JPH04142549A - 有機光導電性物質の分散液製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に好適な有機光導電性物質特に
光導電性アゾ顔料の分散液の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、無機光導電性物質からなる電子写真感光体として
は、セレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等を用いたもの
が広く用いられてきた。

一方、有機光導電性物質からなる電子写真感光体として
は、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールに代表される光導電
性ポリマーや２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾールの如き低分子の有
機光導電性物質を用いたもの、更には有機光導電性物質
と各種の染料や顔料を組合せたもの等が知られている。

有機光導電性物質を用いた電子写真感光体は成膜性がよ
く、塗設により生産できること、極めて生産性が高く、
コストが安価であることなどの利点を有している。又、
使用する染料や顔料等の増感剤の選択により、感色性を
自在にコントロールできる等の利点を有し、これまで幅
広い検討がなされてきた。特に、最近では有機光導電性
顔料からなる層を電荷発生層とし、これに前述の光導電
性ポリマーや低分子の有機光導電性物質等からなる、電
荷輸送層を積層した機能分離型感光体の開発により、従
来の有機電子写真感光体の欠点とされていた感度や耐久
性に著しい改善がなされ、実用化が促進されるようにな
ってきた。

更に、機能分離型感光体に適応するアゾ顔料などの各種
顔料も既に見い出されている。

この種の電子写真感光体は、その感度及び分光特性が電
荷発生物質である顔料の粒子径及び結晶形によって影響
を受けることが知られている。

従来の方法では、合成反応によって製造した顔料を数時
間から数十時間にわたってバインダとともにボールミル
、サンドミル、アトライタなどを用いて溶剤中に分散し
、光導電性組成物（分散液）を得る方法が採用されてい
る。

しかしこのように顔料を溶剤中でそのまま分散する方法
では、分散時に顔料の練りが不充分であると、分散液中
に未分散小塊か残り易く、均一な粒子を含む分散液を得
ることか困難であった。このような未分散小塊の粗大粒
子を含有する光導電性組成物を用いて作製した電子写真
感光体は、被蔽力の低下Ｉこ伴なうキャリア発生効率の
低下、粗大粒子による空隙率の増大によるキャリア移動
度の低下を起し、更に電荷発生層表面の粗面性が大きく
電荷輸送層に対するキャリア注入効率の低下など感度の
悪化を惹起する。

前記のように分散質の分散性か不充分であると塗布前に
沈降、凝集を起し易いので塗布前に再度分散処置が必要
である。

又液物性として揺変を起すことが多いので沈降防止と併
せて分散液を循環流動させる等の処置を施し、粘度等塗
布物性を一定に保つ等工程の複雑化、コストアップ、管
理煩雑等生産技術上の問題が多く、分散液の塗布性、分
散性等の特性安定化が望まれる。これら塗布性、分散性
は分散質である光導電性物性と分散媒である樹脂バイン
ダ溶剤溶液に影響される所大であるので、使用溶剤、使
用バインダ樹脂の種類の選定は重要であり、官能基を導
入した変性樹脂が種々検討されている。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、光導電性物質を分散含有する樹脂バイ
ンダ溶剤溶液からなる安定性のよい分散液の製造方法の
提供にある。

〔発明の構成〕

前記した本発明の目的は、樹脂バインダ溶剤溶液中に有
機光導電性物質を分散した分散液の製造方法において、
前記樹脂バインダに水酸基量１４〜２７ｍｏｆ２％のブ
チラール樹脂（ポリビニルブチラール樹脂）を含有する
ことを特徴とする有機光導電性物質の分散液製造方法に
よって達成される。

本発明に係るポリビニルブチラール樹脂は下記一般式〔
ｖ〕で表される繰返し単位を有している。

一般式〔Ｖ〕 式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基を表す。又、
ａ　、ｂ　、ｓ及びｈは重合度を表す。

