JPH04139716A - Ｘ線露光方法及びその装置 - Google Patents
Ｘ線露光方法及びその装置Info
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- JPH04139716A JPH04139716A JP2260483A JP26048390A JPH04139716A JP H04139716 A JPH04139716 A JP H04139716A JP 2260483 A JP2260483 A JP 2260483A JP 26048390 A JP26048390 A JP 26048390A JP H04139716 A JPH04139716 A JP H04139716A
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- ray
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、主としてＳＯＲ（シンクロトロン放射光；
５７ｎｃｈｒｏＨｏｎ Ｏ＋ｂｉｌｘｌ ｌｌａｄ口ｔ
ｉｏｎ ）を利用した露光装置に好適するＸ線露光方法
及びその装置に関する。
５７ｎｃｈｒｏＨｏｎ Ｏ＋ｂｉｌｘｌ ｌｌａｄ口ｔ
ｉｏｎ ）を利用した露光装置に好適するＸ線露光方法
及びその装置に関する。
（従来の技術）
光速に近い速度で運動する電子が、その進行方向を磁場
や電場などで曲げられるとき、軌道の接線方向に発生す
る光をＳＯＲと呼ぶ。ところで、近時、このＳＯＲをＸ
線リソグラフィーに用いる研究が活発化している。この
Ｘ線リソグラフィーに用いられるＳＯＲは、０．４〜５
、Ｄａｍの波長領域にあって、いわゆる軟Ｘ線をなして
いる。この軟Ｘ線を用いるＸ線リソグラフィーは、高分
解能でアスペクト比（高さ７幅）の大きい微細パターン
をウェハに転写するもので、各種Ｘ線リソグラフィーシ
ステムが各所で開発されている。その一つにＳＯＲをで
きるだけ多く取り込み、さらに、Ｘ線ミラーで垂直方向
に拡大して、Ｘ線露光を能率的に、すなわち高スループ
ツトで実現させようとするものである。たとえば、Ｘ線
ミラーを、シリンドリカルやトロイダル形状にすること
により、取り込むＸ線エネルギーを多（シ、極力、半影
ぼけと称する転写精度阻害要因を小さくしている。
や電場などで曲げられるとき、軌道の接線方向に発生す
る光をＳＯＲと呼ぶ。ところで、近時、このＳＯＲをＸ
線リソグラフィーに用いる研究が活発化している。この
Ｘ線リソグラフィーに用いられるＳＯＲは、０．４〜５
、Ｄａｍの波長領域にあって、いわゆる軟Ｘ線をなして
いる。この軟Ｘ線を用いるＸ線リソグラフィーは、高分
解能でアスペクト比（高さ７幅）の大きい微細パターン
をウェハに転写するもので、各種Ｘ線リソグラフィーシ
ステムが各所で開発されている。その一つにＳＯＲをで
きるだけ多く取り込み、さらに、Ｘ線ミラーで垂直方向
に拡大して、Ｘ線露光を能率的に、すなわち高スループ
ツトで実現させようとするものである。たとえば、Ｘ線
ミラーを、シリンドリカルやトロイダル形状にすること
により、取り込むＸ線エネルギーを多（シ、極力、半影
ぼけと称する転写精度阻害要因を小さくしている。
しかしながら、ミラー形状をシリンドリカルやトロイダ
ル形状にすると、−様な露光強度が得られない難点を有
している。そのため、露光面上でＸ線強度が一様でない
場合は、いわゆる露光むらが発生し、転写精度が悪化す
る。
ル形状にすると、−様な露光強度が得られない難点を有
している。そのため、露光面上でＸ線強度が一様でない
場合は、いわゆる露光むらが発生し、転写精度が悪化す
る。
（発明が解決しようとする課題）
以上のように、Ｘ線露光を高スループツトで実現するた
めに、ＳＯＲを反射するミラーの形状をシリンドリカル
やトロイダル形状にすると、様な露光強度が得られない
問題が生ずる。
めに、ＳＯＲを反射するミラーの形状をシリンドリカル
やトロイダル形状にすると、様な露光強度が得られない
問題が生ずる。
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので、露光む
らがなく、転写精度が良好なＸ線露光方法及びその装置
を目的とする。
らがなく、転写精度が良好なＸ線露光方法及びその装置
を目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段と作用）
本発明は、ＳＯＲ光源から放射され、且つ、Ｘ線反射ミ
ラーにて平行なＸ線ビームとなるＸ線の光路上に、スリ
ット状開口を有する光量調整板を設け、この光量調整板
の開口形状を、長手方向中央部の幅が両側部の幅よりも
小さくなるように調整したもので、被露光体上における
