JPH057270B2

JPH057270B2 -

Info

Publication number: JPH057270B2
Application number: JP15601385A
Authority: JP
Inventors: Masaki Kusuhara
Original assignee: Wakomu KK
Current assignee: Wakomu KK
Priority date: 1985-07-17
Filing date: 1985-07-17
Publication date: 1993-01-28
Also published as: JPS6228359A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、真空コンテナに関するものであり、
特に、半導体ウエーハ、および該ウエーハを保持
しているキヤリアを、真空の状態で収納して、前
記ウエーハを汚染しないように保持することがで
きる真空コンテナに関するものである。

（従来の技術）従来から、例えばシリコン等の半導体ウエーハ
（以下、単にウエーハという）の製造工程では、
該ウエーハを化学処理した後の洗浄工程が必要で
あつた。そして、この洗浄工程を一つの装置とし
て具体化したのが、よく知られているように、蒸
気洗浄装置である。

この蒸気洗浄装置では、まずウエーハは、キヤ
リアに保持された状態で該装置内に装填される。
その後、ウエーハは、キヤリアを移動する可動ハ
ンガにより、キヤリアと共に、イオンを除去した
水（以下、DIウオータという）の中に浸漬され、
洗浄される。

このようにして洗浄されたウエーハは、その
後、蒸気洗浄槽の中へ前記可動ハンガによつてキ
ヤリアと共に運ばれる。

この蒸気洗浄槽では、石英容器の中へ適量入れ
られた、例えばイソプロピルアルコール（以下、
IPAという）が下からのヒータの熱によつて温め
られて、該容器中で気化している。

このIPAの蒸気中に、前記ウエーハが運ばれて
くると、水分（DIウオータ）の付着したウエー
ハにより、IPA蒸気が冷却液化され、ウエーハ表
面を流下する。その間に、ウエーハに付着してい
た水分は、IPAと置換され、水分がウエーハから
除去される。

また、ウエーハはIPAの蒸気により次第に加熱
され、ウエーハの温度がIPA蒸気と同等になる
と、IPAの液化は起らなくなる。

この為に、前記DIウオータの洗浄によつて付
着した微小な異物等はきれいに洗い流されると共
に、ウエーハ表面は、乾燥状態となる。

なお、前記石英容器の上部には、前記ウエーハ
を保持したキヤリアが入出可能な空間を残して蛇
管が配設されている。これは、気化したIPAが蛇
管内を流れる冷却水によつて冷され、液化して、
再び石英容器の中へ還元されるようにする為であ
る。

以上のようにして、蒸気洗浄乾燥されたウエー
ハは、可動ハンガによつてキヤリアと共に、蒸気
洗浄装置のウエーハ取出し部まで運ばれ、その
後、取り出されることになる。

ところで、よく知られているように、蒸気洗浄
装置から取り出されるウエーハは、常に、清浄
（クリーン）な状態に保たれている必要がある。
これは、前記洗浄乾燥後、ウエーハ表面には、微
細なプリント回路等のパターンが形成されるから
である。また、洗浄前のウエーハ、すなわち蒸気
洗浄装置に装填される前のウエーハも、当該装置
の内部をできるだけ清浄な状態に保つ為に、微小
塵埃（以下、パーテイクルという）が付着しない
ようにする必要がある。

そこで、従来においては、ウエーハを保持した
キヤリアを、蒸気洗浄装置の内部へ装填する時、
または、前記キヤリアを該装置の内部から取り出
す時、および該キヤリアを予定の場所へ移動する
時には、作業者は防塵用の服を着て、さらに防塵
用の手袋をはめるなどして、それらの作業を行な
つていた。

また、蒸気洗浄乾燥された後のウエーハ表面
は、前記したように、乾燥状態となる。しかし、
これをミクロ的に見ると、薄膜状態または分子単
位で、IPAがウエーハ表面に微量残存しているの
が通常である。

なお、このようなIPAは、時間の経過につれて
自然拡散する為に消失し、完全な乾燥状態とな
る。

（発明が解決しようとする問題点）上記した従来の技術は、次のような問題点を有
していた。

(1) ウエーハを保持したキヤリアを、蒸気洗浄装
置の内部へ装填する時、または、前記キヤリア
を該装置の内部から取り出す時、さらに該キヤ
リアを予定の場所へ移動する時には、作業者は
防塵服等を着ることによつて、ウエーハにパー
テイクルが付着しないように配慮しているが、
従来は、ウエーハを保持したキヤリアを、直接
人の手によつて持ち運びする為に、どうしても
ウエーハ表面に無機質および／または有機質の
パーテイクルが付着するという欠点があつた。

