JPH04141929A - 含浸形陰極の製造方法 - Google Patents

含浸形陰極の製造方法

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JPH04141929A
JPH04141929A JP26390490A JP26390490A JPH04141929A JP H04141929 A JPH04141929 A JP H04141929A JP 26390490 A JP26390490 A JP 26390490A JP 26390490 A JP26390490 A JP 26390490A JP H04141929 A JPH04141929 A JP H04141929A
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JP
Japan
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electron
cathode
manufacturing
melting point
impregnated
Prior art date
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Application number
JP26390490A
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English (en)
Inventor
Tadanori Taguchi
田口 貞憲
Yukio Suzuki
鈴木 行男
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、ブラウン管、撮像管等の電子管に用いられる
小型、高電流密度の含浸形陰極の製造方法にかかり、特
に、安定した電子放出特性を有する陰極を容易にかつ確
実に得ることのできる含浸形陰極の製造方法に関す、る
。
[従来の技術] 高電流密度の特性を有する含浸形陰極は、タングステン
(W)等からなる耐熱、多孔質基体の細孔部にバリウム
・カルシウム・アルミネート(BaO−CaO・Al、
O,)等の電子放出物質を溶融含浸させた構成からなる
陰極であり、電子放出特性を向上させるために、陰極表
面にさらにオスミウム(O8)、イリジウム(Ir)、
ルテニウム(Ru)あるいはこれらの合金膜を被覆して
使用される。
このような含浸形陰極の製造は、例えば特開昭56−6
9751号公報記載のように、まず、W等からなる耐熱
多孔質基体(ベレット)を作成し、次に、該多孔質基体
の細孔部t; BaC(L、Cac、イAl、0.から
なる混合物を水素中もしくは真空中で加熱・溶融して電
子放出物質として含浸させ、さらに、電子放出特性を向
上させるために、その表面をOs、 Ir、Ru等の金
属薄膜で被覆し、これを障壁層としての高融点金属製カ
ップ、高融点金属製スリーブと組み合わせることによっ
て行われる。
第2図は上記従来技術の含浸形陰極製造手順の概要を示
した工程図である。
C発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来技術においては、W等の耐熱多
孔質基体の細孔部に電子放出物質を溶融含浸させた場合
に該基体の周囲に余剰の電子放出特性が残留固着し、こ
れらの余剰の電子放出物質は陰極として不要でもありま
た組立作業上悪影響を与えるので、O8等の金属薄膜被
覆およびカップ、スリーブとの組合せの前に、該余剰物
質を物理的あるいは化学的に除去する工程を設ける必要
があった・ 電子管用として用いられる陰極の多孔質基体は直径が約
1mmと小さいことから、上記余剰電子放出物質除去工
程は極めて複雑な作業となる。
本発明の目的は、上記従来技術の有していた課題を解決
して、安定した電子放出特性を有する陰極を容易にかつ
確実に得ることのできる含浸形陰極の製造方法を提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、下記工程からなる製造方法とすることによ
って達成することができる。
a、 W等の耐熱多孔質物質およびBa等を含む電子放
出物質の粉末をそれぞれ顆粒化する工程、b、上記の顆
粒を所定の割合で秤量、混合する工程、 c、上記混合体を所定の形状にプレス成形する工程、 d、上記プレス成形体を水素中もしくは真空中あるいは
非酸化性雰囲気中電子放出物質の融点以下で焼結する工
程、 e、上記焼結体を高融点金属製カップ、高融点金属製ス
リーブと組合せて陰極完成品とする工程。
なお、上記dの焼結工程の後に焼結体表面にOs、Ir
、 Ru等を含む金属薄膜を設ける工程を付加すること
によって陰極の電子放出特性をさらに向上させることが
できる。
[作用コ 上記の手順においては、多孔質基体材料と電子放出物質
とを予め所定の割合で混合した混合物のプレス成形体を