Ｘ線ビームの照射量をＳＯＲのＸ線反射ミラーへの入射
位置にかかわらず一定にすることができる。
ラーにて平行なＸ線ビームとなるＸ線の光路上に、スリ
ット状開口を有する光量調整板を設け、この光量調整板
の開口形状を、長手方向中央部の幅が両側部の幅よりも
小さくなるように調整したもので、被露光体上における
Ｘ線ビームの照射量をＳＯＲのＸ線反射ミラーへの入射
位置にかかわらず一定にすることができる。
また、光量調整板の開口量を調整自在として、ミラー揺
動手段によるＸ線反射ミラーの揺動角変化に同期して光
量調整板の開口量を調整するようにしたので、Ｘ線反射
ミラーの揺動角変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビー
ムの照射量変化を解消させることができる。
動手段によるＸ線反射ミラーの揺動角変化に同期して光
量調整板の開口量を調整するようにしたので、Ｘ線反射
ミラーの揺動角変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビー
ムの照射量変化を解消させることができる。
さらに、ミラー揺動手段によりＸ線反射ミラーの揺動速
度を変化させることにより、Ｘ線のＸ線反射ミラーに対
する斜め入射角の変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビ
ームの照射量変化を解消させることができる。
度を変化させることにより、Ｘ線のＸ線反射ミラーに対
する斜め入射角の変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビ
ームの照射量変化を解消させることができる。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図は、この実施例のｘ＊ｉｇ光装置を示している。
このＸ線露光装置は、５ＯＲ（１）を放射するＳＯＲ光
源（２）と、このＳＯＲ光源（２）から放射された５Ｏ
Ｒｆｌ）を入射して平行なＸ線ビーム（３）に変換する
Ｘ線反射ミラー（４）と、このＸ線反射ミラー（４）を
矢印（５）方向に揺動させるミラー揺動手段（６）と、
ＳＯＲ光源（２）とＸ線反射ミラー（４）との間に配設
され５ＯＲ（１）の放射量を規制する光量調整板（７）
と、上記Ｘ線反射ミラー（４）にて反射したＸ線ビーム
（３）を入射する位置にてＸ線マスク（８）及びＸ線ビ
ーム（３）により露光されるレジスト（Ｒ）を被着しだ
ウェーハ（９）を位置決め自在に保持するステッパ（１
０）と、一端部がＳＯＲ光源（２）に連結され内部にＸ
線反射ミラー（４）及び光量調整板（７）を超高真空（
ＩＱ −９Ｔ。
源（２）と、このＳＯＲ光源（２）から放射された５Ｏ
Ｒｆｌ）を入射して平行なＸ線ビーム（３）に変換する
Ｘ線反射ミラー（４）と、このＸ線反射ミラー（４）を
矢印（５）方向に揺動させるミラー揺動手段（６）と、
ＳＯＲ光源（２）とＸ線反射ミラー（４）との間に配設
され５ＯＲ（１）の放射量を規制する光量調整板（７）
と、上記Ｘ線反射ミラー（４）にて反射したＸ線ビーム
（３）を入射する位置にてＸ線マスク（８）及びＸ線ビ
ーム（３）により露光されるレジスト（Ｒ）を被着しだ
ウェーハ（９）を位置決め自在に保持するステッパ（１
０）と、一端部がＳＯＲ光源（２）に連結され内部にＸ
線反射ミラー（４）及び光量調整板（７）を超高真空（
ＩＱ −９Ｔ。
＋＋）にて格納するビームライン案内筒（１１）とから
なっている。しかして、ＳＯＲ光源（２）は、超伝導蓄
積リングであって、内部に磁石（偏向磁石、４極磁石）
や高周波加速空洞を有し、５ＯＲ（＋１を、超伝導蓄積
リング内での電子の軌道面上にて、その軌道の接線方向
に放射するように設けられている。この超伝導蓄積リン
グ内は、超高真空（１０’Ｔｏｒｅ）に維持されている
。一方、ビームライン案内筒（１１）のステッパ（１０
）側の他端部には、Ｂｅ（ベリリウム）窓（１２）が取
付けられている。そして、このビームライン案内筒（１
１）の内壁部に光量調整板（７）が取付けられている。
なっている。しかして、ＳＯＲ光源（２）は、超伝導蓄
積リングであって、内部に磁石（偏向磁石、４極磁石）
や高周波加速空洞を有し、５ＯＲ（＋１を、超伝導蓄積
リング内での電子の軌道面上にて、その軌道の接線方向
に放射するように設けられている。この超伝導蓄積リン
グ内は、超高真空（１０’Ｔｏｒｅ）に維持されている
。一方、ビームライン案内筒（１１）のステッパ（１０
）側の他端部には、Ｂｅ（ベリリウム）窓（１２）が取
付けられている。そして、このビームライン案内筒（１
１）の内壁部に光量調整板（７）が取付けられている。
また、ビームライン案内筒（１１）の内壁部には、Ｘ線
反射ミラー（４）が、ミラー揺動手段（６）を介して取