(2) ウエーハを保持したキヤリアを、蒸気洗浄装
置から取り出して、次の処理作業に入るまでに
時間がある場合には、該時間、前記キヤリアを
保存しておかなければならないが、この間に、
ウエーハ表面にパーテイクルが付着するという
欠点があつた。

(3) 前記したように、蒸気洗浄乾燥後のウエーハ
表面には、自然拡散する前のIPAが薄膜状態ま
たは分子単位で付着している。その為に、ウエ
ーハを蒸気洗浄乾燥した後、直ちに、次の工程
での処理を行なうことができないという欠点が
あつた。

すなわち、従来においては、ウエーハを蒸気洗
浄乾燥してから、次の工程の処理を行なうまでに
は、IPAが完全に自然拡散するまで、予定時間待
たなければならないという欠点があつた。

本発明は、前述の問題点を解決するためになさ
れたものである。

（問題点を解決するための手段および作用）前記の問題点を解決するために、本発明は、ウ
エーハを保持するキヤリアを載置する基台と、前
記基台上にあるキヤリアを覆う蓋と、前記基台お
よび蓋により形成される内部空間と外部とを選択
的に連通・遮断する手段とを有する真空コンテナ
を設けて、前記キヤリアを、必要に応じて、真空
状態で前記真空コンテナに収納するようにした点
に特徴がある。

（実施例）以下に図面を参照して、本発明を詳細に説明す
る。

第１図は本発明の一実施例の一部断面図であ
る。また、第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿う一
部断面図である。

これらの図において、例えばテフロン製の基台
１には、第１のコツク２を矢印Ａ方向へ倒するこ
とにより開状態となる吸気口３と、第２のコツク
４を矢印Ｂ方向へ倒することにより開状態となる
排気口５とが設けられている。

なお、前記第１のコツク２および第２のコツク
４のそれぞれは、矢印Ａまたは矢印Ｂ方向への力
が加わつていない時には、自動復帰して常に閉状
態となつている。

前記吸気口３および排気口５は、それぞれ、基
台１に埋め込まれている給気管６および排気管７
の一端と接続されている。そして、前記給気管６
および排気管７の他端は基台１の上面まで達し、
そこで開口している。

また、前記給気管６の中間にはミクロフイルタ
８が配設されている。基台１の上面周辺部には輪
環状の凹陥部９が形成され、該凹陥部９にはＯリ
ング１０が嵌め込まれている。

蓋１１は、その開口端部のフランジ部１１ａが
基台１の上面周辺部と接触するようにして、基台
１上に載置されている。この蓋１１の材質として
は、例えばABS樹脂、ポリカーボネート、石英
または金属などが好適である。

第２図から明らかなように、フランジ部１１ａ
の上部付近には、２つの係止部材１２および１３
が対向するようにして配設されている。この係止
部材１２，１３は、基台１と蓋１１とが圧接状態
で相互に固定されるようにする為のものである。

そして、係止部材１２，１３は、その上端部
に、それぞれ矢印Ｃ方向または矢印Ｄ方向の力が
加えられると、支軸１２ａ，１３ａを中心に、反
時計方向または時計方向に回転する。この為に、
基台１と蓋１１との圧接固定状態は、解除が可能
となる。

ここで、第１図および第２図に示した本実施例
の動作について説明する。

まず、基台１の上に、ウエーハ１４を保持した
キヤリア１５を、第１図に破線で示すように載せ
る。その後、蓋１１を基台１上に載置する。

なお、この載置の際には、係止部材１２，１３
の上端部に矢印Ｃまたは矢印Ｄ方向の力を加え
て、係止部材１２，１３の下端部が外側に開く状
態とする。その後、矢印Ｃまたは矢印Ｄ方向の力
を除去して、基台１を係止部材１２，１３で挟み
込むようにする。

次に、排気口５に、真空ポンプから引き出され
ている管（図示せず）を連結して、第２のコツク
４を矢印Ｂ方向へ倒す。この結果、基台１および
蓋１１からなる真空コンテナ５０の内部ガスは、
排気管７を介して吸引される。すなわち、ウエー
ハ１４を保持したキヤリア１５が収納された真空
コンテナ５０の内部は、真空状態となる。

