JPH04143916A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH04143916A JPH04143916A JP2267701A JP26770190A JPH04143916A JP H04143916 A JPH04143916 A JP H04143916A JP 2267701 A JP2267701 A JP 2267701A JP 26770190 A JP26770190 A JP 26770190A JP H04143916 A JPH04143916 A JP H04143916A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- polyethylene terephthalate
- vapor
- tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する磁気記録媒体に関す
る。
る。
従来の技術
近年の磁気記録の高密度化は１ビツトの面積が３μ２以
下にまで進み、更に１μ２以下を目指して開発が進めら
れている。かかる記録密度で十分な信号の質、Ｃ／Ｎを
得ようとすると、磁気記録層は、磁化容易軸の方向に無
関係に、強磁性金属薄膜の適用が不可欠である。
下にまで進み、更に１μ２以下を目指して開発が進めら
れている。かかる記録密度で十分な信号の質、Ｃ／Ｎを
得ようとすると、磁気記録層は、磁化容易軸の方向に無
関係に、強磁性金属薄膜の適用が不可欠である。
強磁性金属薄膜を磁気記録層として実用レベルに入って
いるものとして、メツキ法、スパッタリング法で形成し
たＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系の薄膜を用いたハー
ドディスクと、電子ビーム蒸着法で形成したＧｏ−Ｎｉ
−０系薄膜を用いた蒸着テープ（ＭＥ’）とがある。
いるものとして、メツキ法、スパッタリング法で形成し
たＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系の薄膜を用いたハー
ドディスクと、電子ビーム蒸着法で形成したＧｏ−Ｎｉ
−０系薄膜を用いた蒸着テープ（ＭＥ’）とがある。
蒸着テープは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上
に微粒子塗布層を設け、その上に斜め蒸着によりＣｏ−
Ｎｉを部分酸化薄膜として形成し、更に潤滑層を配し、
磁気記録層の反対面にバックコート層を配したものが一
般的である。
に微粒子塗布層を設け、その上に斜め蒸着によりＣｏ−
Ｎｉを部分酸化薄膜として形成し、更に潤滑層を配し、
磁気記録層の反対面にバックコート層を配したものが一
般的である。
蒸着テープ用途に用いているポリエチレンテレフタレー
トフィルムは、要求される電磁変換特性から、表面粗さ
に制約があり、内在粒子を含まないか、含むとしても５
００Ａ以下の微粒子が吟味され用いられ、バックコート
層をせずとも十分な走行性能を与えるための積層型フィ
ルムも一部検討されている〔特開昭６０−１１５０２２
号公報、特開平１−３１６２６６号公報等〕。
トフィルムは、要求される電磁変換特性から、表面粗さ
に制約があり、内在粒子を含まないか、含むとしても５
００Ａ以下の微粒子が吟味され用いられ、バックコート
層をせずとも十分な走行性能を与えるための積層型フィ
ルムも一部検討されている〔特開昭６０−１１５０２２
号公報、特開平１−３１６２６６号公報等〕。
これ等は、遮光性、帯電防止性、易滑性等をバランス良
く改善することを狙ったもので、ポリエステルフィルム
中にカーボン粒子を含んだ系を基本としている。
く改善することを狙ったもので、ポリエステルフィルム
中にカーボン粒子を含んだ系を基本としている。
発明が解決しようとする課題
単層のポリエチレンテレフタレートフィルム。
或いは上記したようなタイプの積層フィルムを用い、蒸
着テープの全厚を１０μｍ以下で構成した時、最も高密