付けられている。このＸ線反射ミラー（４）は、シリン
ドリカル・ミラーであって、その光軸方向は、シリンド
リカル面（４１）に入射した５ＯＲ（１）を平行なＸ線
ビーム（３）に変換することができるように設けられて
いる。そして、ミラー揺動手段（６）による揺動方向は
、揺動中心が曲率半径がＲのシリンドリカル面（４Ｉ）
上にあり、且つ、この揺動中心を通る揺動面上にＸ線反
射ミラー（４）の光軸が存在するように設定されている
。このようなミラー揺動手段（６）は、サーボモータと
カム機構との組合わせからなっていて、Ｘ線反射ミラー
（４）の揺動角と揺動速度の両者の制御を行うことがで
きるように設けられている。さらに、光量調整板（７）
は、５ＯＲ（１）の発散に基因する垂直方向の広がり（
第２図参照）を例えば０．５ｍ＋ｘｄに押さえるための
ものであって、長手方向が水平方向のスリット状の開口
（７１）が穿設されている。そして、この光量調整板（
７）は、その開口（７１）の長手方向が、前記超伝導蓄
積リング内での電子の軌道面上にあるように配設されて
いる。なお、この第２図に示しているように、５ＯＲ（
１１の垂直方向のエネルギー分布は、はぼガウス分布を
なしている。そして、この光量調整板（７）の開口（７
８）形状は、第３図に示すように、上下辺が円弧状に中
心側に突出している。この円弧状の上下辺は、光量調整
板（７）に密接して設けられ上下方向に微動自在な一対
の開閉板（Ｎｇ）、 （１３ｂ）と、これら開閉板ｆｉ
Ｉ）、 （１３ｂ）をミラー揺動手段（６）によるＸ線
反射ミラー（４）の揺動角に応じて開閉させる光量調整
板開口量調整手段（１４）とにより形成される。この光
量調整板開口量調整手段（１４）は、ミラー揺動手段（
６）に電気的に接続され、このミラー揺動手段（６）か
らの揺動制御信号に基づいて開閉板（１３り、 （１３
ｂ）を上下方向に微動させ、光量調整板（７）の開口量
を調整するようになっている。他方、Ｂｅ窓（１２）は
、第１図に示すように、円形の通孔（１５）が穿設され
た例えば鉛製の円板（１６）と、この円板（１６）に一
体的に接合され通孔（１５）を完全に閉塞するＢｅ膜（
１７）とからなっている。
反射ミラー（４）が、ミラー揺動手段（６）を介して取
付けられている。このＸ線反射ミラー（４）は、シリン
ドリカル・ミラーであって、その光軸方向は、シリンド
リカル面（４１）に入射した５ＯＲ（１）を平行なＸ線
ビーム（３）に変換することができるように設けられて
いる。そして、ミラー揺動手段（６）による揺動方向は
、揺動中心が曲率半径がＲのシリンドリカル面（４Ｉ）
上にあり、且つ、この揺動中心を通る揺動面上にＸ線反
射ミラー（４）の光軸が存在するように設定されている
。このようなミラー揺動手段（６）は、サーボモータと
カム機構との組合わせからなっていて、Ｘ線反射ミラー
（４）の揺動角と揺動速度の両者の制御を行うことがで
きるように設けられている。さらに、光量調整板（７）
は、５ＯＲ（１）の発散に基因する垂直方向の広がり（
第２図参照）を例えば０．５ｍ＋ｘｄに押さえるための
ものであって、長手方向が水平方向のスリット状の開口
（７１）が穿設されている。そして、この光量調整板（
７）は、その開口（７１）の長手方向が、前記超伝導蓄
積リング内での電子の軌道面上にあるように配設されて
いる。なお、この第２図に示しているように、５ＯＲ（
１１の垂直方向のエネルギー分布は、はぼガウス分布を
なしている。そして、この光量調整板（７）の開口（７
８）形状は、第３図に示すように、上下辺が円弧状に中
心側に突出している。この円弧状の上下辺は、光量調整
板（７）に密接して設けられ上下方向に微動自在な一対
の開閉板（Ｎｇ）、 （１３ｂ）と、これら開閉板ｆｉ
Ｉ）、 （１３ｂ）をミラー揺動手段（６）によるＸ線
反射ミラー（４）の揺動角に応じて開閉させる光量調整
板開口量調整手段（１４）とにより形成される。この光
量調整板開口量調整手段（１４）は、ミラー揺動手段（
６）に電気的に接続され、このミラー揺動手段（６）か
らの揺動制御信号に基づいて開閉板（１３り、 （１３
ｂ）を上下方向に微動させ、光量調整板（７）の開口量
を調整するようになっている。他方、Ｂｅ窓（１２）は
、第１図に示すように、円形の通孔（１５）が穿設され
た例えば鉛製の円板（１６）と、この円板（１６）に一
体的に接合され通孔（１５）を完全に閉塞するＢｅ膜（
１７）とからなっている。
つぎに、上記構成のＸ線露光装置を用いたこの実施例の
Ｘ線露光方法について述べる。
Ｘ線露光方法について述べる。
まず、ミラー揺動手段（６）よりＸ線反射ミラー（４）
を矢印（５）方向に揺動させる。つぎに、ＳＯＲ光源（
２）から５ＯＲ（１）をビームライン案内筒（１１）に
導入する。すると、５ＯＲ（１）は、光量調整板（７）