これにより、基台１と蓋１１とが相互に強く吸
着されるばかりでなく、真空コンテナ５０の内部
にはパーテイクルが侵入できなくなる。

なお、前記した係止部材１２，１３は、前記真
空コンテナ５０内部の真空度が低下してきて、基
台１と蓋１１との吸着状態が弱まつた場合も、相
互の圧接状態が解消されないようにする為のもの
である。

すなわち、前記真空度が低下した為に、基台１
と蓋１１との吸着状態が解除されるようになつて
も、係止部材１２，１３があれば、基台１と蓋１
１との接触部にすき間が生じてパーテイクルが侵
入したり、または、蓋１１を持つて真空コンテナ
５０を移動する場合に、基台１およびウエーハ１
４を保持したキヤリア１５が落下したりするとい
う事態は防止されることになる。

したがつて、真空コンテナ５０内部の真空度
が、必要な時間、十分に保たれるのであれば、係
止部材１２，１３は必要でなくなる。また、上記
した機能を有する係止部材１２が、基台１側に取
付けられていても差し支えないことは勿論であ
る。

前記したようにして、真空コンテナ５０に収納
されたウエーハ１４を保持したキヤリア１５を取
り出す為には、まず、例えば、N₂ガスボンベに
接続されている管（図示せず）を、吸気口３に連
結して、第１のコツク２を矢印Ａ方向へ倒す。

このようにすると真空コンテナ５０内部には、
ミクロフイルタ８によつて濾過された清浄なN₂
ガスが吸入される。この結果、前記真空状態は解
除される。そこで、こんどは、係止部材１２，１
３の上端部に矢印Ｃまたは矢印Ｄ方向の力を加え
る。

その後、この状態で、蓋１１を持ち上げる。な
お、当然のことながら、蓋１１の位置はそのまま
として、基台１の方を下降させるようにしても、
前記キヤリア１５を取り出すことができる。

なお、以上の説明では、排気管７および給気管
６をそれぞれ設けて真空コンテナの内部空間を真
空状態にしたり、または、該真空状態を解除した
りする場合であつた。しかし、本発明では、例え
ば、前記給気管６のみを配設するようにして、真
空状態または該状態の解除を実現するようにして
もよい。

ただし、ウエーハ１４を保持したキヤリア１５
を収納して、内部空間を真空にする為に、吸引す
る内部ガスにパーテイクルが含まれている場合に
は、一旦、ミクロフイルタ８に付着した該パーテ
イクルが、その後、真空状態を解除する際に、再
び前記内部空間へ戻され、ウエーハ１４の表面を
汚染するおそれがある。

したがつて、本実施例のように、排気管７およ
び給気管６のそれぞれを設ける構造とした方が望
ましい。

また、以上では、給気管６の中間にミクロフイ
ルタ８を設けるようにしたが、例えば清浄なN₂
ガスが吸気口３から注入される状態であれば、該
ミクロフイルタ８が不要となることは勿論であ
る。

ここで、本実施例の真空コンテナ５０を用いて
ウエーハ１４を保持したキヤリア１５を蒸気乾燥
洗浄装置の内部へ装填したり、または、前記キヤ
リアを該装置内部から取り出したりする場合につ
いて説明する。

第３図は、ウエーハ挿入・取出部２０がパスス
ルールームとなつている蒸気乾燥洗浄装置の一部
断面図である。図において、第１図および第２図
と同一の符号は、同一または同等部分をあらわし
ている。

第３図において、ウエーハ挿入・取出部２０に
は、本実施例の真空コンテナ５０が載置できるレ
ール台２１が、その下部に配置されている。前記
レール台２１の手前側には、手動で開閉する外扉
（図示せず）が形成されている。

前記レール台２１の上方には、蒸気乾燥洗浄装
置の内部雰囲気からウエーハ挿入・取出部２０を
仕切る為の天井部２２が設けられ、さらに、該天
井部２２には、既知の手段により自動的に開閉す
る内扉２３が設けられている。

すなわち、ウエーハ挿入・取出部２０は、内扉
２３を閉塞することによつて、蒸気乾燥洗浄装置
の内部雰囲気から遮断されるように構成されてい
る。

このウエーハ挿入・取出部２０の上部には、
N₂ガスを、該ウエーハ挿入・取出部２０の内部
に供給する為の給気ダクト２４ａおよび２４ｂが
配設されている。

また、ウエーハ挿入・取出部２０の底板部に
は、前記給気ダクト２４ａおよび２４ｂから供給
されるN₂ガスを排気する為の排気ダクト２５ａ
および２５ｂが配設されている。