度化に適している回転ヘリカルスキャンのシステムで、
１０μ以上のテープとの互換性を保ち十分なＣ／Ｎを確
保することができず改善が望まれている。本発明は上記
した事情に鑑みなされたもので、エンベロープの確保が
容易な蒸着テープを提供するものである。
着テープの全厚を１０μｍ以下で構成した時、最も高密
度化に適している回転ヘリカルスキャンのシステムで、
１０μ以上のテープとの互換性を保ち十分なＣ／Ｎを確
保することができず改善が望まれている。本発明は上記
した事情に鑑みなされたもので、エンベロープの確保が
容易な蒸着テープを提供するものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体は
、ポリエチレンテレフタレートフィルムとポリエチレン
ナフタレートフィルムの２層押し出しフィルムで、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム側に蒸着磁性層を配し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム層よりもポリエ
チレンナフタレートフィルム層を高ヤング率に構成した
ものである。
、ポリエチレンテレフタレートフィルムとポリエチレン
ナフタレートフィルムの２層押し出しフィルムで、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム側に蒸着磁性層を配し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム層よりもポリエ
チレンナフタレートフィルム層を高ヤング率に構成した
ものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、磁気ヘッ
ドとの接触状態が、両側にヤング率の高い層があること
で改善されると共に、全体の柔軟性も実効的に、テープ
厚みが厚くなったように構成されるので、互換性も改善
されることになる。
ドとの接触状態が、両側にヤング率の高い層があること
で改善されると共に、全体の柔軟性も実効的に、テープ
厚みが厚くなったように構成されるので、互換性も改善
されることになる。
実施例
（実施例１）
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について詳
しく説明する。第１図は本発明の一実施例の磁気記録媒
体の拡大断面図である。第１図で１は積層フィルムで、
ポリエチレンテレフタレート層２とポリエチレンナフタ
レート層３から成り、ポリエチレンナフタレート層３の
方がポリエチレンテレフタレート層２より、ヤング率を
大きく構成する。ヤング率は、１．２〜１．６倍が好ま
しい。１．２倍以下では、磁気ヘッドとのあたり状態が
全厚の大きいテープと興なってきて互換性が低下し、１
．６倍以上では、磁気ヘッドとの接触が低下しスペーシ
ング損失が目立ってくるからである。４は蒸着磁性層で
、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ。
しく説明する。第１図は本発明の一実施例の磁気記録媒
体の拡大断面図である。第１図で１は積層フィルムで、
ポリエチレンテレフタレート層２とポリエチレンナフタ
レート層３から成り、ポリエチレンナフタレート層３の
方がポリエチレンテレフタレート層２より、ヤング率を
大きく構成する。ヤング率は、１．２〜１．６倍が好ま
しい。１．２倍以下では、磁気ヘッドとのあたり状態が
全厚の大きいテープと興なってきて互換性が低下し、１
．６倍以上では、磁気ヘッドとの接触が低下しスペーシ
ング損失が目立ってくるからである。４は蒸着磁性層で
、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ。
Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｈ
、Ｃｏ−Ｎｉ−０等の単層、積層いずれでもよ（、磁化
容易軸の方向についても特に限定されるものではない。