を通過したのち、Ｘ線反射ミラー（４）に入射する。そ
の結果、５ＯＲ（＋）は、このＸ線反射ミラー（４）に
より、平行なＸ線ビーム（３）に変換される。そして、
このＸ線ビーム（３）は、Ｂｅ窓（１２）を経由してス
テッパ（１０）に保持されたＸ線マスク（８）上に照射
され、このＸ線マスク（８）の所定のパターンに従った
Ｘ線ビーム（３）がつ工−ハ（９）上に被着されたレジ
スト（Ｒ）上に照射される。このとき、Ｘ線反射ミラー
（４）は、ミラー揺動手段（６）により矢印（５）方向
に揺動しているので、この揺動に応じて、Ｘ線ビーム（
３）も矢印（１８）方向に振動する。したがって、レジ
スト四日上におけるＸ線ビーム（３）の照射面積は拡大
する。
を矢印（５）方向に揺動させる。つぎに、ＳＯＲ光源（
２）から５ＯＲ（１）をビームライン案内筒（１１）に
導入する。すると、５ＯＲ（１）は、光量調整板（７）
を通過したのち、Ｘ線反射ミラー（４）に入射する。そ
の結果、５ＯＲ（＋）は、このＸ線反射ミラー（４）に
より、平行なＸ線ビーム（３）に変換される。そして、
このＸ線ビーム（３）は、Ｂｅ窓（１２）を経由してス
テッパ（１０）に保持されたＸ線マスク（８）上に照射
され、このＸ線マスク（８）の所定のパターンに従った
Ｘ線ビーム（３）がつ工−ハ（９）上に被着されたレジ
スト（Ｒ）上に照射される。このとき、Ｘ線反射ミラー
（４）は、ミラー揺動手段（６）により矢印（５）方向
に揺動しているので、この揺動に応じて、Ｘ線ビーム（
３）も矢印（１８）方向に振動する。したがって、レジ
スト四日上におけるＸ線ビーム（３）の照射面積は拡大
する。
ところで、５ＯＲ（１）のＸ線反射ミラー（４）のシリ
ンドリカル面（４１）上における入射位置は、第４図の
破線（１９）で示すように、Ｂｅ窓（１２）側が凸の円
弧状となる。この破線（１９）上の両側部および中央部
における位置（２０）、 （２１）、 （２２）におけ
る入射角θｌ、θ２．θ３は、一定ではなくそれぞれ異
なっている。つまり、両側部である位置（２０１，（２
１）の入射角θｌ、θ２は、中央部である位置（２２）
の入射角θ３よりも大きい。この場合、レジスト（ＲＪ
上におけるＸ線ビーム（３）の入射位置は、第４図の一
点鎖線（２３）で示すように、下側が凸の円弧状となる
。この−点鎖線（２３）上おける位置（２４）、 （２
５）、 （２６）は、前記位置（２０）、 （２１）、
（２２）に各別に対応している。そこで、レジスト（
Ｒ１上におけるＸ線ビーム（３）の強度を調べてみると
、第５図に示すように、−点鎖線（２３）上の中央部で
ある位置（２６）の強度が、−点鎖線（２３）上の両側
部である位置（２４）、（２５）の強度よりも高いこと
がわかる。これは、Ｘ線反射ミラー（４）のシリンドリ
カル面（４１）上における入射位置（２０）、 （２１
）、 （２２）により入射角θｌ、θ２、θ３が異なり
、この入射角θｌ、θ２．θ３が異なることにより、Ｘ
線ビーム（３）のＸ線反射ミラー（４）における反射率
が異なることに基因している。
ンドリカル面（４１）上における入射位置は、第４図の
破線（１９）で示すように、Ｂｅ窓（１２）側が凸の円
弧状となる。この破線（１９）上の両側部および中央部
における位置（２０）、 （２１）、 （２２）におけ
る入射角θｌ、θ２．θ３は、一定ではなくそれぞれ異
なっている。つまり、両側部である位置（２０１，（２
１）の入射角θｌ、θ２は、中央部である位置（２２）
の入射角θ３よりも大きい。この場合、レジスト（ＲＪ
上におけるＸ線ビーム（３）の入射位置は、第４図の一
点鎖線（２３）で示すように、下側が凸の円弧状となる
。この−点鎖線（２３）上おける位置（２４）、 （２
５）、 （２６）は、前記位置（２０）、 （２１）、
（２２）に各別に対応している。そこで、レジスト（
Ｒ１上におけるＸ線ビーム（３）の強度を調べてみると
、第５図に示すように、−点鎖線（２３）上の中央部で
ある位置（２６）の強度が、−点鎖線（２３）上の両側
部である位置（２４）、（２５）の強度よりも高いこと
がわかる。これは、Ｘ線反射ミラー（４）のシリンドリ
カル面（４１）上における入射位置（２０）、 （２１
）、 （２２）により入射角θｌ、θ２、θ３が異なり
、この入射角θｌ、θ２．θ３が異なることにより、Ｘ
線ビーム（３）のＸ線反射ミラー（４）における反射率
が異なることに基因している。
したがって、このままではむらのない露光を行うことが
できない。そこで、レジスト（Ｒ）上におけるＸ線ビー
ム（３）の強度がどの位置でも均一になるように、光量
調整板（７）の開口（７１）の形状を調整する。この実
施例においては、光量調整板（７）の開口（７烏）の形
状は、その上下辺が円弧状に中心側に突出して、光量調
整板（））の上下方向の幅が、両側部から中央部にいく
