＯＰｈ−ＱＨ４−ＣＨ，０Ｐｈ−ＮＨＨ４−ＣＨｘＯＢｚ−ＱＨ４−Ｃ，Ｈ，０Ｐｈ−ＮＨＣＨ，４−Ｃ，Ｈ，０Ｂｚ−ＮＨＨ２−ＣＨ，０−Ｐｙ−５−ＮＨＨ２，６−ｄｚｃＨｚＯ−Ｐｙ−３−ＮＨＣＨｘ　　　
４−ＣＪｓＯＰｈ−冊ＣＪＳ　　４−ＣＪｓＯＢｚ−ＮＨＣｓＨｔ　　４−ＣＨｌＯＰｈ−冊（：Ｈ，４−ＣＨｘＯＢｚ−ＮＨＨ６−ＣＩ−Ｐｙ−２−＋１ｔ’ＨＣｘＨｔ　　４−ＣＪａＯＢｚ−ＮＨＣＨｘ　　　４−ＣＨｌＯＰｈ−ＮＨＣ，Ｈ，４−ＣＨ，０Ｂｚ−ＮＨＣＪｔ　　４−Ｃ，Ｈ，０Ｐｈ−ＮＨＣＨｓ　　　４−ＣｔＨｓＯＢｚ−間ＣＪｓ　　４−ＣＨ，０Ｐｈ−冊Ｃ−Ｈア　４−ＣＨｓＯＢｚ−Ｆｉｌ（Ｈ４−ＦＰｈ−
Ｎｉ１Ｈ４−ＣＩＰｈ−ＮＨＨ２，３−ｄｉＦＰｈ−冊Ｈ３，４−ｄｉＦＰｈ−■ 例示化合物ｏｔ３５−ｄｉＦＰｈ−ＮＨ２３−ｄｉｃＩＰｈ−冊３４−ｄｉＣＩＰｈ−ＮＨ３５−ｄ工ＣｌＰｈ−■ ２．３．４−ｔｒｉＦＰｈ−ＮＨ３，４，５−ｔｒｉＦＰｈ−ＮＨ２、３，４−ｔｒｉｃｌＰｈ−ＮＨ３、４，５−ｔｒｉ（：ＩＰｈ−ＮＨ４−ＦＢｚ−ＮＨ４−ＣＩＢｚ−ＮＨ２３−ｄｉＦＢｚ−冊３４−ｄｉＦＢｚ−ＮＨ３５−ｄｉＦＢｚ−ＮＨ２３−ｄｉＣＩＢｚ−ＮＨ３４−ｄｉＣＬＢｚ−ＮＨ３５−ｄｉ（：１Ｂｚ−■ ２、３．４−ｔｒｉＦＢｚ−ＮＨ３，４，５−ｔｒｉＦＢｚ−Ｆｉｌ２、３．４−ｔｒｉｃｌＢｚ−ＭＢ２、４．５−ｔｒｉｃＩＢｚ−Ｎｌ（４−ＣＨ，０Ｂｚ−５４−Ｃ，Ｈ，０Ｐｈ−５４−ＣＪｓＯＢｚ−Ｓ４−ＣＨ，０Ｐｈ−Ｏ４−ＣＨ，０Ｂｚ−Ｓ例示化合物 ■ ■ ＣＨ。Ｃ，Ｈ。Ｃ，ＨアＣＨ。Ｃ，Ｈ。Ｃ，ＨアＣＨ。Ｃ，Ｈ。Ｃ，Ｈ。ＣＨ□ Ｃ，Ｈ。Ｃ，ＨアＣＨ。 −Ｈ５Ｃ，Ｈ。４−Ｃ２Ｈ，０Ｐｈ− ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ− ４−ＣＨｚＯＢｚ４−Ｃ，Ｈ８０Ｐｈ− ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ− ４−ＣＨ，０Ｂｚ− ４−（：、ＨｓＯＰｈ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ− ４−ＣＨｉＯＢｚ− ４−ＣＪ、０Ｐｈ− ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ− ４−ＣＨｚＯＢｚ− ４−ＣＩＨ，０Ｐｈ− ４−ＣｉＨｓＯＢｚ４−ＣＨ，０Ｐｈ４−ＣＨ，０Ｂｚ− ４−Ｃ１Ｈ，０Ｐｈ− ４−ＣｘＨ＠０ＢＺ４−（：Ｈ，０Ｐｈ４−ＣＨ，ＯＢｚ −ＦＰｈ− 例示化合物４−ＣＩＰｈ−Ｓ２３−ｄｉＦＰｈ−Ｓ３４−ｄｉＦＰｈ−０３５−ｄｉＦＰｈ−Ｓ２３−ｄｉＣＩＰｈ−Ｓ３４−ｄｉＣＩＰｈ−Ｓ３５−ｄｉＣＩＰｈ−Ｓ２．３．４−ｔｒｉＦＰｈ−０３，４，５−ｔｒｉＦＰｈ−Ｓ２、３．４−ｔｒｉＣＩＰｈ−Ｓ３．４．５−ｔｒｉｃｌＰｈ−Ｓ４−ＦＢｚ−５４−ＣＩＢｚ−０２３−ｄｉＦＢｚ−Ｓ３４−ｄｉＦＢｚ−Ｓ３５−ｄｉＦＢｚ−Ｓ２３−ｄｉＣＩＢｚ−０３４−ｄｉＣＩＢｚ−Ｓ３５−ｄｉＣＩＢｚ−Ｓ２．３．４−ｔｒｉＦＢｚ−Ｓ３．４．５−ｔｒｉＦＢｚ−Ｓ２．３．４−ｔｒｉｃｌＢｚ−Ｓ３４．５−ｔｒｉｃＩＢｚ−０４−ＣＨｓＯＢｚ−１０１４−ＣＪｓＯＰｈ−■ 例示化合物 ■ ＣＨ３Ｃ，Ｈ。Ｃ，Ｈ。ＣＨ。Ｃ，Ｈ。Ｃ，ＨアＨｓｚＨｓＣ，Ｈ。ＣＨ。Ｃ２ＨよＣ，ＨアＨｓ４−ＣＺＨ５ＯＢＺ− ４−Ｃ１，０Ｐｈ４−ＣＨ，０Ｂｚ４−Ｃ，Ｈ，０Ｐｈ４−ＣｔＨｓＯＢｚ− ４−ＣＨｚＯＰｈ４−ＣＨｓＯＢｚ− ４−（：Ｊ、０Ｐｈ− ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ４−ＣＨ，０Ｂｚ− ４−Ｃ，ｔＨ，ＯＰｈ＋−ＣＪｓＯＢｚ４−ＣＨ，０Ｐｈ４−ＣＨｘＯＢｚ４−Ｃ，ＨｓＯＰｈ４−ＣｚＨｓＯＢｚ４−Ｃ１，０Ｐｈ− ４−ＣＨｓＯＢｚ− ４−に２Ｈ，０Ｐｈ４−ＣＪｓＯＢｚ− ４−ＣＨ，０Ｐｈ− ４−ＣＨｘＯＢｚ４−ＣｆＨ，０Ｐｈ− ４−ＣｔＨｓＯＢｚ例示化合物４−ＣＨ，０Ｐｈ−冊４−ＣＨ，０Ｂｚ−Ｑ４−ＦＰｈ−冊４−ＣＩＰｈ−罷２３−ｄｉＦＰｈ−順３４−ｄｉＦＰｈ−間３５−ｄｉＦＰｈ−冊２３−ｄｉｃＩＰｈ−冊３４−ｄｉｃＩＰｈ−冊３５−ｄｉｃｌＰｈ−冊２．３．４−ｔｒｉＦＰｈ−ＮＨ３，４，５−ｔｒｉＦＰｈ−ＮＨ２、３，４−ｔｒｉｃｌＰｈ−Ｄ３、４．５−ｔｒｉｃｌＰｈ−Ｑ４−ＦＢｚ−間４−（：ＩＢｚ−邪２３−ｄｉＦＢｚ−Ｎ’Ｈ３４−ｄｉＦＢｚ−Ｎ’Ｈ３５−ｄｉＦＢｚ−ＮＨ２３−ｄｉＣＩＢｚ−ＮＨ３４−ｄｉＣＩＢｚ−Ｑ３５−ｄｉＣＩＢｚ−Ｑ２．３．４−ｔｒｉＦＢｚ−１０１３，４，５−ｔｒｉＦＢｚ−Ｑ２、３．４−ｔｒｉｃＩＢｚ−ＦＧＩ例示化合物Ｒ６ＡＨ ■ ＨＨＣＩ．０ ■ ■ ＣＨ．Ｏ ■ ｃｏｍａＣ｝１．０ＨＣＨ．ＯＣＩ．ＯＣＨ．Ｏ ■ ■ 『 ■ ＣＨ．ＯＨ ■ ｃｕｓｏＨＣＨ．０ＣＨ．ＨＨＣＨ．ロＨＨＣＨ．Ｏ ■ ＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨ ■ ■ ｃｕｓｏＨＨＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＨＣＩ．ＨＣＨ．ＯＨ ■ ＣＨ．ＯＨ ■ ＣＬＯＣＨ．Ｏ ■ ＣＨＩＯＣＨ．Ｏ ■ ｃｔｔｘｏＨＨＣＨ．Ｏ ■ ＨｃｏｎｏＨＨＣＨ．ＯＣＨ．０ ■ ＣＨ．ＯＨＨＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＨ ■ Ｃ｝ｆ．ＯＣＨ．ＯＣＨ？Ｏ ■ ＨＣＨ．ＯＨＨＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＨ３，　４．　５−ｔｒｉｃＩＢｚ−Ｎｕ４−ＣＨ．ＯＢ