さらに、前記レール台２１の下部に当るウエー
ハ挿入・取出部２０の底板部には、本実施例の真
空コンテナ５０を挿入または引き出す際に、該真
空コンテナ５０とレール台２１との摩耗によつて
生じるパーテイクルを、貫通孔２７を介して吸引
し、排出する為の吸入ダクト２６が設けられてい
る。

また、ウエーハ挿入・取出部２０内に設けられ
ているロボツトアーム２８は、レール台２１に載
置された真空コンテナ５０の蓋１１を、載置台２
９に載せたり、または前記載置台２９にある蓋１
１を、真空コンテナ５０の基台１上に戻したりす
る為のものである。

なお、このロボツトアーム２８の先端部２８ａ
は、既知の適宜の方法により、前記蓋１１を握持
できるようになつているものであればよい。

したがつて、このロボツトアーム２８によつ
て、蓋１１が支持される時には、係止部材１２，
１３（第２図参照）の上端部には、矢印Ｃまたは
矢印Ｄ方向の力が加えられる為に、前記係止部材
１２，１３の下端部は外側に開かれる状態とな
る。

この結果、ロボツトアーム２８に蓋１１が握持
される時には、該蓋１１のみが持ち運ばれること
になる。

ウエーハ挿入・取出部２０の内部には、真空コ
ンテナ５０をレール台２１に載置した状態で、必
要に応じて、第１のコツク２または第２のコツク
４を矢印Ａまたは矢印Ｂ方向（第１図参照）に倒
す為の操作杆が配設されている。なお、この操作
杆は、図面を簡略化するために図示を省略してい
る。

また、ウエーハ挿入・取出部２０の内部には、
真空ポンプ（図示せず）とその一端が接続されて
いる管４０が、排気口５と十分に連結可能な長さ
を有して挿入されている。

次に、DIウオータ洗浄槽３０を構成する容器
３１の中には、DIウオータ３２が常に適量貯留
されている。なお、このDIウオータ３２は、図
示しない既知の手段により、常時予定量が放水さ
れ、かつまた、前記放水量だけ供給されている。
この為に、常に、清浄な状態に保たれている。

蒸気洗浄槽３３は、以下のような構成からなつ
ている。すなわち、ヒータが密閉状態で内蔵され
ているアルミブロツク３４の上には、IPA３５を
入れた石英容器３６が置かれている。

なお、この石英容器３６の上方には、図面を簡
略化する為に図示しないが、IPA３５の蒸気を冷
却して凝縮還元する為の蛇管が配設されている。

以上のような構成からなる蒸気乾燥洗浄装置で
は、まず、オペレータが、ウエーハ挿入・取出部
２０の外扉を開いて、真空コンテナ５０をレール
台２１の上に載せる。なお、この真空コンテナ５
０には、ウエーハ１４を保持したキヤリア１５
が、真空状態で収納されている。

その後、オペレータは、排気口５と管４０の先
端部とを連結して、真空コンテナ５０をウエーハ
挿入・取出部２０の所定場所まで、レール台２１
に沿つて移動させる。このようにして、レール台
２１の所定場所に載置された真空コンテナ５０
を、第１図に示す。

前記真空コンテナ５０を所定場所まで移動させ
たオペレータは、ウエーハ挿入・取出部２０の外
扉を閉じる。

なお、真空コンテナ５０を装填する際に、外扉
を開けるので、ウエーハ挿入・取出部２０の内部
雰囲気と外気とは連通状態となるが、この状態で
は、内扉２３は閉じられているので、蒸気乾燥洗
浄装置の内部雰囲気と外気とが連通状態となるこ
とはない。したがつて、前記装置の内部雰囲気は
汚染されない。

また、第３図では、ウエーハ挿入・取出部２０
の内部に、濾過された清浄なN₂ガスを、常時、
給気ダクト２４ａおよび２４ｂから供給してい
る。この結果、ウエーハ挿入・取出部２０の内部
は外気圧に対して陽圧状態であるので、真空コン
テナ５０を装填する為に、外扉が開けられても、
該ウエーハ挿入・取出部２０の内部に外気中の微
小な異物等が侵入する心配はほとんどない。

なお。、第３図では、貫通孔２７を介して吸入
ダクト２６から前記N₂ガスを吸引している。こ
の為に、前記真空コンテナ５０をレール台２１に
沿つて移動させる際に、該真空コンテナ５０とレ
ール台２１との摩耗によつて生ずるパーテイクル
は、前記N₂ガスと共に吸引されて排出される。