一般にポリビニルブチラール樹脂は、その組成によって
物理的及び化学的性質が変化し、又その重合度によって
機械的性質、溶液粘性が変動する。

本発明に係る電荷発生層（ＣＧＬと標記）のバインダに
用いるポリヒニルブチラールは、ポリ酢酸ビニル樹脂を
鹸化し、酢酸ビニル部分（一般式〔Ｖ〕において重合度
指数Ｓを付した構造単位）を残すポリヒニルアルコール
樹脂を製造し、重合度指数りを付したビニルアルコール
構造単位を残す条件を選んで、ホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド、プロピルアルデヒドの少なくとも１つで
重合度指数ａを付したアセタール化構造単位及びブチル
アルデヒドを用いて重合度指数すを付したブチラール化
構造単位を形成した共重合体樹脂であって、ブチラール
化度は５０モル％以上が好ましく、又、（ａ十ｂ）は５
０モル％以上が好ましい。

且つ重合度として２００以上が必要である。尚上限とし
ては１００００以下、好ましくは５０００以下である。

本発明に用いられるポリビニルブチラール樹脂ま前記一
般式〔ｖ〕におイテ、ｈ：１４〜２７ｍ０ｒ１％のもの
である。

溶剤としては、メタノール、エタノール、イングロビル
アルコール等のアルコール系溶剤、ベンゼン、トルエン
、キンレン、クロルベンゼン等の芳香族系溶剤、エチル
エステル、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル系溶剤
、ＴＨＦｌ　ジオキサン、メチルセロソルブ等のエーテ
ル系溶剤、アセトン、メチルユチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン系溶剤、ＤＭＦ、　ＤＭＡＣ等が使用
できるが、好ましくはケトン系溶剤を使用する。

又分散機としては、ボールミル、サンドミル、アトライ
タ等のメディア型分散機、撹拌機、ホモジナイザ等のメ
ディアレス型分散機、マントンゴーリン等の圧力分散機
、超音波分散機を使用する。

本発明に用いる光導電性物質は、下記一般式ＣＦ）で表
される有機光導電性アゾ顔料であるこ一般式ＣＦ） ○ 式中Ｘはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニ
トロ基、シアン基、ハイドロオキシ基を表し、Ａはフェ
ノール性水酸基及びカルバモイル基を有するカプラー残
基である。

特に本発明の態様においては、前記一般式〔Ｆ〕で表さ
れるフルオレノン系ジスアゾ顔料が下記−般式〔Ｆ、〕
で表される顔料の場合ポリビニルブチラール樹脂と組合
せる効果が大きい。

一般式〔Ｆ１〕 式中Ｘは前記と同義であり、 特にＢｒ又は■であ ることが効果的である。Ｒ１−Ｒ５は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキン基、シアノ基又はニト
ロ基である。

本発明に用いられる前記一般式〔Ｆ１〕で表されるフル
オレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法により容易に合
成され、例えば特願昭６２−３０４８６２号等の方法に
より合成される。

本発明においては、ハロゲン系溶媒、例えばエチレンク
ロライド、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化
炭素、塩化エチリデン（１，１−ジクロルエタン）、１
，１．１−トリクロルエタン、１，１．１．２テトラク
ロルエタン、１．２−ジクロルエチレン、トリクロルエ
チレンなどで予備処理して分散性を上げてもよく、単独
又は２種以上を混合して用いることができる。

前工程として上記のようにハロゲン系溶剤で前処理が施
された顔料は、次に分散工程に移される。

バインダ樹脂としては、本発明に係るポリビニルブチラ
ールの外に、本発明の目的を損わぬ程度にホルマール樹
脂、ポリアミド、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポ
リエステル、ポリサルホン、スチレン系樹脂、ポリカー
ボネート、アクリル系樹脂を併用してもよい。

機能分離型電子写真感光体において、電荷発生層（ＣＧ
Ｌと標記）は、前記分散液を導電性支持体上に直接ない
しは下引層（ＵＣＬと標記）上に塗設することによって
形成できる。又、下述の電荷輸送層（ＣＴＬと標記）の
上に塗設することによっても形成できる。ＣＧＬの膜厚
は、５μｍ以下、特に０．０１〜５μｍの膜厚をもつ薄
膜層とすることが望ましい。それは入射光量の大部分が
ＣＧＬで吸収されて多くの電荷キャリアを生成すること
、更には発生した電荷キャリアを再結合やトラップによ
り失活することなく　ＣＴＬに注入する必要があるため
である。