につれ次第に減少するように設けられているので、Ｘ線
反射ミラー（４）にて反射したＸ線ビーム（３）のレジ
スト（Ｒ）上におけるの強度は、入射位置によって異な
ることがなくなり、むらのない露光を実現できる。さら
に、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ１上におけるの強
度は、Ｘ線反射ミラー（４）のミラー揺動手段（６）に
よる揺動角によっても変化するので、この揺動角の変化
に同期して光量調整板（７）の開口量を変化させる必要
がある。そこで、この実施例においては、ミラー揺動手
段（６）からの揺動制御信号に基づいて開閉板（ｉｓ）
、 （ＩＨ）を上下方向に微動させ、光量調整板（７）
の開口量を調整して、Ｘ線反射ミラー（４）の揺動角に
よる、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ）上における強
度に与える影響を解消するようになっている。すなわち
、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ１上における強度の
最大値と最小値の平均値のＸ線強度が常に得られるよう
に、開閉板（Ｈ＊）、 （１３ｂ）を開閉させる。さら
に、Ｘ線反射ミラー（４）を揺動させると、５ＯＲ（＋
）のＸ線反射ミラー（４）への斜め入射角が変化するの
で、Ｘ線反射ミラー（４）を一定の揺動速度にて揺動さ
せると、レジスト（Ｒ１上におけるＸ線ビーム（３）の
照射量は、一定にならない。そこで、ミラー揺動手段（
６）によりＸ線反射ミラー（４）の揺動速度を、５ＯＲ
（１１の斜め入射角に応じて変化させることにより、斜
め入射角の変化の照射量に与える影響を解消する。すな
わち、斜め入射角が大きくなるほどＸ線反射ミラー（４
）の揺動速度を遅くすることにより、レジスト（Ｒ）上
におけるＸ線ビーム（３）の照射量を一定にすることが
できる。
できない。そこで、レジスト（Ｒ）上におけるＸ線ビー
ム（３）の強度がどの位置でも均一になるように、光量
調整板（７）の開口（７１）の形状を調整する。この実
施例においては、光量調整板（７）の開口（７烏）の形
状は、その上下辺が円弧状に中心側に突出して、光量調
整板（））の上下方向の幅が、両側部から中央部にいく
につれ次第に減少するように設けられているので、Ｘ線
反射ミラー（４）にて反射したＸ線ビーム（３）のレジ
スト（Ｒ）上におけるの強度は、入射位置によって異な
ることがなくなり、むらのない露光を実現できる。さら
に、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ１上におけるの強
度は、Ｘ線反射ミラー（４）のミラー揺動手段（６）に
よる揺動角によっても変化するので、この揺動角の変化
に同期して光量調整板（７）の開口量を変化させる必要
がある。そこで、この実施例においては、ミラー揺動手
段（６）からの揺動制御信号に基づいて開閉板（ｉｓ）
、 （ＩＨ）を上下方向に微動させ、光量調整板（７）
の開口量を調整して、Ｘ線反射ミラー（４）の揺動角に
よる、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ）上における強
度に与える影響を解消するようになっている。すなわち
、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒ１上における強度の
最大値と最小値の平均値のＸ線強度が常に得られるよう
に、開閉板（Ｈ＊）、 （１３ｂ）を開閉させる。さら
に、Ｘ線反射ミラー（４）を揺動させると、５ＯＲ（＋
）のＸ線反射ミラー（４）への斜め入射角が変化するの
で、Ｘ線反射ミラー（４）を一定の揺動速度にて揺動さ
せると、レジスト（Ｒ１上におけるＸ線ビーム（３）の
照射量は、一定にならない。そこで、ミラー揺動手段（
６）によりＸ線反射ミラー（４）の揺動速度を、５ＯＲ
（１１の斜め入射角に応じて変化させることにより、斜
め入射角の変化の照射量に与える影響を解消する。すな
わち、斜め入射角が大きくなるほどＸ線反射ミラー（４
）の揺動速度を遅くすることにより、レジスト（Ｒ）上
におけるＸ線ビーム（３）の照射量を一定にすることが
できる。
以上のように、Ｘ線露光方法およびその装置は、ＳＯＲ
光源（２）と、ミラー揺動手段（６）により揺動される
Ｘ線反射ミラー（４）との間に光量調整板（７）を設け
、この光量調整板（７）の開口（７１）の形状を、その
長手方向に沿う上下辺が円弧状に中心側に突出するよう
に、つまり、光量調整板（７）の開口（７１）の長手方
向に直交する上下方向の幅が、両側部から中央部にいく
につれ次第に小さくなるように形成したので、レジスト
（１１上におけるＸ線ビーム（３）の強度が、入射位置