焼結させるので、焼結終了時点で電子放出物質を含有す
る焼結体が得られ、従来技術の場合のように焼結体を作
成した後に改めて電子放出物質を溶融含浸させる必要が
ない。
また、焼結が電子放出物質の融点以下で行われるので、
電子放出物質の溶融流出がなく、従来技術の場合のよう
な余剰電子放出物質除去の工程が不要となる。
これらによって製造工程の簡略化が可能となる。
[実施例] 以下1本発明の含浸形陰極の製造方法について実施例に
よって具体的に説明する。
第1図は本発明方法の手順を示す工程図で、以下、図に
よって工程を説明する。すなわち、まず、W粉末(平均
粒径5 ta )に1.25%のポリメチルメタクリレ
ートをバインダとして添加、アセトン中に分散し、アセ
トン液を撹拌しながらアセトンを徐々に揮発させてW粉
末を顆粒化し、該顆粒を200メツシユの篩で分粒した
。一方、Bac、,、Cac、,、AI、0、の粉末を
モル比で4:l:lの割合となるように秤量、混合し、
該混合物を水素雰囲気中1100℃a1700℃の2段
階で熱処理して、Bac、イCac、,のBad、 C
aOへの分解(1100℃)とともにBa−Caアルミ
ネートの合成(1700℃)を行い、該合成物を粉砕し
た後、上記讐粉末の場合と同様にして顆粒化を行い、4
00メツシユの篩で分粒した。次いで、分粒した上記W
顆粒とBa−Caアルミネート顆粒とを体積比で8:2
となるように秤量、混合し、該混合体を直径1.25m
mの円筒状プレス型を用い5ton/crlのプレス圧
力でプレスし、高さ0.5mmのプレス成形体(ペレッ
ト)を作成した。次に、上記プレス成形体を水素雰囲気
中で1000℃=>1800℃の2段階熱処理を行い、
基本型の含浸形陰極を作成した。ここで、1000℃の
処理は上記粉末の顆粒化の際にバインダとして用いたポ
リメチルメタクリレートを分解・蒸発させる目的のため
に行うものであり、分解後に炭素残渣を残さないように
する必要があるので、この温度は600〜1200℃の
範囲の中から選ぶことができる。また、2段階目の18
00℃処理はW粉末同士の焼結および電子放出物質同士
あるいは電子放出物質とW粉末との固着を目的とするも
のであり、この温度は電子放出物質の融点以下(該物質
の内容によって異なるが、2000℃以下が目安)とす
る。
次に、以上のようにして作成した基本型の含浸形陰極を
0s−20%Ruターゲットを有するスパッタ装置の基
板上に置き、装置を5X10−”Pa程度まで真空排気
した後、アルゴン(Ar)ガスを導入(30SCCII
I) L/、圧力を0,8Paとして高周波スパッタリ
ングを行い、陰極表面に550nm厚さの0s−20%
Ru膜を形成した。この陰極をカップ、スリーブおよび
ヒータと組合せ、圧力】0−“Pa以下の真空容器中2
極菅構成で零電界における飽和電流密度を測定したその
結果、電子放出特性は従来技術の製造方法により製造し
た含浸形陰極と全く差は認められず、また、陰極試料間
のばらつきが小さいという結果が得られた。
なお、上記0s−Ru膜の形成について、2元ターゲッ
ト、すなわちOsとRuと独立のターゲットを用いて同
時にスパッタリングを行った場合にも全く同様の結果が
得られた。
[発明の効果] 以上述べてきたように、含浸形陰極の製造方法を本発明
構成の製造方法とすることによって、従来技術の有して
いた課題を解決して、安定した電子放出特性を有する陰
極を容易にかつ確実に得ることのできる含浸形陰極の製
造方法を提供することができた。従来技術における電子
放出物質の加熱溶融・含浸工程および含浸後の余剰電子
放出物質除去工程を省略することができることにより、
コスト低減効果と同時に陰極間の特性のばらつきを小さ
くすることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の含浸形陰極の製造方法の手順を示す工
程図、 第2図は従来技術における含浸形 陰極の製造方法の手順を示す工程図である。 第 図 第2 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記工程からなることを特徴とする含浸形陰極の製
    造方法。 a、多孔質物質および電子放出物質の粉末をそれぞれ顆
    粒化する工程、 b、上記の顆粒を所定の割合で秤量、混合する工程、 c、上記混合体を所定の形状にプレス成形する工程、 d、上記プレス成形体を水素中もしくは真空中あるいは
    非酸化性雰囲気中電子放出物質の融点以下で焼結する工
    程、 e、上記焼結体を高融点金属製カップ、高融点金属製ス
    リーブと組合せて陰極完成品とする工程。
JP26390490A 1990-10-03 1990-10-03 含浸形陰極の製造方法 Pending JPH04141929A (ja)

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