JPH04141241A - 超微量分析に使用される器具の洗浄装置 - Google Patents
超微量分析に使用される器具の洗浄装置Info
- Publication number
- JPH04141241A JPH04141241A JP26428090A JP26428090A JPH04141241A JP H04141241 A JPH04141241 A JP H04141241A JP 26428090 A JP26428090 A JP 26428090A JP 26428090 A JP26428090 A JP 26428090A JP H04141241 A JPH04141241 A JP H04141241A
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- JP
- Japan
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- teflon
- chemical agent
- container
- cleaning
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
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- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は例えば超微量分析の試料調整時に使用されるテ
フロン容器、分析時に使用されるテフロン製容器及び治
具等を硝酸、フッ酸等の薬品を用いて洗浄する超微量分
析に使用される器具の洗浄装置に関する(以下、これを
洗浄装置とする)。
フロン容器、分析時に使用されるテフロン製容器及び治
具等を硝酸、フッ酸等の薬品を用いて洗浄する超微量分
析に使用される器具の洗浄装置に関する(以下、これを
洗浄装置とする)。
〈従来の技術〉
この種の洗浄装置の従来例として以下に述べるような装
置がある。
置がある。
即ち、適当な大きさの容器に予め超高純度の薬品を入れ
ておき、この薬品中に洗浄すべき器具を入れる。そして
適当な時間だけ薬品を加熱してボイルさせると、器具に
付着した汚れが洗浄されるようになっている。
ておき、この薬品中に洗浄すべき器具を入れる。そして
適当な時間だけ薬品を加熱してボイルさせると、器具に
付着した汚れが洗浄されるようになっている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記従来例による場合には以下に述べる
ような数々の欠点が指摘されている。
ような数々の欠点が指摘されている。
まず、洗浄の方式上、大量の薬品を必要とする他、非常
に高純度のものを使用しなければならないので、薬品に
ついてのコストが非常に高い。
に高純度のものを使用しなければならないので、薬品に
ついてのコストが非常に高い。
また、高純度の薬品を使用したとしても、非常に低いレ
ベルの分析を行う関係上、薬品に含まれる不純物により
逆汚染される。しかも大量の薬品を使用するので後処理
にも注意が必要で、この作業が非常に煩わしいという欠
点がある。
ベルの分析を行う関係上、薬品に含まれる不純物により
逆汚染される。しかも大量の薬品を使用するので後処理
にも注意が必要で、この作業が非常に煩わしいという欠
点がある。
更に、薬品としては硝酸、フッ酸等の使用するのでその
取扱には厳重に注意をする必要があることは勿論である
が、作業員が薬品の入った容器の中に器具を出し入れす
る際、非常に危険な状態にさらされ、安全上、非常に大
きな問題がある。
取扱には厳重に注意をする必要があることは勿論である
が、作業員が薬品の入った容器の中に器具を出し入れす
る際、非常に危険な状態にさらされ、安全上、非常に大
きな問題がある。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その
目的とするところは、上記欠点を一挙に解消することが
できる洗浄装置を提供することにある。
目的とするところは、上記欠点を一挙に解消することが
できる洗浄装置を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
本発明にかかる洗浄装置は、洗浄すべき耐酸性樹脂から
なる器具を収納する密閉容器と、密閉容器の内部でも前
記器具とは接触しない位置に設けてある酸系の薬品を貯
める薬品容器と、前記薬品を加熱し前記器具を洗浄する
ための洗浄ガスを生成する加熱手段とを具備している。
なる器具を収納する密閉容器と、密閉容器の内部でも前
記器具とは接触しない位置に設けてある酸系の薬品を貯
める薬品容器と、前記薬品を加熱し前記器具を洗浄する
ための洗浄ガスを生成する加熱手段とを具備している。
〈作用〉
薬品容器に酸系の薬品を入れ、密閉容器に洗浄前の器具
を入れる。そしてこの状態で加熱手段により薬品を加熱
させてこれを気化させる。すると、このとき発生した洗
浄ガスは薬品容器から出て、密閉容器の中を充満するが