ｚ−　　　　Ｓ４−Ｃ！Ｈ．ＯＰｈ−　　　Ｓ４−ＣｘＨｓＯＢｚ−　　　Ｓ４−ＣＨ．ＯＰｈ−　　　　０４−ＣＨ．ＯＢｚ−　　　　Ｓ４−ＣＪｓＯＰｈ−　　　Ｓ４−Ｃ＊ＨｓＯＢｚ−　　　Ｓ４−ＣＨ．ＯＰｈ−　　　　０４−ＣＨｉＯＢｚ−　　　　Ｓ４−Ｃ！Ｈ．ＯＰｈ−　　　ＳｆＣｔＨｉＯＢｚ−　　　Ｓ４−ＣＩ｛．ＯＰｈ−　　　　Ｓ４−ＣＨｉＯＢｚ−　　　　Ｓ４−Ｃ！ＨｓＯＰｈ−　　　Ｓ４−Ｃ．ＨＩＯＢＺ−　　　Ｓ４−ＣＩ．ＯＰｈ−　　　　０４−ＣＨ．ＯＢｚ−　　　　Ｓ４−ｃｚｕｓｏｐｈ−　　　　Ｓ４−ＣＪ．ＯＢｚ−　　　Ｓ４−（：Ｈ？ｏｐｈ−　　　　ｓ４−ＣＨｘＯＢｚ−　　　　０４−Ｃ．Ｈ．ＯＰｈ−　　　　Ｓ４−ＣｘＨ．ＯＢｚ−　　　Ｓ４−ＣＨ３０Ｐｈ−　　　　Ｓ例示化合物Ｒ６ＡＣＨ．ＯＨＣＩ．ＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＨＨＣＨ．ＯＨ ■ ＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＣ｝｛．ＯＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＣＨ３０ ■ ＨＨＨＣＨ．０ ■ ＣＨ．ＯＣＲ３０ＨＣＩ．ＯＣＨ３０ＨＨＣＨ．ＯＨ ■ ＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＣＲ．ＯＨｃｕｘｏＣＨ．ＯＨＨ ■ ＣＨ＊ＯＨＨＨＣＨ３０ＣＨ，ＯＨＣＨ．ＯＨＣＨＩＤＨＨＣＨｓＯＨＨＣＨ．ＯＣＨ３０ＨｃＨｓｏＣＨ．ＯＨｃｎ＊ｏＨ ■ ＣＨ．ＯＨ ■ ＣＨ．０ＨＣＩｈＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＣＨ．ＯＨＨＨＣＩ，ＯＣＲ．ＯＣ｝ｔ．０ＨＨＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＨＣＨ３０ＨＨＨＣＨ．０Ｃ．Ｈ．Ｃ．Ｈ７ＣＭ．Ｃ．Ｈ５Ｃ．Ｈア ■ Ｈ ■ ＨＨ ■ ＨＨＨＨＨ ■ ＨＨＣＨ．ＣｔＨ− ＣＪアＣＨ．Ｃ．Ｈ，ＣＪア４−ＣＨ．ＯＢｚ−　　　　０４−Ｃ．ＨＳＯＰｈ−　　　Ｓ４−Ｃ．Ｈ．ＯＢＺ−　　　Ｓ４−ｃｕｘｏｐｈ−　　　　Ｓ４−ＣＨｘＯＢｚ−　　　　０４−ＣＨ．ＯＰｈ−　　　　Ｓ２　３−ｄｉＦＰｈ−　　　　Ｓ３　４−ｄｉＦＰｈ−　　　０３　５−ｄｉＦＰｂ−　　　　Ｓ２　３−ｄｉＣＩＰｈ−　　　Ｓ３　４−ｄｉＣＩＰｈ−　　　Ｓ３　５−ｄｉＣＩＰｈ−　　　Ｓ２．３．４−ｔｒｉＦＰｈ−　０３，４．５−ｔｒｉＦＰｈ−　Ｓ２，　３．　４−ｔｒｉｃｌＰｈ−Ｓ３，４．５−ｔｒｉｃｌＰｈ−Ｓ４−ＦＢｚ−　　　　　　Ｓ４−ＣＩＢｚ−　　　　　　０２　３−ｄｉＦＢｚ−　　　　Ｓ３　４−ｄｉＦＢｚ−　　　　Ｓ３　５−ｄｉＦＢｚ−　　　　Ｓ２　３−ｄｉＣＩＢｚ−　　　０３　４−ｄｉＣＩＢｚ−　　　Ｓ３　５−ｄｉＣＩＢｚ−　　　Ｓ２，３．４−ｔｒｉＦＢｚ−　Ｓ例示化合物Ｒ６ＡＨＣＨ．ＯＨ ■ Ｈ ■ ＣＩ｛．０ ■ ■ ＣＩ．ＯＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＣＭ．ＯＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＨＨＨＣＨｓＯＨＨＣＨ．０ＣＩ．ＯＨＣＨ．Ｏ ■ ■ ＣＨ．ＯＨＨＣ｝１．０ＨＣＨ．ＯＨＣＢ．ＯｃｎｘｏＨｃｕｓｏＣＨ．ＯＨＨ ■ ＣＨ．ＯＨＨＣＨ３０ＨＨ ■ ＣＩ｛．０ ■ ＣＨ．ＯＨＨＣＨ．ＯＨＨＣＨ．ＯＣＨ．ＯＨＣＨＪＣＭ．ＱＨＣＨ．ＯＨＨＣＨ．０ ■ ＨＣＩ．ＯＨＨＣＨ．ＯＣＨａＯＨＣＩ．ＯＨＨＨＣＨ．Ｏｃｏｎｏｃｎａｏ ■ ＨＨＣＨ．ＯＣＨ．Ｏｃｉｉ＊ｏ ■ ■ ＣＩ｛．０ ■ ＨＨＣＨ．ＯＣＩ．ＯＣＨ．０３，４．５−ｔｒｉＦＢｚ−　Ｓ２，　３．　４−ｔｒｉＣＩＢｚ−　Ｓ３，　４．　５
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−ｔｒｉｃＩＰｈ−ＮＨ４−ＦＢｚ一　　　　　冊４−ＣＩＢｚ−　　　　冊２．３−ｄｉＦＢｚ−　　　Ｆｉｌ｛３．４−ｄｉＦＢｚ−　　　ＮＨ３，　５−ｄｉＦＢｚ一　　冊２．３−ｄｉＣＩＢｚ−　　ＮＨ３，４−ｄｉｃｌＢｚ一　　■ 例示化合物ＣＨ，ＯＣＨ，ＯＣＨ，ＯＣＨ，０ＣＨ，ＯＨ３０ＣＨ，ＯＣＨ，０（：）１．０ ■ ｘＨ− Ｃ，Ｈ。ＣＨ。（１：、Ｈ。ＣｓＨア３．５−ｄｉＣＩＢｚ−ＮＨ２，３，４−ｔｒｉＦＢｚ−Ｑ３．４．５−ｔｒｉＦＢｚ−ＮＨ２、３，４−ｔｒｉｃｌＢｚ−ＮＨ３、４，５−ｔｒｉｃＩＢｚ−Ｍｌ上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、１．３
．４．９．１６．１７．１８．１９．２４．３１．３３
．３４．３９．４６．４８．４９．５４．５５．５７．
５８．６３．６４．６６．７０．７１．７２．７３．７
７．７８．８５．８７．８８．９３．１００．１０２．
１０３．１０８．１１０．１１１．１１６．１２３．１