、Ｃｏ−Ｎｉ−０等の単層、積層いずれでもよ（、磁化
容易軸の方向についても特に限定されるものではない。
電子ビーム蒸着法によって形成したらよいが、スパッタ
方で形成しても本発明の効果は全（変わらない。５は保
護潤滑層で、酸化膜、炭化膜、有機重合膜、炭素膜等と
脂肪酸アミド、シリコーン油等との組み合わせかパーフ
ルオロポリエーテル等の潤滑剤を混合したもの等で、湿
式塗布法、気相蒸着法等の公知の手法によってスペーシ
ング損失を考慮して構成すればよい。６は、樹脂と炭素
、 Ａｅ ２０３．Ｃａ Ｃｏ３等のフィラーを配合し
たバックコート層で、潤滑剤を内蔵したタイプのもので
あってもよい。
方で形成しても本発明の効果は全（変わらない。５は保
護潤滑層で、酸化膜、炭化膜、有機重合膜、炭素膜等と
脂肪酸アミド、シリコーン油等との組み合わせかパーフ
ルオロポリエーテル等の潤滑剤を混合したもの等で、湿
式塗布法、気相蒸着法等の公知の手法によってスペーシ
ング損失を考慮して構成すればよい。６は、樹脂と炭素
、 Ａｅ ２０３．Ｃａ Ｃｏ３等のフィラーを配合し
たバックコート層で、潤滑剤を内蔵したタイプのもので
あってもよい。
積層フィルムの厚み配分は、全厚が薄（なる程ポリエチ
レンナフタレート層の比率を増大させるのがよいが磁気
テープとして使用される好ましい範囲の全厚１０μ〜５
μｍでは５０％から７５％の比率が好ましい。
レンナフタレート層の比率を増大させるのがよいが磁気
テープとして使用される好ましい範囲の全厚１０μ〜５
μｍでは５０％から７５％の比率が好ましい。
以下、更に具体的に本発明の一実施例について比較例と
の対比で説明する。
の対比で説明する。
ポリエチレンテレフタレートとジエチレングリコールの
比率を調整すると共に、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レンジカルボキシレートと、２゜６−ナフタレンジカル
ボン酸の比率を調整し、溶融、成形、二軸延伸、熱固定
から成る通常の製膜工程で溶融押し出し機から口金まで
の間で積層し、延伸倍率と熱固定条件を調整し、ヤング
率を調整した積層フィルムを準備した。
比率を調整すると共に、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レンジカルボキシレートと、２゜６−ナフタレンジカル
ボン酸の比率を調整し、溶融、成形、二軸延伸、熱固定
から成る通常の製膜工程で溶融押し出し機から口金まで
の間で積層し、延伸倍率と熱固定条件を調整し、ヤング
率を調整した積層フィルムを準備した。
比較例のベースは、芳香族ポリイミドフィルムと、ポリ
エチレンナフタレートフィルム単独のものを含めて準備
した。実施例、比較例共に、溶液塗布法で、ポリスルフ
ォン微粒子（直径２２０Ａ〉を平均１２ケ／μ２塗布し
、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、入射角３
６度から１２度の範囲でＣｏを酸素中で蒸着し、ＣＯ−
〇垂直磁化膜〔飽和硫東密度６９００ （Ｇ）、垂直保
磁力１２００ （Ｏｅ））を０．２μｍ形成し、更にそ
の上にパーフルオロポリエーテルオレイルを５０Ａ塗布
し、反対側の面に、ポリエステル樹脂と等量のカーボン
を含むバックコート層を０．４μｍ形成し、８ミリ幅の
磁気テープに加工した。
エチレンナフタレートフィルム単独のものを含めて準備
した。実施例、比較例共に、溶液塗布法で、ポリスルフ
ォン微粒子（直径２２０Ａ〉を平均１２ケ／μ２塗布し
、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、入射角３
６度から１２度の範囲でＣｏを酸素中で蒸着し、ＣＯ−
〇垂直磁化膜〔飽和硫東密度６９００ （Ｇ）、垂直保
磁力１２００ （Ｏｅ））を０．２μｍ形成し、更にそ
の上にパーフルオロポリエーテルオレイルを５０Ａ塗布
し、反対側の面に、ポリエステル樹脂と等量のカーボン
を含むバックコート層を０．４μｍ形成し、８ミリ幅の