、この外には洩れない。
を入れる。そしてこの状態で加熱手段により薬品を加熱
させてこれを気化させる。すると、このとき発生した洗
浄ガスは薬品容器から出て、密閉容器の中を充満するが
、この外には洩れない。
また、器具は洗浄ガスの雰囲気中に置かれているので、
この洗浄ガスにより器具の全体にさらされ、器具に付着
した汚れが溶解し洗浄される。
この洗浄ガスにより器具の全体にさらされ、器具に付着
した汚れが溶解し洗浄される。
〈実施例〉
以下、本発明にかかる洗浄装置の一実施例を図面を参照
して説明する。
して説明する。
第1図は洗浄装置の縦断面図、第2図は洗浄後の様子を
示す第1図に対応する図、第3図はテフロン製カゴ4の
底面図である。
示す第1図に対応する図、第3図はテフロン製カゴ4の
底面図である。
第1図中1はテフロン製密閉容器である。このテフロン
製密閉容器1は有底の円筒体であって、この開口面にテ
フロン製密閉容器蓋2を被せると、この内部が密閉され
るような構造となっている。
製密閉容器1は有底の円筒体であって、この開口面にテ
フロン製密閉容器蓋2を被せると、この内部が密閉され
るような構造となっている。
また、テフロン製密閉容器lの底部には加熱ヒータ6が
備えられており、テフロン製密閉容器蓋2には、内部の
薬品蒸気(後述する)を抜くための栓3が設けられてい
る。
備えられており、テフロン製密閉容器蓋2には、内部の
薬品蒸気(後述する)を抜くための栓3が設けられてい
る。
二のような構造のテフロン製密閉容器1の内部には、図
示のようにテフロン製薬品容器5、テフロン製カゴ4を
収納できるようになっている。
示のようにテフロン製薬品容器5、テフロン製カゴ4を
収納できるようになっている。
テフロン製薬品容器5はテフロン製密閉容器1よりやや
小さいめの有底の円筒体であり、この内部に薬品7(硝
酸、フッ酸もしくはこれらの混酸)を貯めるような構成
となっている。
小さいめの有底の円筒体であり、この内部に薬品7(硝
酸、フッ酸もしくはこれらの混酸)を貯めるような構成
となっている。
なお、テフロン製薬品容器5をテフロン製密閉容器1の
内部にセットした状態では、テフロン製薬品容器5の外
底面とテフロン製密閉容器1の内定面とが接触するよう
になっており、これで加熱ヒータ6からの熱が効率よく
薬品7に伝達されるようになっている。
内部にセットした状態では、テフロン製薬品容器5の外
底面とテフロン製密閉容器1の内定面とが接触するよう
になっており、これで加熱ヒータ6からの熱が効率よく
薬品7に伝達されるようになっている。
一方、テフロン製カゴ4はテフロン製薬品容器5よりや
や小さいめの有底の円筒体であり、洗浄すべき器具8を
収納するような構成となっている。
や小さいめの有底の円筒体であり、洗浄すべき器具8を
収納するような構成となっている。
しかもこの底面には薬品蒸気が通るための穴41(第3
図参照)が複数設けられている。
図参照)が複数設けられている。
但し、テフロン製カゴ4をテフロン製薬品容器5の内部
にセットした状態で、テフロン製薬品容器5に入れられ
た薬品7の上面がテフロン製カゴ4の底面に接触しない
ようにするべく、テフロン製カゴ4の高さ及び薬品7の
量を設定する。
にセットした状態で、テフロン製薬品容器5に入れられ
た薬品7の上面がテフロン製カゴ4の底面に接触しない
ようにするべく、テフロン製カゴ4の高さ及び薬品7の
量を設定する。
以上のような構造の洗浄装置により器具8を洗浄するま
での過程にフいて説明する。
での過程にフいて説明する。
まず、テフロン製密閉容器1からテフロン製密閉容器蓋
2を外して、テフロン製カゴ4、テフロン製薬品容器5
を取り出す。そして、テフロン製薬品容器5に適宜な量
の薬品7を入れ、これをテフロン製密閉容器1に戻す。
2を外して、テフロン製カゴ4、テフロン製薬品容器5
を取り出す。そして、テフロン製薬品容器5に適宜な量
の薬品7を入れ、これをテフロン製密閉容器1に戻す。
次いで、テフロン製カゴ4を戻す。この状態で、テフロ
ン製カゴ4の内底面に器具8を置く。このとき、器具8
が容器であるならば、口を下になるように伏せて置く。
ン製カゴ4の内底面に器具8を置く。このとき、器具8
が容器であるならば、口を下になるように伏せて置く。
そして、テフロン製密閉容器1にテフロン製密閉容器蓋
2をセットする。
2をセットする。
その後、加熱ヒータ6を所定期間通電して薬品7を気化
させる。すると、気化した薬品蒸気(洗浄ガスに相当す
る)は開口42を通じて器具8の全体にあたり、これで
器具8に付着した汚れが溶解し洗浄される。加熱終了後
は栓3をドラフト内で抜き、テフロン製密閉容器1の内
の薬品蒸気を完全に外に出す。そして、ドラフト外でテ
フロン製密閉容器lからテフロン製密閉容器蓋2を外し
、器具8はそのままにした状態でテフロン製カゴ4を一
旦外に取り出す。次いでテフロン製薬品容器5を取り出
し、外に取り出したテフロン製カゴ4を元に戻す。第2
図はこの状態を示している。その後、超純水をテフロン
製密閉容器工の内部に注ぎ込んでオーバーフローさせ、