また、真空コンテナ５０を装填した後、外扉を
閉じてから、予定の時間、該真空コンテナ５０は
ウエーハ挿入・取出部２０の中にそのままの状態
で置かれる。これは、真空コンテナ５０を、オペ
レータがウエーハ挿入・取出部２０内に装填する
際に、該ウエーハ挿入・取出部２０の内部にはパ
ーテイクルが侵入するので、これを前記N₂ガス
の流れによつて排出する為である。

すなわち、給気ダクト２４ａおよび２４ｂから
供給されたN₂ガスは、ウエーハ挿入・取出部２
０の内部を通過して、前記吸入ダクト２６に吸引
されて排出されると共に、排気ダクト２５ａおよ
び２５ｂからも排気されるが、この時、前記パー
テイクルも同時に排出して、ウエーハ挿入・取出
部２０の内部雰囲気を清浄な状態とする。

前述予定時間が経過すると、図示しない操作杵
によつて、第１のコツク２は矢印Ａ方向（第１図
参照）へ倒される。この結果、ウエーハ挿入・取
出部２０内部のN₂ガスは、給気口３→給気管６
→ミクロフイルタ８→給気管６を通つて、真空コ
ンテナ５０の内部に注入される。すなわち、真空
コンテナ５０の内部は、清浄なN₂ガスによつて
満たされるので、真空状態が解除される。

その後、ロボツトアーム２８が既知の適宜の手
段により移動してきて、その先端部２８ａで、前
記したように、真空コンテナ５０の蓋１１を握持
して、該蓋１１を載置台２９まで運ぶ。この結
果、蓋１１は載置台２９の上に置かれた状態とな
る。

その後、内扉２３が、既知の手段により自動的
に開状態となり、つづいて可動ハンガ３７が、ウ
エーハ挿入・取出部２０内へ侵入して、キヤリア
１５の孔１５ａと係合する。

そして、前記キヤリア１５は、可動ハンガ３７
によつて蒸気乾燥洗浄装置の内部空間へ運び出さ
れる。その後、内扉２３は、自動的に閉塞状態と
なる。

前記蒸気乾燥洗浄装置の内部空間へ運び出され
たウエーハ１４は、まず、可動ハンガ３７によつ
て、キヤリア１５と共に、DIウオータ３２に浸
漬され、清浄される。その後、ウエーハ１４は、
キヤリア１５と共に可動ハンガ３７によつて蒸気
洗浄槽３３の中へ運ばれる。

そして、ここで、蒸気洗浄乾燥されたウエーハ
１４は、キヤリア１５と共に可動ハンガ３７によ
つて、一旦、蒸気洗浄槽３３の上方へ持ち上げら
れ、その後、再び、ウエーハ挿入・取出部２０の
上方まで運ばれる。なお、この時、ウエーハ挿
入・取出部２０の内扉２３は自動的に開かれる。

前記ウエーハ挿入・取出部２０の上方まで運ば
れてきたウエーハ１４は、キヤリア１５と共に可
動ハンガ３７によつて降下され、ウエーハ挿入・
取出部２０の内部に挿入され、その後、再び基台
１上に載置される。

このようにして、ウエーハ１４を保持したキヤ
リア１５が、基台１上に載置されると、可動ハン
ガ３７のみが上昇してウエーハ挿入・取出部２０
の外部に出る。そして、これとほぼ同時に内扉２
３が閉塞状態となる。

その後、載置台２９上に置かれていた蓋１１
が、ロボツトアーム２８の先端部２８ａに握持さ
れて、前記キヤリア１５を収納するような状態
で、基台１上に載置される。前記蓋１１の載置が
完了すると、ロボツトアーム２８はウエーハ挿
入・取出部２０の内部の予定場所へ戻る。

なお、この時には、係止部材１２，１３によつ
て、前記蓋１１と基台１とは圧接状態となつてい
る。

その後、図示しない操作杵によつて第２のコツ
ク４が矢印Ｂ方向（第１図参照）へ倒され、さら
にこの状態で真空ポンプが作動する。この為に真
空コンテナ５０の内部ガス、すなわちN₂ガスは、
排気管７→排気口５→管４０を通つて外部へ吸い
出されることになる。