磁気テープに加工した。
夫々の磁気テープを改造した８ミリビデオデツキにより
、比較評価した。互換性検討には、市販の全厚が１０．
８μｍのハイバンド８ミリ用のＭＥテープを用いた。
、比較評価した。互換性検討には、市販の全厚が１０．
８μｍのハイバンド８ミリ用のＭＥテープを用いた。
評価結果をベース条件と共に第１表にまとめて示した。
（以 下 余 白）
互換性は５℃８０％ＲＨの環境で、記録後、１００パス
再生した後、別のテープをかけてＣ／Ｎを評価すること
で判定した。
再生した後、別のテープをかけてＣ／Ｎを評価すること
で判定した。
（実施例２）
課題を解決するための別の手段は、ポリエチレンテレフ
タレート層側に蒸着磁性層を配し、ポリエチレンテレフ
タレート層と２層押し出ししたポリエチレンナフタレー
トフィルム層の熱膨脹率をポリエチレンテレフタレート
層より大としたものである。
タレート層側に蒸着磁性層を配し、ポリエチレンテレフ
タレート層と２層押し出ししたポリエチレンナフタレー
トフィルム層の熱膨脹率をポリエチレンテレフタレート
層より大としたものである。
本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、蒸着磁
性層の熱膨脹によるテープ全体の変形を最小にできるの
で、記録信号の欠落を最小にすることができディジタル
記録の信頼性の確保ができることになる。
性層の熱膨脹によるテープ全体の変形を最小にできるの
で、記録信号の欠落を最小にすることができディジタル
記録の信頼性の確保ができることになる。
第２図は本発明の第２の実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図である。第２図で、第１図と共通した構成要素につ
いては同一の番号を付して示した。第２図で、７は積層
フィルムで、ポリエチレンテレフタレート層８とポリエ
チレンナフタレート層（熱膨脹率がポリエチレンテレフ
タレート層より大きくなるように構成したもの）９の共
押し出し構成より成るものである。
面図である。第２図で、第１図と共通した構成要素につ
いては同一の番号を付して示した。第２図で、７は積層
フィルムで、ポリエチレンテレフタレート層８とポリエ
チレンナフタレート層（熱膨脹率がポリエチレンテレフ
タレート層より大きくなるように構成したもの）９の共
押し出し構成より成るものである。
ポリエチレンテレフタレート層とポリエチレンナフタレ
ート層の熱膨脹率の差は、１．５〜２．５倍の範囲が好
ましい。１．５倍以下では後述する補強効果がみられず
２．５倍以上では、全体のスキュー歪みが問題となるか
らである。尚、ポリエチレンナフタレート層の積層フィ
ルム全厚に占める厚みの割合は３０％から６０％がよい
。
ート層の熱膨脹率の差は、１．５〜２．５倍の範囲が好
ましい。１．５倍以下では後述する補強効果がみられず
２．５倍以上では、全体のスキュー歪みが問題となるか
らである。尚、ポリエチレンナフタレート層の積層フィ
ルム全厚に占める厚みの割合は３０％から６０％がよい
。
かかる構成のフィルムを得る製膜条件は、共重合条件や
延伸、熱セツト条件、熱処理（後処理）条件を調整し、
最適化することで得られる。
延伸、熱セツト条件、熱処理（後処理）条件を調整し、
最適化することで得られる。
以下、更に具体的に本発明の一実施例について比較例と
の対比で説明する。
の対比で説明する。
ジメチルテレフタレート１００重量部及びエチレングリ
コール７０重量部に触媒として酢酸亜鉛０．０２３重量
部を加え２２０℃で４時間メタノールを留去しつつ、エ
ステル交換反応を行い、次いで安定剤（燐化合物のグリ
コール溶液）をトリメチルホスフェート換算で、０．０
１４重量部添加し、次に重縮合触媒として０．０４重量
部の：酸化アンチモンを添加し、更に平均粒径２μｍの
５ｉ０２を０．０７（ｗｔ％）添加し、１（Ｔｏｒｒ）
以下の真空中で、４時間重縮合反応を行い、固有粘度０
．６５のポリエチレンテレフタレートを得た。
コール７０重量部に触媒として酢酸亜鉛０．０２３重量