器具8等を水洗浄する。そしてテフロン製カゴ4から器
具8を外に取り出すと、これで一連の洗浄作業が終了す
る。
させる。すると、気化した薬品蒸気(洗浄ガスに相当す
る)は開口42を通じて器具8の全体にあたり、これで
器具8に付着した汚れが溶解し洗浄される。加熱終了後
は栓3をドラフト内で抜き、テフロン製密閉容器1の内
の薬品蒸気を完全に外に出す。そして、ドラフト外でテ
フロン製密閉容器lからテフロン製密閉容器蓋2を外し
、器具8はそのままにした状態でテフロン製カゴ4を一
旦外に取り出す。次いでテフロン製薬品容器5を取り出
し、外に取り出したテフロン製カゴ4を元に戻す。第2
図はこの状態を示している。その後、超純水をテフロン
製密閉容器工の内部に注ぎ込んでオーバーフローさせ、
器具8等を水洗浄する。そしてテフロン製カゴ4から器
具8を外に取り出すと、これで一連の洗浄作業が終了す
る。
従って、本実施例の洗浄装置による場合には、薬品7を
気化させて、気化させた薬品蒸気を器具8にさらして、
これを洗浄するようになっているので、低純度の薬品7
を使用しても器具8が逆汚染されるということがなく、
必要とする薬品7も少量でよい。これに伴って、薬品7
に要するコストを大幅に下げることができる。
気化させて、気化させた薬品蒸気を器具8にさらして、
これを洗浄するようになっているので、低純度の薬品7
を使用しても器具8が逆汚染されるということがなく、
必要とする薬品7も少量でよい。これに伴って、薬品7
に要するコストを大幅に下げることができる。
また、テフロン製カゴ4を用いてテフロン製密閉容器1
から器具8の出し入れするようになっているので、器具
8の出し入れが非常に楽である。
から器具8の出し入れするようになっているので、器具
8の出し入れが非常に楽である。
更に、テフロン製薬品容器5内の薬品7には触れること
がないので、非常に安全である。
がないので、非常に安全である。
従って、従来と比較すると、装置としての性能を大幅に
上げることができ、高精度な超微量分析を行う上でも非
常に大きな意義がある。
上げることができ、高精度な超微量分析を行う上でも非
常に大きな意義がある。
なお、本発明にかかる洗浄装置は上記実施例に限定され
ず、密閉容器と薬品容器の位置関係については、薬品容
器が器具の接触しない構造であれは如何なるものでもよ
い。また、加熱手段についても赤外線加熱方式によるも
のでも構わない。
ず、密閉容器と薬品容器の位置関係については、薬品容
器が器具の接触しない構造であれは如何なるものでもよ
い。また、加熱手段についても赤外線加熱方式によるも
のでも構わない。
〈発明の効果〉
以上、本発明にかかる洗浄装置による場合には、酸系の
薬品を気化させ、気化させた洗浄ガスを器具にさらして
これを洗浄するようになっているので、薬品について高
純度のものを大量に使用する必要がなく、これに伴って
薬品についてのコストを低く抑えることができる。しか
も薬品の含まれる不純物により器具が逆汚染されるとい
うおそれもない。
薬品を気化させ、気化させた洗浄ガスを器具にさらして
これを洗浄するようになっているので、薬品について高
純度のものを大量に使用する必要がなく、これに伴って
薬品についてのコストを低く抑えることができる。しか
も薬品の含まれる不純物により器具が逆汚染されるとい
うおそれもない。
また、使用する薬品の量は少しで良いので、従来に比べ
ると、後処理が非常に楽である。
ると、後処理が非常に楽である。
更に、密閉容器から器具を出し入れする際、密閉容器内
の薬品には触れることがないので、非常に安全である。
の薬品には触れることがないので、非常に安全である。
従って、装置としての性能を大きく高めることができ、
高精度な超微量分析を行う上でも非常に大きな意義があ
る。
高精度な超微量分析を行う上でも非常に大きな意義があ
る。
第1図乃至第3図は本発明にかかる洗浄装置の一実施例
を説明するための図であって、第1図は洗浄装置の縦断
面図、第2図は洗浄後の様子を示す第1図に対応する図
、第3図はテフロン製カゴの底面図である。 テフロン製密閉容器 テフロン製密閉容器蓋 テフロン製カゴ テフロン製薬品容器 加熱ヒータ ・薬品 ・器具
を説明するための図であって、第1図は洗浄装置の縦断
面図、第2図は洗浄後の様子を示す第1図に対応する図
、第3図はテフロン製カゴの底面図である。 テフロン製密閉容器 テフロン製密閉容器蓋 テフロン製カゴ テフロン製薬品容器 加熱ヒータ ・薬品 ・器具
Claims (2)
- (1)洗浄すべき耐酸性樹脂からなる器具を収納する密
閉容器と、密閉容器の内部でも前記器具とは接触しない
位置に設けてある酸系の薬品を貯める薬品容器と、前記
薬品を加熱し前記器具を洗浄するための洗浄ガスを生成
する加熱手段とを具備していることを特徴とする超微量
分析に使用される器具の洗浄装置。 - (2)密閉容器の内部に器具を出し入れするためのカゴ
を設けたことを特徴とする請求項1記載の超微量分析に