又大量生産の場合、液物性の変化が大きいと、均一に塗
膜することが困難になる。

従って、流動特性はニュートン流動性を有することが好
ましい。

塗設は、浸漬コーティング法、スプレイコーティフグ法
、スピンナコーティング法、ビードコーティング法、ワ
イヤバーコーティング法、ブレートコティング法、ロー
ラコーティング法、カーテンコーティング法などのコー
ティング法を用いて行うことができる。乾燥は、室温に
おける予備乾燥後、加熱乾燥する方法か好ましい。加熱
乾燥は、３０°Ｃ〜２００°Ｃの温度で５分〜２時間、
静止又は送風下で行うことができる。

ＣＴＬは前記ＣＧＬと電気的に接続されており、電界の
存在下でＣＧＬから注入された電荷キャリアを受は取る
とともに、これらの電荷キャリアを表面まで輸送できる
機能を有している。この際、このＣＴＬはＣＧＬの上に
積層されていてもよく、又その下に積層されていてもよ
い。しかし、ＣＴＬはＣＧＬの上に積層されていること
が望ましい。

ＣＴＬにおける電荷キャリアを輸送する物質；即ち電荷
輸送物質（ＣＴＭと標記）は、前述のＣＧＬが感応する
電磁波の波長域に実質的に非感応性であることが好まし
い。

ＣＴＭには電子輸送性物質と正孔輸送性物質があるが、
用いるＣＴＭとしては光照射時発生するホールの支持体
側への輸送能力か優れている外、前記本発明に用いられ
る有機系顔料との組合せに好適なものか好ましく、かか
るＣＴＭとしては、下記−般式（Ｔ−Ａ）、（Ｔ　−Ｂ
　）で表されるスチリル化合物及び（Ｔ−Ｃ）で表され
るジスチリル化合物が挙げられる。

一般式（Ｔ　−Ａ） この一般式中、Ｒ、、、Ｒ，２は置換若しくは無置換の
次記２つの基；アルキル基、アリール基を表し、置換基
としてはアルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、水
酸基、ノ＼ロゲン原子、アリール基が挙げられる。

Ａｒｓ、　Ａｒｓは置換若しくは無置換のアリール基を
表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、置換
アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、アリール基がある。

Ｒ１３＋　Ｒ１４は置換若しくは無置換のアリール基、
水素原子を表し、置換基としては、アルキル基、アルコ
キシ基、置換アミン基、水酸基、ハロゲン原子、アリー
ル基が挙げられる。

上記一般式（Ｔ−Ａ）で表される化合物は、例えば特開
昭５８−６５４４０号、同５８−１９８４２５号、同５
８−１９８０４３号、同６０−９３４４５号、同６０−
９８４３７号等に記載されている。

一般式（Ｔ−Ｂ） この一般式中、Ｒ１６は置換若しくは無置換のアリール
基、ＲＩＭは水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無
置換のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、置換アミ
ノ基、水酸基、Ｒ１７は置換若しくは無置換の次記２つ
の基ニアリール基、ヘテロ環基を表す。

前記化合物は例えば特開昭５７−１４８７５０号に記載
されている。

一般式（Ｔ−Ｃ） Ａｒ１Ｎ＝　（Ａｒｚ　　ＣＨ＝ＣＡｒｘ）２式中、Ａ
ｒ、は、置換若しくは無置換の統記３つの基；アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基を表す。

Ａｒ２は、置換若しくは無置換の次記２つの基：アリー
レン基、２価へテロ環基を表す。括弧内の２つのＡｒ、
は同じでも異っていてもよい。

Ａｒ、は、置換若しくは無置換の次記２つの基；アリー
ル基、ヘテロ環基を表す。括弧内の２つのＡｒ、は同じ
でも異っていてもよい。

Ｒ１は、水素原子、シア、／基、置換若しくは無置換の
統記３つの基；アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を
表し、又、Ａｒ３と共同して環を形成してもよい。