により異なることがない。また、光量調整板（ア）に開
閉板（１３Ｉ）、 （１３ｂ）を付設したので、ミラー
揺動手段（６）によるＸ線反射ミラー（４）の揺動角変
化に応じて開閉板（１３ｇ）、 （１３ｂ）を開閉させ
るようにすることにより、Ｘ線反射ミラー（４）の揺動
角変化の、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒｊ上におけ
る強度に与える影響を解消することができる。さらに、
ミラー揺動手段（６）によりＸ線反射ミラー（４）の揺
動速度を変化させることにより、Ｓ ＯＲ（１）の斜め
入射角の変化の、レジスト（Ｒ）上におけるＸ線ビーム
（３）の照射量に与える影響を解消する。以上の諸効果
が相俟って、露光むらの発生を防止することができ、転
写精度が著しく向上する。
光源（２）と、ミラー揺動手段（６）により揺動される
Ｘ線反射ミラー（４）との間に光量調整板（７）を設け
、この光量調整板（７）の開口（７１）の形状を、その
長手方向に沿う上下辺が円弧状に中心側に突出するよう
に、つまり、光量調整板（７）の開口（７１）の長手方
向に直交する上下方向の幅が、両側部から中央部にいく
につれ次第に小さくなるように形成したので、レジスト
（１１上におけるＸ線ビーム（３）の強度が、入射位置
により異なることがない。また、光量調整板（ア）に開
閉板（１３Ｉ）、 （１３ｂ）を付設したので、ミラー
揺動手段（６）によるＸ線反射ミラー（４）の揺動角変
化に応じて開閉板（１３ｇ）、 （１３ｂ）を開閉させ
るようにすることにより、Ｘ線反射ミラー（４）の揺動
角変化の、Ｘ線ビーム（３）のレジスト（Ｒｊ上におけ
る強度に与える影響を解消することができる。さらに、
ミラー揺動手段（６）によりＸ線反射ミラー（４）の揺
動速度を変化させることにより、Ｓ ＯＲ（１）の斜め
入射角の変化の、レジスト（Ｒ）上におけるＸ線ビーム
（３）の照射量に与える影響を解消する。以上の諸効果
が相俟って、露光むらの発生を防止することができ、転
写精度が著しく向上する。
なお、上記実施例においては、光量調整板（７）をＳＯ
Ｒ光源（２）とＸ線反射ミラー（４）との間に配設した
が、Ｘ線反射ミラー（４）とＢｅ膜（１７）との間に配
設してもよい。のみならず、光量調整板（７）は、ビー
ムライン案内筒（１１）内に設置せず、Ｂ ｅ Ｈ（１
７）とＸ線マスク（８）との間に設置してもよい。さら
に、上記実施例においては、光量調整板（７）の開口（
７１）の形状は、その上下両辺とも円弧状に中心側に突
出したものを例示しているが、第６図に示すように、下
辺（３１）が直線で上辺（３２）のみ円弧、楕円弧など
の曲線としてもよい。また、第７図に示すように、上下
両辺（３３）、 （３４）若しくは一方の辺を、直線の
組合わせにより形成するようにしてもよい。さらに、光
量調整板（７）の開口（７Ｍ）の開口量の調整を開閉板
（ｉｓ）、 （Ｈｂ）によることなく、光量調整板（７
）自体を上下に分割し、分割片を開閉するようにしても
よい。さらにまた、光量調整板（７）を配設する代わり
に、第８図及びこの第８図のＩＸ−ＩＸ線断面図である
第９図に示すように、Ｂｅ窓（１２）のＢｅ膜（１７）
の前面若しくは後面に光量調整板（３５）を付設しても
よい。この光量調整板（３５）の中央部には、第３図並
びに第６図及び第７図に示すように、光量調整板（））
の開口（７１）と同様の形状の開口（３５ｉ）を形成す
る。この場合も、光量調整板（７）と同様の効果を奏す
ることができる。さらに、第１０図に示すように、光量
調整板（３５）を一対の可動板（３１ｉ）、 （３７）
により構成し、これら可動板（３６）、 （３７）を、
Ｘ線反射ミラー（４）の揺動角変化に応じて上下方向に
開閉させることにより、前記実施例の開閉板（Ｈ＊）、
（１３ｂ）を用いる場合と同様の効果を奏することが
できる。
Ｒ光源（２）とＸ線反射ミラー（４）との間に配設した
が、Ｘ線反射ミラー（４）とＢｅ膜（１７）との間に配
設してもよい。のみならず、光量調整板（７）は、ビー
ムライン案内筒（１１）内に設置せず、Ｂ ｅ Ｈ（１
７）とＸ線マスク（８）との間に設置してもよい。さら
に、上記実施例においては、光量調整板（７）の開口（
７１）の形状は、その上下両辺とも円弧状に中心側に突
出したものを例示しているが、第６図に示すように、下
辺（３１）が直線で上辺（３２）のみ円弧、楕円弧など
の曲線としてもよい。また、第７図に示すように、上下
両辺（３３）、 （３４）若しくは一方の辺を、直線の
組合わせにより形成するようにしてもよい。さらに、光
量調整板（７）の開口（７Ｍ）の開口量の調整を開閉板
（ｉｓ）、 （Ｈｂ）によることなく、光量調整板（７
）自体を上下に分割し、分割片を開閉するようにしても