２５．１２６，１３１．１３８．１４０．１４１．１４
６．１５３．１５５．１５６．１６１，１６３．１６４
．１６９．１７６．１７８．１７９．１８４．１９１．
１９３．１９４．１９９．２０６．２０８．２０９．２
１４．２１６．２１７．２２２．２２９．２３１，２３
２．２３７．２４５．２４６．２５１．２５８．２６０
．２６１．２６６．２６８．２６９．２７４．２８１１
２８３．２８４．２８９．２９７．２９８．３０３．３
１０．３１２．３１３及び３１８の化合物を挙げること
ができる。更に、好適な化合物としては、１．１ｇ、５５、６６、
７０、７１．７２、７７、１１１．１１６、１４６、１５６．１６９及び１８４の化合物を挙げることができる。本発明のａ−スルフィニル置換アセトアミド誘導体は、
以下に記載する方法によって製造するこ上記式中、Ｒ１
、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５、Ｒ６及びＡは前記と同意義
であり、Ｘ及びＹは、同−又は異なって、塩素、臭素、
沃素のようなハロゲン原子；メタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニ
ルオキシ基ニトリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペ
ンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ
低級アルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシのようなアリ
ールスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。１エエ１は、酢酸の活性誘導体＋１１　とアミン化合物
（２）を、溶媒中、塩基の存在下又は非存在下に反応さ
せ、アセトアミド誘導体（３）を製造する工程である。使用される溶媒としては、反応に関与せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類：
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類：メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類ニジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類を挙げることができる。使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩：炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸水素塩：水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化
物等の無機塩基類又はトリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ピリジン、４−　（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）
ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアニリン、１．５−ジアザビシクロ［４，３，０］ノ
ナ−５−エン、１．４−ジアザビシクロ［２，２，２］
オクタン（ＤＡＢＣＯ）　、ｌ、ａ−ジアザビシクロ［
５，４，０］　ウンデク−７−エン（ＤＢＵＩのような
有機塩基類を挙げることができる。反応温度は、−２０℃乃至８０℃で行なわれるが、好適
には、０℃乃至５０℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常１乃至２０時間であ
る。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。１呈工１は、第１工程で製造したアセトアミド誘導体（
３）とメルカプタン誘導体（４）を、溶媒中、塩基の存
在下に反応させ、スルフィド化合物（５）を製造する工
程である。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類；メタノール、エ
タノール、ローブロバノールのようなアルコール類：ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類又はジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができる。使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば特に限定はないが、好適には
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのような
アルカリ土属炭酸水素塩：水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
のようなアルカリ金属水酸化物等の無機塩基類；ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカ
リ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモル
ホリン、ピリジン、４−　ｆＮ、　Ｎ−ジメチルアミノ
）ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエ
チルアニリン、■、５−ジアザビシクロ［４，３，０］
　ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，
２］オクタンｆＤＡＢｃｏ）　、ｔ、ａ−ジアザビシク
ロ［５，４，０］　ウンデク−７−エン（ＩＩＢＵＩの
ような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソ
プロピルアミドのような有機金属塩基類を挙げることが
できる。反応温度は０℃乃至１００℃で行なわれるが、好適には
、２０℃乃至６０℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常１乃至２０時間であ
る。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。第３工程は、第２工程で得られたスルフィド化合物の硫
黄原子を、溶媒中、酸化剤により酸化し、所望により、
Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及び／又はＲ６が、保護された
水酸基、保護されたアミノ基及び／又は保護されたメル
カプト基を有する場合には、その保護基を除去し、本発
明の目的化合物（６）を製造する工程である。主工程で使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、水：メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素類：酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類：メタノール、エタノール、ローブロ
バノール、イソプロパツールのようなアルコール類及び
酢酸のような有機酸を挙げることができる。使用される酸化剤としては、通常酸化に使用される酸化
剤であれば、特に限定はないが、好適には、過酸化水素
水：過酢酸、厘−クロル過安息香酸のような有機過酸類
；ｔ−ブチルハイドロパーオキシド−バナジウムｆＩＶ
ｌオキシーアセチルアセトナトのようなバナジウム錯体
：二酸化マンガンのような酸化マンガン類；クロム酸の
ようなりロム酸類ニクロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ビ
リジン錯体のようなりロム酸錯体類又は四酸化ルテニウ
ムのような酸化ルテニウム類のような無機過酸化物又は
亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素
酸塩類又はＤＭＳＯ酸化に使用される試薬（ジメチルス
ルホキシドとジシクロへキシルカルボジイミド、オキザ
リルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又は
ピリジン−無水硫酸の錯体）を挙げることができる。反応温度は０℃乃至１００℃で行なわれるが、好適には
、１０℃乃至５０℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常ｌ乃至２０時間であ
る。所望の工程である、保護基の除去はその種類によって異
なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法によ
って以下の様に実施される。水酸基の保護基が、シリル基の場合には、通常弗化テト
ラブチルアンモニウムのような弗素アニオンを生成する
化合物で処理することにより除去する０反応溶媒は反応
を阻害しないものであれば特に限定はないが、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適であ
る０反応温度及び反応時間は特に限定はないが、通常室
温でｌＯ乃至１８時間反応させる。水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキシ
カルボニル基である場合には、通常、還元剤と接触させ
ることにより除去することができる。例えば、パラジウ
ム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうことにより達成される０反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である０反応源度及び反応時間は出発物質及び使用す
る還元剤等によって異なるが、通常は０℃乃至室温で、
５分乃至１２時間である。又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノール
のようなアルコール中において、−７８℃〜−２０℃で
、金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることに
よっても除去できる。更に、塩化アルミニウムー沃化ナトリウム又は、トリメ
チルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド
類を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在
下に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ア
セトニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれら
の混合溶媒が使用される０反応源度は出発物質等によっ
て異なるが、通常は０℃乃至５０℃である。尚、好適には、塩化アルミニウムー沃化ナトリウムが用
いられる。水酸基及び／又はメルカプト基の保護基が、脂肪族アシ
ル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基であ
る場合には、溶媒の存在下に、塩基で処理することによ
り除去することができる。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないもの
であれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメトキ
シドのような金属アルコラード類、アンモニア水、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ
金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実
施される。使用される溶媒としては通常の加水分解反応
に使用されるものであれば特に限定はなく、水、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロパツールのようなアルコー
ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類のような有機溶媒又は水と有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及
び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副反
応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、ｌ乃
至１０時間である。水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基又は置換さ
れたエチル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理す
ることにより除去することができる。使用される酸とし
ては、好適には塩酸、酢酸−硫酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸又は酢酸等であるが、ダウエックス５０Ｗのような
強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができ・る。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールのような
アルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用い
る酸の種類等によって異なるが、通常は０℃乃至５０’
Ｃで、１０分乃至１８時間である。水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特にパラジウム
及びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカ
ルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少
な〈実施することができる。尚、上記のような水酸基及び／又はメルカプト基の保護
基を除去する操作によって、アミノ基の保護基が同時に
除去されることもある。上記の水酸基の保護基の除去反応、メルカプト基の保護
基の除去反応及びアミノ基の保護基の除去反応は、順不
同で希望する除去反応を順次実施することができる。アミノ基の保護基が、シリル基の場合には、前記水酸基
の保護基がシリル基の場合の除去反応と同様に行う。アミノ基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒
の存在下に酸又は塩基で処理することにより除去するこ
とができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水
素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分に影
響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又は濃アンモニアーメダノールを用い
て実施される。使用される溶媒としては通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水又は
水とメタノール、エタノール、ローブロバノールのよう
なアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が
好適である０反応部度及び反応時間は出発物質及び用い
る塩基等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑
制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、■乃至１０
時間である。アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、水酸基の保護基が、ア
ラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場
合の除去と同様にして行われる。アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル基
、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場
合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することに
より脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボ
ニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフ
ィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去
する方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができ
る。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される６例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィ

【効果】

ｉｎ　ｖｉｔｒｏにお　るＨ”　Ｋ”−ＡＴＰａｓｅブ
タの新鮮な胃底腺よりサッコマーニ（Ｓａｃｃｏｍａｎｉｌらの方法［Ｊ、Ｂｉｏｌ、（：
ｈｅａ＋、、　２５１巻。７６９０頁（１９７６年）〕に従い、調製したミクロゾ
ーム画分をＨ”、　Ｋ”−ＡＴＰａｓｅ酵素標本として
使用した。被験化合物をジメチルスルホキシドに溶解した液１０μ
２に、タンパク質量に換算して２０〜４０μｇの酵素標
本を含む４０ｍＭ）リス・酢酸緩衝液（２ｍＭ塩化マク
ネシウム、２０ｍＭ塩化カリウム、ｐＨ７−４１０，９
ｍｌを加え、３７℃で３００分間反応せた。酵素反応は
２゜ＩＩＭ　ＡＴＰ　４Ｎａ溶液０．１　＋＊ｌを加え
ることにより開始し、３７℃で８分間反応させた。　１
００　ｍｇの活性炭を含む１０％トリクロロ酢酸混液１
　　ｇｏｌを加え反応を停止させた０反応液を遠心分離
（３０００ｒｐｍ、　１５分）後、その上澄液中の無機
燐酸濃度を、フィスヶ・サバロウの方法［，１Ｂｉｏ１
．Ｃｈｅｍ、、　６６巻、３７５頁（１９２５年）］で
比比色量した。また２０＋ｍＭ塩化カリウム非存在下で
の反応液中の無機燐酸量も同様にして求め、２００１Ｍ
塩化カリウム存在下の量から差し引くことによりＨ゛、
に”−ＡＴＰａｓｅ活性を求めた。コントロール活性値と被験化合物各濃度に於ける活性値
から阻害率％を求め、Ｈ”、Ｋ”−ＡＴＰａｓｅに対す
る阻害率又は５０％阻害濃度ｆＩｃ、。）を求めた。その結果は下表にまとめた。以上のように、本発明の新規なα−スルフィニル置換ア
セトアミド誘導体は、優れたＨ”、　Ｋゝ−ＡＴＰａｓ
ｅ酵素阻害活性を有するので、胃酸分泌抑制作用及び抗
潰瘍作用を示し、且つ、毒性もないので、胃腸の治療剤
として有用である。本発明の化合物の投与形態としては、例えば、錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経
口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口投与を挙
げることができる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、
崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用い
て周知の方法で製造される。その使用量は症状、年齢等
により°異なるが、１日５０−２００　Ｉｇ／ｋｇ体重
を通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与す
ることができる。以下に、実施例をあげて本発明を更に具体的に説明する。２−メルカプトベンゾイミダゾール２．２ｇ及びｐ−メ
トキシフェニルクロルアセトアミド３．４ｇをメタノー
ル３０■ｌに溶解し、２８％ナトリウムメトキシド−メ
タノール溶液３．４ｇを水冷下滴加した。全体を室温にて１時間撹拌すると、結晶が析出するので
、濾過し、結晶を冷メタノール及び冷水にて洗滌し、ス
ルフィド体４ｇを得た。融点：２０６℃ 漿北逼１社得られたスルフィド体２．３ｇをメタノール：塩化メチ
レン（１：２）に溶解し、ｔ−ブチルハイドロパーオキ
シド２　ｍｌ及びバナジウム（１ｖ）オキシアセチルア
セトナート１００１１１ｇを加え、室温にて１５時間撹
拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をフラッシュクロマ
トグラフィ＝　（シリカゲル）に付し、塩化メチレンに
て溶出させ、目的化合物１ｇを得た。直進ａｔ虹得られたスルフィド体を、テトラヒドロフラン：塩化メ
チレン：メタノールｆ３［１：５［１：Ｉｓ）の溶液に
溶かし、■当量の１−クロル過安息香酸を用い、１０分