又、ＣＴＭとして次の一般式（Ｔ　−Ｄ）又は（ＴＥ）
のヒドラゾン化合物も使用可能である。

般式（Ｔ　−Ｄ） この一般式中、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ水素原子
又はハロゲン原子、Ｒｚｏ及びＲ２、はそれぞれ置換若
しくは無置換のアリール基、Ａｒｙは置換若しくは無置
換のアリーレン基を表す。

上記化合物は例えば特開昭５７−７２１４８号に記載さ
れている。

一般式（Ｔ、−Ｅ　） この一般式中、 Ｒ３４は置換若しくは無置換の次 記２つの基ニアリール基、複素環基、Ｒ３Ｓは水素原子
、置換若しくは無置換の次記２つの基；アラルキル基、
アリール基、Ｑは、水素原子、７１０ゲン原子、アルキ
ル基、置換アミン基、アルコキシ基又はシアノ基を表し
、ＳはＯ又はｌの整数を表す。

又、ＣＴＭとしてピラゾリン化合物も使用可能である。

上記化合物は例えば特開昭５８−１３４６４２号、同５
８１６６３５４号等に記載されている。

その他有用なＣＴＭとしては、例えば特開昭５７−６４
２４４号、同５９−１５２５２号、同５７−６７９４０
号、同５５−２２８５号、同５７−１９５２５４号、同
５６−４１４８号等に記載のものが挙げられる。

又、これらのＣＴＭは、１種に限らず２種以上を組合せ
て用いることができる。

ＣＴＭが成膜性を有していない時には、適当なバインダ
を選択することによって被膜形成できる。

バインダとして使用できる樹脂は、例えばポリアクリレ
ート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン
、アクリロニトリル−スチレンコポリマー　アクリロニ
トリルーブタジエンコポリマポリヒニルブチラール、ポ
リビニルアルコール、ポリスルホン、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、塩素化ゴムなとの絶縁性樹脂、或はポ
リーＮヒニルカルバゾール、ポリヒニルアントラセン、
ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマーを挙げる
ことができる。

ＣＴＬは、電荷キャリアを輸送できる限界があるので、
必要以上に膜厚を厚くすることができない。

−船釣には、５〜３０μｍであるが、好ましい範囲は８
〜２０μｍである。塗設によってＣＴＬを形成する際に
は、前述した様な適当なコーティング法を用いることが
できる。

この様なＣＧＬとＣＴＬの積層構造からなる感光層は、
導電性支持体の上に設けられる。導電性支持体としては
、支持体自体が導電性をもつもの、例えばアルミニウム
、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、バナジウ
ム、モリブデン、クロム、チタン、ニッケル、インジウ
ム、金や白金などを用いることができ、その他にアルミ
ニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム、酸化錫、
酸化インジウム−酸化錫合金など真空蒸着法によって被
膜形成された層を有するプラスチック、導電性粒子（例
えば、カーボンブラック、錫粒子など）を適当なバイン
ダとともに前記金属やプラスチックの上に被覆した支持
体、導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支持体や
導電性を与えたプラスチックなどを用いることができる
。

導電性支持体と感光層の中間に、バリア機能と接着機能
をもつＵＣＬを設けることもできる。ＵＣＬは、カゼイ
ン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレ
ン−アクリル酸コポリマー　ポリアミド（ナイロン６、
ナイロン６６、ナイロン６１０、共重合ナイロン、アル
コキシメチル化ナイロンなど）、ポリウレタン、ゼラチ
ン、酸化アルミニウムなどによって形成できる。

ＵＣＬの膜厚は、０．１−５μｍ１好ましくは０．３−
３１である。

導電性支持体、ＣＧＬ、　ＣＴＬの順に積層した感光体
を使用する場合においてＣＴＭが電子輸送性物質からな
るときは、ＣＴＬ表面を正に帯電する必要があり、帯電
後露光すると露光部ではＣＧＬにおいて生成した電子が
ＣＴＬに注入され、そのあと表面に達して正電荷を中和
し、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コント
ラストが生じる。この様にしてできた静電潜像を負荷電
性のトナーで現像すれば可視像が得られる。これを直接
定着するか、或はトナー像を紙やプラスチックフィルム
等に転写後、現像し定着することができる。