よい。さらにまた、光量調整板（７）を配設する代わり
に、第８図及びこの第８図のＩＸ−ＩＸ線断面図である
第９図に示すように、Ｂｅ窓（１２）のＢｅ膜（１７）
の前面若しくは後面に光量調整板（３５）を付設しても
よい。この光量調整板（３５）の中央部には、第３図並
びに第６図及び第７図に示すように、光量調整板（））
の開口（７１）と同様の形状の開口（３５ｉ）を形成す
る。この場合も、光量調整板（７）と同様の効果を奏す
ることができる。さらに、第１０図に示すように、光量
調整板（３５）を一対の可動板（３１ｉ）、 （３７）
により構成し、これら可動板（３６）、 （３７）を、
Ｘ線反射ミラー（４）の揺動角変化に応じて上下方向に
開閉させることにより、前記実施例の開閉板（Ｈ＊）、
（１３ｂ）を用いる場合と同様の効果を奏することが
できる。
さらに、上記実施例におけるＸ線反射ミラーを、トロイ
ダルミラーとしてもよい。
ダルミラーとしてもよい。
［発明の効果］
本発明は、ＳＯＲ光源から放射され、且つ、Ｘ線反射ミ
ラーにて平行なＸ線ビームとなるＸ線の光路上に、スリ
ット状開口を有する光量調整板を設け、この光量調整板
の開口形状を、長手方向中央部の幅が両側部の幅よりも
小さくなるように調整したもので、被露光体上における
Ｘ線ビームの照射量をＳＯＲのＸ線反射ミラーへの入射
位置にかかわらず一定にすることができる。よって、露
光むらの発生を防止することができ、転写精度が著しく
向上する。
ラーにて平行なＸ線ビームとなるＸ線の光路上に、スリ
ット状開口を有する光量調整板を設け、この光量調整板
の開口形状を、長手方向中央部の幅が両側部の幅よりも
小さくなるように調整したもので、被露光体上における
Ｘ線ビームの照射量をＳＯＲのＸ線反射ミラーへの入射
位置にかかわらず一定にすることができる。よって、露
光むらの発生を防止することができ、転写精度が著しく
向上する。
また、光量調整板の開口量を調整自在として、ミラー揺
動手段によるＸ線反射ミラーの揺動角変化に同期して光
量調整板の開口量を調整するようにしたので、Ｘ線反射
ミラーの揺動角変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビー
ムの照射量変化を解消させることができる。よって、露
光むらの発生を防止することができ、転写精度が著しく
向上する。
動手段によるＸ線反射ミラーの揺動角変化に同期して光
量調整板の開口量を調整するようにしたので、Ｘ線反射
ミラーの揺動角変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビー
ムの照射量変化を解消させることができる。よって、露
光むらの発生を防止することができ、転写精度が著しく
向上する。
さらに、ミラー揺動手段によりＸ線反射ミラーの揺動速
度を変化させることにより、Ｘ線のＸ線反射ミラーに対
する斜め入射角の変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビ
ームの照射量変化を解消させることができる。よって、
露光むらの発生を防止することができ、転写精度が著し
く向上する。
度を変化させることにより、Ｘ線のＸ線反射ミラーに対
する斜め入射角の変化に伴う被露光体上におけるＸ線ビ
ームの照射量変化を解消させることができる。よって、
露光むらの発生を防止することができ、転写精度が著し
く向上する。
第１図は本発明の一実施例のＸ線露光装置の構成図、第
２図はＳＯＲの発散に基因する垂直方向の広がりを示す
図、第３図は光量調整板の開口形状を示す図、第４図及
び第５図は本発明の一実施例のＸ線露光方法を示す図、
第６図乃至第１０図は本発明の他の実施例を示す図であ
る。 （１）＋ ＳＯＲ，（２）： ＳＯＲ光源、（３）：Ｘ
線ビーム、（４）：Ｘ線反射ミラー、 （６）：ミラ
ー揺動手段、 （７）：光量調整板、（Ｉｌｌ）ニス
チッパ。 （１１１：ビームライン案内筒、 （Ｒ）ニレジスト
。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 躬 図 第 図 第 図
２図はＳＯＲの発散に基因する垂直方向の広がりを示す
図、第３図は光量調整板の開口形状を示す図、第４図及
び第５図は本発明の一実施例のＸ線露光方法を示す図、
第６図乃至第１０図は本発明の他の実施例を示す図であ
る。 （１）＋ ＳＯＲ，（２）： ＳＯＲ光源、（３）：Ｘ
線ビーム、（４）：Ｘ線反射ミラー、 （６）：ミラ
ー揺動手段、 （７）：光量調整板、（Ｉｌｌ）ニス
チッパ。 （１１１：ビームライン案内筒、 （Ｒ）ニレジスト
。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 躬 図 第 図 第 図
Claims (6)