使用される器具の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26428090A JPH04141241A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | 超微量分析に使用される器具の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26428090A JPH04141241A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | 超微量分析に使用される器具の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04141241A true JPH04141241A (ja) | 1992-05-14 |
Family
ID=17400976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26428090A Pending JPH04141241A (ja) | 1990-10-01 | 1990-10-01 | 超微量分析に使用される器具の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04141241A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002200463A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Toshiba Ceramics Co Ltd | フッ素樹脂製器具の洗浄方法 |
| US20100276394A1 (en) * | 2003-08-06 | 2010-11-04 | Micron Technology, Inc. | MICROFEATURE WORKPIECE PROCESSING SYSTEM FOR, e.g., SEMICONDUCTOR WAFER ANALYSIS |
| CN103191881A (zh) * | 2013-03-28 | 2013-07-10 | 凌强 | 一种改进的清洗工件装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6335789A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Daido Steel Co Ltd | 洗浄装置 |
| JPS6346155U (ja) * | 1986-09-16 | 1988-03-29 | ||
| JPH02152233A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-12 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄装置 |
-
1990
- 1990-10-01 JP JP26428090A patent/JPH04141241A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6335789A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Daido Steel Co Ltd | 洗浄装置 |
| JPS6346155U (ja) * | 1986-09-16 | 1988-03-29 | ||
| JPH02152233A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-12 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002200463A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Toshiba Ceramics Co Ltd | フッ素樹脂製器具の洗浄方法 |
| US20100276394A1 (en) * | 2003-08-06 | 2010-11-04 | Micron Technology, Inc. | MICROFEATURE WORKPIECE PROCESSING SYSTEM FOR, e.g., SEMICONDUCTOR WAFER ANALYSIS |
| US8765000B2 (en) * | 2003-08-06 | 2014-07-01 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing system for, e.g., semiconductor wafer analysis |
| CN103191881A (zh) * | 2013-03-28 | 2013-07-10 | 凌强 | 一种改进的清洗工件装置 |
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