又、感光体上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後現
像し、定着する方法もとれる。現像剤の種類や現像方法
、定着方法は公知のものや公知の方法のいずれを採用し
てもよく、特定のものに限定されるものではない。

一方、ＣＴＭが正孔輸送性物質から成る場合、電荷輸送
表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光すると露
光部ではＣＧＬにおいて生成した正孔がＣＴＬに注入さ
れ、その後表面に達して負電荷を中和し、表面電位の減
衰が生じ未露光部との間に静電コントラストが生じる。

現像時には電子輸送性物質を用いた場合とは逆に正電荷
性トナーを用いる必要がある。

本発明の別の具体例としては、前記光導電性有機アゾ顔
料をＣＴＭとともに同一層に含有させた電子写真感光体
を挙げることができる。この際、前記のＣＴＭの他にポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノン
からなる電荷移動錯化合物を用いることができる。

この例の電子写真感光体は、前述の有機光導電体と電荷
移動錯化合物をテトラヒドロフランに溶解しｔ：ポリエ
ステル溶液中に分散させた後、被膜形成させて調製でき
る。

いずれの感光体も少なくとも１種類の顔料を含有し、必
要に応じて光吸収の異なる顔料を組合せて使用した感光
体の感度を高めたり、パンクロマチックな感光体を得る
などの目的で顔料を２種以上使用することも可能である
。

本発明の顔料分散液から作成した電子写真感光体は電子
写真複写機に利用するのみならず、レーザプリンタ、Ｃ
ＲＴプリンタ等の電子写真応用分野ｌこも広く用いるこ
とができる。

本発明において感光層には感度の向上、残留電位乃至反
復使用時の疲労低減等を目的として、種又は二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水７タル酸、その他の電子親和力の大きい化
合物を用いることができる。

又、電子受容性物質の添加割合は、重量比で本発明に用
いられる有機系顔料：電子受容性物質−１００：　０．
０１〜２００、好ましくは１００　：　０．１〜１００
である。

かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で全Ｃ
ＴＭ　：電子受容性物質−１００：　０．０１〜１００
、好ましくは１００：０．１〜５０である。

又、本発明の感光層中にはＣＧＭの電荷発生機能を改善
する目的で有機アミン類を添加することができ、特に２
級アミンを添加するのが好ましい。

これらの化合物は特開昭５９−２１８４４７号、同６２
−８１６０号に記載されている。

又、本発明の感光層においては、オゾン劣化防止の目的
で酸化防止剤を添加することができる。

かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に示すが、これ
に限定されるものではない。

Ｉ　−群；ヒンダードフェノール類、■−群；バラフェ
ニレンジアミン類、ト群；ハイドロキノン類、■−群；
有機硫黄化合物類、■−群；有機燐化合物類が挙げられ
る。

これらの化合物は例えば特開昭６３−１８３５４号に開
示されている。

これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。

酸化防止剤の添加量はＣＴＭ１００重量部に対して０．
１〜１００重量部、好ましくは１〜５０重量部、特に好
ましくは５〜２５重量部である。

又本発明の感光体には、その他、必要により感光層を保
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、又感色
性補正の染料を含有してもよい。

又本発明に係る保護層中には加工性及び物性の改良（亀
裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要により熱可塑
性樹脂を５０ｗｔ％未満含有せしめることかできる。

又、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として機
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例えはポリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。

本発明の感光体は、第１図及び第２図に示すように導電
性支持体１上にＣＧＭを主成分とするＣＧＬ　２とＣＴ
Ｍを主成分として含有するＣＴＬ　３との積層体より成
る感光層４を設ける。９ｇ３図及び第４図に示すように
この感光層４は、導電性支持体ｌ上に設けたＵＣＬ　５
を介して設けてもよい。このように感光層４を二層構成
としたときに最もすぐれた電子写真特性を有する電子写
真感光体が得られる。又本発明においては、第５図及び
第６図に示すように前記ＣＴＭを主成分とする層６中に
微粒子状のＣＧＭ７を分散してなる感光層４を導電性支
持体ｌ上に直接或は、ＵＣＬ　５を介して設けてもよい
。