間酸化することにより、反応溶液中より結晶として、目
的化合物を８５％の単離収率で得た。融点＋　１６３−１６７℃　（分解）。ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ、重ジメチルホルムアミ
ド）δ　ｐｐｍ　：３、７４　（３Ｈ，ｓｌ　。４、２６　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝１２Ｈｚｌ　。４、４５　（１）［、ｄ、　Ｊ＝１２Ｈｚｌ　。６．６〜８．２　（８Ｈ，ｏ＋］　。Ｒｆ値＋　０．２５　（塩化メチレン：メタノール；２
０：Ｉ）。フェニルアセトアミド２−メルカプトベンゾチアゾール２６５ｇ及びｐ−メト
キシフェニルクロルアセトアミド３ｇをジメチルホルム
アミド：テトラヒドロフラン２５　ｍｌに溶解し、水冷下、７５０　ｍｇの５０％水
素化ナトリウムを加え、−夜撹拌した。酢酸エチルを加
え、水洗を３回した後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、
減圧上溶媒を留去し、結晶４ｇを得た。融点：１２７℃ Ｒｆ値：　０．４５　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
４：１）得られたスルフィド体３００　Ｂを塩化メチレ
ンに溶解し、ｔ−ブチルハイドロパーオキシドＱ−４　
１１１１及びバナジウム（ＩＶ）オキシアセチルアセト
ナート２０ｎａｇを加え、室温にて一夜撹拌後、溶媒を
減圧上留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー　
（シリカゲル）に付し、塩化メチレンにて溶出させ、目
的化合物１５０　ｍｇを得た。融点：　１７４−１７５℃　（分解）。ＮＭＲスペクトル（６０Ｈｚ，　ＧＤＣｌ．）　　δ　
ｐｐｍ　。３、　７５　ｆ３Ｈ，　ｓ）　。４、口ｆｌＨ．ｄ．Ｊ＝１５Ｈｚｌ　。４、　３２　（ＬＨ，　ｄ，　Ｊ＝１５Ｈｚ）　。６、８〜８．　２　ｆ８Ｈ．　＋ｍ）　。赤外吸収スペクトル（Ｎｕｊｏｌｌ　　ｖ　ｃ＋ｗ−１
＋１６７１、　［０５．　１５５０，　１５１０．　１
３７５，　１２２５。マススペクトル　園／ｅ：　３４６。１０４０。２−メルカプトベンゾイミダゾール１．２　ｇを６購ｌ
のジメチルホルムアミドに溶解し、水冷下、３８８ＩＩ
ｇの水素化ナトリウム（５０％）を加え、２０分間撹拌
した．　２．１　ｇの３．４．５−トリメトキシフェニ
ルクロルアセトアミドを加え、１時間室温で撹拌した。酢酸エチルを加え、水洗を３回した後、減圧上溶媒を留
去し、１．８ｇのカップリング体であるスルフィド体を
得た。融点：１７５℃ 得られたスルフィド体３７３　ｍｇを塩化メチレン２０
１ｔ１１に溶解し、■ークロル過安息香酸１５１　ｍｇ
を加え、室温にて４時間撹拌した。析出した結晶を濾過
し、水冷した塩化メチレン及びエーテルにて洗滌し、６
０　ｍｇの目的化合物を得た。融点：１８５℃ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ．重ジメチルホルムアミ
ド）δ　ｐｐｍ：３、　７０　［３Ｈ，　ｓｌ　。３、　７７　ｆ３Ｈ，　ｓｌ　。４、　２８　ｆｌＨ．　ｄ，　Ｊ＝１５Ｈｚ）　。４、５０　＋ＩＨ，ｄ．Ｊ＝１５Ｈｚ）　。７、０〜８．　２　（６Ｈ）　。２−メルカプトベンゾチアゾール１．８　ｇ及びα−ブ
ロモ−３．４．５−　トリメトキシフェニルプロピルア
ミド３．８ｇを、２５ｆｆ１１のジメチルホルムアミド
に溶解し、水冷下、６（１（ｌ　ｍｇの水素化ナトリウ
ム（５０％）を加えた．室温にて２時間攪拌後、酢酸エ
チルを加え、有機層を水で３回洗い、硫酸マグネシウム
にて乾燥後、減圧上溶媒を留去した．フラッシュカラム
クロマトグラフィーにて精製し．　Ｒｆ値０．５（シク
ロヘキサン：酢酸エチル＝１：ｌ）に対応する部分から
カップリング体であるスルフィド体２．８ｇを得た。得られたスルフィド体２．３ｇを、塩化メチレン１００
　ｍｌ及びメタノール１０　ｍｌに溶解し、水冷下、１
、５２　ｇの燻−クロル過安息香酸を加え、室温にて５
時間撹拌した．炭酸水素ナトリウム水、次いで、水にて
洗滌した後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧上溶
媒を留去し、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーに付し、Ｒｆ値（Ｃ２５　（シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝１：ｌ）の部分より、目的化合物１．５ｇを得た
。融点：２１５℃（分解）ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１．十重メタ
ノール）δ　ｐｐｍ　：１、６４ｆ３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。４、６３（ＩＨ，ｑ．Ｊ＝７Ｈｚ）。３、７５　ｆ３Ｈ，ｓ）　。３．７２ｆ３Ｈ，ｓ　　Ｘ２）。７．２〜７．９　（６１（）　。２−メルカプトベンゾイミダゾール１９５　ｒａｇ及び
（２，６−ジメトキシ）ピリジン−３−イルクロルアセ
トアミド３００　ｗＩｇを、５　＋ｓｌのジメチルホル