この結果、基台１と蓋１１とは相互に強く吸着
されるので、両者の接触部にはすき間が生ずるこ
とがなくなる。

したがつて、仮に、真空コンテナ５０の周辺雰
囲気中にパーテイクルが存在するようになつて
も、該パーテイクルは、真空コンテナ５０の内部
に侵入することはない。

ところで、蒸気洗浄乾燥されて、基台１に載置
されたウエーハ１４の表面には、前記したよう
に、自然拡散する前のIPAが薄膜状態または分子
単位で付着している。

そこで、第３図では、このようなIPAをウエー
ハ１４の表面から早期に完全に除去する為に、ウ
エーハ挿入・取出部２０の内部に赤外線ランプ３
８ａ，３８ｂを設けてウエーハ１４に赤外線を照
射し、該ウエーハ１４を加熱するようにしてい
る。

ただし、このように、ウエーハ１４に赤外線を
照射する場合には、蓋１１の材質は、赤外線を透
過するものであることが望ましい。

そしてさらに、本実施例の真空コンテナ５０で
は、前記したように、内部N₂ガスを吸引して、
その内部が真空状態となるようにしている。この
為に、ウエーハ１４の表面に薄膜状態または分子
単位で付着しているIPAは、より一層早期に完全
に拡散されることになる。

なお、赤外線ランプ３８ａ，３８ｂを特に設け
ず、真空コンテナ５０内部を真空状態とするのみ
でも、IPAの拡散は促進される。

前記したようにして、真空コンテナ５０の内部
が真空状態になつた後、第２のコツク４を閉状態
に復帰すると共に、真空ポンプを停止する。

その後、オペレータは、外扉を開けて、真空コ
ンテナ５０をレール台２１上を滑らせながら手前
に引きよせる。そして、オペレータは、管４０を
排気口５から取り外して、真空コンテナ５０を外
部へ取り出す。その後、外扉を閉める。

（発明の効果）以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、つぎのような効果が達成される。

(1) ウエーハを保持したキヤリアを、必要に応じ
て、真空状態で収納できる真空コンテナを設け
るようにしたので、人の手が直接前記キヤリア
に触れることがなくなり、従来生じていた、人
の手の接近によりウエーハ表面にパーテイクル
が付着するという状態は、回避することができ
る。

(2) 清浄な表面とされたウエーハを保存する場合
にも、この保存期間中に、ウエーハ表面にパー
テイクルが付着するという状態は生じない。

(3) 真空状態でウエーハが収納され保存されるの
で、ウエーハ表面に薄膜状態または分子単位で
付着しているIPAは、比較的早期に拡散される
ことになる。

(4) 前記(3)に加えて、真空コンテナの外部より赤
外線を照射して、ウエーハを加熱するようにす
れば、ウエーハ表面に薄膜状態または分子単位
で付着しているIPAは、より一層早期に拡散さ
れることになる。この結果、半導体ウエーハの
製造作業時間は短縮される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の一部断面図、第２
図は第１図のＡ−Ａ線に沿う一部断面図、第３図
は、第１図および第２図の真空コンテナが適用さ
れる蒸気乾燥洗浄装置の一例を示す一部断面図で
ある。１……基台、２……第１のコツク、３……吸気
口、４……第２のコツク、５……排気口、６……
給気管、７……排気管、８……ミクロフイルタ、
１１……蓋、１２，１３……係止部材、１４……
ウエーハ、１５……キヤリア。

Claims

【特許請求の範囲】１半導体ウエーハを保持するキヤリアを載置す
る基台と、前記基台上にあるキヤリアを覆う蓋と、前記基台および蓋により形成される内部空間と
外部とを選択的に連通・遮断する手段とを具備したことを特徴とする真空コンテナ。２前記基台と前記蓋とを圧接状態で相互に固定
する手段が設けられていることを特徴とする前記
特許請求の範囲第１項記載の真空コンテナ。３前記連通・遮断手段が、前記基台を貫通し
て、その一端が前記内部空間に開口し、他端が外
部に開口している管体と、前記管体に設けらけた
コツクとであることを特徴とする前記特許請求の
範囲第１項または第２項記載の真空コンテナ。４前記管体が、排気用管体と給気用管体とから
なり、前記給気用管体の中間にフイルタが設けら
れていることを特徴とする前記特許請求の範囲第
３項記載の真空コンテナ。５前記蓋が、赤外線を透過するものであること
を特徴とする前記特許請求の範囲第１項、第２
項、第３項または第４項記載の真空コンテナ。