更に前記感光層４の上には必要に応じ保護層８を設けて
もよい。

又、二層構成の感光層４を構成するＣＧＬ　２は、導電
性支持体１もしくはＣＴＬ　３上に直接或は必要に応じ
て接着層もしくはブロッキング層などの中間層を設けた
上に、形成することができる。

このようにして形成されるＣＧＬ　２の厚さは、前記し
たように０．０１〜５μｍであることが好しく、更に好
しくは０．０５〜３μｍである。

一方ＣＴＬ　３の厚さは、必要に応じて変更し得るが通
常５〜３０μｍであることが好ましい。このＣＴＬ３に
おける組成割合は、本発明のＣＴＭ　１重量部に対して
バインダ０．１〜５重量部とするのが好ましいが、微粒
子状のＣＧＭを分散せしめた感光層４を形成する場合は
、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部以下の
範囲で用いることが好ましい。

又ＣＧＬをバインダ中分散型のものとして構成する場合
には、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部以
下の範囲で用いることが好ましい。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これにより
本発明の実施態様が限定されるものではない。

実施例１ 下記構造のジスアゾ顔料１２．０ｇと 水酸基量２７ｍｏ７１％、２０ｍｏｆ２％、１４ｍｏｌ
％を有するブチラール樹脂４ｇをＭＥＫ　６００ｍ１ｌ
中で分散処理を行っｊこ　。

分散機としてはサンドミル装置を使用し、分散時間は４
時間である。

得られた分散液について分散安定性を液粘度及び粘度分
布測定装置を用いて評価を行い、第７図及び第８図に示
す結果を得た。

１ケ月以上経過しても安定な分散液が得られた。

又良好な塗布性も確保できた。

比較例１ 同様のジスアゾ顔料１２．０ｇと水酸基量３５ｍｏｆｆ
％、２９ｍｏｌ％、ｌＱｍｏ１２％を有するブチラール
樹脂４ｇをＭＥＫ　６００ｍ（２中で同様にサンドミル
装置を使用し分散処理を行っｔ：。

同様に得られた分散液について分散安定性を評価し、第
９図及び第１Ｏ図に示す結果を得た。

時間経過とともに凝集をおこし安定な分散液は確保でき
なかった。

〔発明の効果〕

以上で明らかな如く、本発明の製造方法によれば分散後
の凝集状態が経時的に変化し難い有機光導電性材料の分
散液を提供することができ、大量生産時においても、均
一塗布が可能である。

又、感度は変化せず、高感度特性を発揮できる電子写真
感光体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１〜６図は本発明に係る感光体の断面図である。 又第７図及び第９図並びに第８図及び第１Ｏ図は実施例
、比較例によって得られた分散液のＯ〜３０日間静置の
粘度並びに分散粒子径の変化を示す図である。 ｌ・・・導電性支持体 ２・・・電荷発生層（ＣＧＬ） ３・・・電荷輸送層（ＣＴＬ） ４・・・感光層 ５・・・下引層（ＵＣＬ） ６・・・単層感光層 ７・・・電荷発生物買（ＣＧＭ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）樹脂バインダ溶剤溶液中に有機光導電性物質を分
   散した分散液の製造方法において、前記樹脂バインダに
   水酸基量１４〜２７ｍｏｌ％のブチラール樹脂を含有す
   ることを特徴とする有機光導電性物質の分散液製造方法
   。
2. （２）前記有機光導電性物質が下記一般式〔Ｆ〕で表さ
   れる有機導電性アゾ顔料であることを特徴とする請求項
   １に記載の有機光導電性物質の分散液の製造方法。 一般式〔Ｆ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ａはフェノール性水
   酸基及びカルバモイル基を有するカプラー残基を表す。 〕