ムアミドに溶解し、水冷下、６２　ｍｇの水素化ナトリ
ウム（５０％）を加えた。室温にて３時間撹拌後、酢酸
エチルを加え、有機層を水で３回洗った。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、フラッシュカラム
クロマトグラフィーにて精製し、Ｒｆ値０．６（塩化メ
チレン：酢酸エチル＝２：ｌ）に対応する部分よりカッ
プリング体であるスルフィド体３（１０１１ｇを得た。得られたスルフィド体３００　ｍｇを塩化メチレン５社
に溶解し、水冷下、１５１　ｍｇの閤−クロル過安息香
酸を加えた。室温にて１５時間撹拌後、結晶が析出した
。結晶を濾過し、水冷した塩化メチレン及びエーテルに
て洗滌し、目的化合物１６０　ｍｇを得た。融点：　１８１　”Ｃ（分解）ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ、重ジメチルホルムアミ
ド十重メタノール）δ　ｐｐｍ　：３、８２　ｆ３Ｈ，ｓｌ　。３、８５　ｆ３Ｈ，ｓｌ　。４、０１　ｆ２Ｈ，ｂｒｓｌ　。６、２７　ｆｌＨ，ｄ、　Ｊ：８Ｈｚｌ　。Ｌ　１９　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）　。７、１−８．０　（４Ｈ，ｍ）　。２−メルカプトベンゾイミダゾール２２４　ｍｇ及び（
６−メトキシ）ピリジン−３−イルクロルアセトアミド
３００　ｍｇを、４　ｍｌのジメチルホルムアミドに溶
解し、水冷下、９０　ｍｇの水素化ナトリウム（５０％
）を加え、室温にて５時間撹拌した。酢酸エチルを加え
、有機層を３回水洗した後、硫酸マグネシウムにて乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、塩化メチレン：酢酸エチル
（１：１）にて、Ｒｆ値０．３に対応する部分をシリカ
ゲル分取ＴＬＣにて分離精製し、カップリング体である
スルフィド体３００　Ｂを得た。融点：２２７℃ 得られたスルフィド体、１５０　ｔａｇを５　ｍｌのテ
トラヒドロフランに溶解し、０．２３　ｍｌのｔ−ブチ
ルハイドロパーオキシドついで３８　ｍｇのバナジウム
（ｉｖ）オキシアセチルアセトナートを加え、室温にて
１５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲル分取ＴＬＣに付し、Ｒｆ（１０，１（酢酸エチル）
に対応する目的化合物を４５　ｍｇ得た。融点：１６３℃ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ、重ジメチルスルホキシ
ド）　δ　ｐｐｍ　　：３、８３　（３Ｈ，ｓｌ　。４、３９　（２Ｈ，ｂｒｓｌ　。６．６〜８．３　（７１（、■）。赤外吸収スペクトル（Ｎｕｊｏｌｌ　ｙ　ｃ＋ｓ−１：
１６４０゜１４６０゜１３７５゜１０４０゜

Claims

【特許請求の範囲】（１）

【請求項１】一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は、同一又は異なっ
て、水素原子又は下記置換基群Ａより選択される基を示
し、Ｒ＾５は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を
示し、Ｒ＾６は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群
Ａより選択される基で１乃至３個置換されたアリール基
、アラルキル基、下記置換基群Ａより選択される基で１
乃至３個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又
は下記置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換さ
れたヘテロアリール基を示し、Ａは、酸素原子、硫黄原子又は一般式ＮＲ＾７で表され
る基（式中、Ｒ＾７は、水素原子又は低級アルキル基を
示す。）を示す。］で表わされる化合物及びその塩。「置換基群Ａ」低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル（２）
【請求項２】一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は、同一又は異なっ
て、水素原子又は下記置換基群Ａより選択される基を示
し、Ｒ＾５は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を
示し、Ｒ＾６は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群
Ａより選択される基で１乃至３個置換されたアリール基
、アラルキル基、下記置換基群Ａより選択される基で１
乃至３個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又
は下記置換基群Ａより選択される基で１乃至３個置換さ
れたヘテロアリール基を示し、Ａは、酸素原子、硫黄原子又は一般式ＮＲ＾７で表され
る基（式中、Ｒ＾７は、水素原子又は低級アルキル基を
示す。）を示す。］で表わされる化合物及びその塩。「置換基群Ａ」低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基