- （１）シンクロトロン放射されたＸ線をＸ線反射ミラー
により平行なＸ線に変換する第１工程と、この第１工程
にて平行なＸ線に変換されたＸ線を被露光体に照射する
第２工程とからなるＸ線露光方法において、上記第１工
程又は上記第２工程における上記Ｘ線の光路にスリット
状開口を有する光量調整板を設け、この光量調整板の上
記スリット状開口の開口量を調整して、上記被露光体上
における上記Ｘ線の照射量をどの照射位置にてもほぼ一
定にすることを特徴とするＸ線露光方法。 - （２）シンクロトロン放射されたＸ線をＸ線反射ミラー
により平行なＸ線に変換する第１工程と、この第１工程
にて平行なＸ線に変換されたＸ線を被露光体に照射する
第２工程と、上記Ｘ線反射ミラーを揺動させ上記被露光
体上における上記Ｘ線の照射面積を拡大する第３工程と
からなるＸ線露光方法において、上記Ｘ線反射ミラーに
対する入射側又は出射側における上記Ｘ線の光路にスリ
ット状開口を有する光量調整板を設け、且つ、上記光量
調整板の開口量をミラー揺動手段によるＸ線反射ミラー
の揺動角変化に同期して調整することを特徴とするＸ線
露光方法。 - （３）シンクロトロン放射されたＸ線をＸ線反射ミラー
により平行なＸ線に変換する第１工程と、この第１工程
にて平行なＸ線に変換されたＸ線を被露光体に照射する
第２工程と、上記Ｘ線反射ミラーを揺動させ上記被露光
体上における上記Ｘ線の照射面積を拡大する第３工程と
からなるＸ線露光方法において、上記シンクロトロン放
射されたＸ線のＸ線反射ミラーに対する斜め入射角の変
化に同期して上記Ｘ線反射ミラーの揺動速度を変化させ
ること特徴とするＸ線露光方法。 - （４）シンクロトロン放射されたＸ線を入射して平行な
Ｘ線に変換するＸ線反射ミラーと、このＸ線反射ミラー
にて反射したＸ線が照射される被露光体を位置決め自在
に保持する保持手段と、上記Ｘ線反射ミラーを真空中に
て格納するとともに一端部に上記Ｘ線反射ミラーにて反
射したＸ線を上記被露光体に照射させる窓部が設けられ
たビームライン案内筒とを具備し、上記ビームライン案
内筒内の上記Ｘ線の光路上にはスリット状開口を有する
光量調整板が設けられていることを特徴とするＸ線露光
装置。 - （５）光量調整板は、スリット状開口の長手方向中央部
の幅が長手方向両側部の幅よりも小さく設けられている
ことを特徴とする請求項（４）記載のＸ線露光装置。 - （６）光量調整板は、スリット状開口の長手方向に直交
する方向に開閉自在に設けられていることを特徴とする
請求項（４）記載のＸ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260483A JPH04139716A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | Ｘ線露光方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260483A JPH04139716A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | Ｘ線露光方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04139716A true JPH04139716A (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=17348588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2260483A Pending JPH04139716A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | Ｘ線露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04139716A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101603305B1 (ko) * | 2015-07-28 | 2016-03-15 | 테크밸리 주식회사 | 엑스선빔의 슬릿제어시스템 |
-
1990
- 1990-10-01 JP JP2260483A patent/JPH04139716A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101603305B1 (ko) * | 2015-07-28 | 2016-03-15 | 테크밸리 주식회사 | 엑스선빔의 슬릿제어시스템 |
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