部を加え２２０℃で４時間メタノールを留去しつつ、エ
ステル交換反応を行い、次いで安定剤（燐化合物のグリ
コール溶液）をトリメチルホスフェート換算で、０．０
１４重量部添加し、次に重縮合触媒として０．０４重量
部の：酸化アンチモンを添加し、更に平均粒径２μｍの
５ｉ０２を０．０７（ｗｔ％）添加し、１（Ｔｏｒｒ）
以下の真空中で、４時間重縮合反応を行い、固有粘度０
．６５のポリエチレンテレフタレートを得た。
更にナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００
重量部、エチレングリコール７０重量部及び酢酸カルシ
ウム−水塩０．１重量部及び酢酸リチウム三水塩０．１
７重量部を反応器に仕込み、加熱昇温すると共に、メタ
ノールを留出させて、エステル交換反応を行い、反応開
始後約４時間を要して、２３０℃まで高め、実質的にエ
ステル交換を終了し、次にこの反応生成物にトリエチル
ホスフェート０．３５重量部を添加し、更に重縮合触媒
として三酸化アンチモン０．０５重量部を添加した後、
常法に従って０．６３の固有粘度のポリエチレン−２，
６−ナフタレートを得た。
重量部、エチレングリコール７０重量部及び酢酸カルシ
ウム−水塩０．１重量部及び酢酸リチウム三水塩０．１
７重量部を反応器に仕込み、加熱昇温すると共に、メタ
ノールを留出させて、エステル交換反応を行い、反応開
始後約４時間を要して、２３０℃まで高め、実質的にエ
ステル交換を終了し、次にこの反応生成物にトリエチル
ホスフェート０．３５重量部を添加し、更に重縮合触媒
として三酸化アンチモン０．０５重量部を添加した後、
常法に従って０．６３の固有粘度のポリエチレン−２，
６−ナフタレートを得た。
同原料を乾燥後、溶融し、共押し出しを行い、静電密着
法を採用し、未延伸フィルムを得た。
法を採用し、未延伸フィルムを得た。
この未延伸フィルムをまず１３５℃で２．４倍延伸し、
更に１５０℃で１．２倍延伸し、縦−軸延伸フィルムを
得た。次にこのフィルムを１４０〜１６０’Ｃの範囲で
チーターにて３．５〜５．２倍延伸した後、２２０〜２
４５℃の範囲で熱固定してポリエチレン−２，６−ナフ
タレート層の熱膨脹率をポリエチレンテレフタレート対
比で最適化したフィルムを得た。
更に１５０℃で１．２倍延伸し、縦−軸延伸フィルムを
得た。次にこのフィルムを１４０〜１６０’Ｃの範囲で
チーターにて３．５〜５．２倍延伸した後、２２０〜２
４５℃の範囲で熱固定してポリエチレン−２，６−ナフ
タレート層の熱膨脹率をポリエチレンテレフタレート対
比で最適化したフィルムを得た。
このフィルムを用い、直径１２ＯＡのＳｉｇｈ微粒子を
３０ケ／μ２平均で塗布し、その上に直径１ｍの円筒キ
ャンに沿わせて、ＣｏＣｏ−Ｎ１（Ｎｉ２０％）を５．
５Ｘ １０−５（Ｔｏ ｒ ｒ）の酸素雰囲気で、最小
入射角４０度の条件で、０．０９μｍの電子ビーム蒸着
を２回くり返し、合計Ｑ、ｌ ８ｐｍのＣｏ−Ｎｉ−０
蒸着磁性層を形成し、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート層側に、ポリエステル樹脂と等重量％のＣａＣＯ３
とカーボン（１：１で粒径は夫々２００ＯＡ）を含んだ
バックコート層を０．４４μｍ塗布し、蒸着磁性層の上
に、パークルオロボリエーテルイソステアリルを４０Ａ
塗布、平坦化後、８ミリ幅の磁気テープに加工し、改造
したハイバンド８ミリビデオにより評価した。テープ条
件と結果を第２表に示した。
３０ケ／μ２平均で塗布し、その上に直径１ｍの円筒キ
ャンに沿わせて、ＣｏＣｏ−Ｎ１（Ｎｉ２０％）を５．
５Ｘ １０−５（Ｔｏ ｒ ｒ）の酸素雰囲気で、最小
入射角４０度の条件で、０．０９μｍの電子ビーム蒸着
を２回くり返し、合計Ｑ、ｌ ８ｐｍのＣｏ−Ｎｉ−０
蒸着磁性層を形成し、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート層側に、ポリエステル樹脂と等重量％のＣａＣＯ３
とカーボン（１：１で粒径は夫々２００ＯＡ）を含んだ
バックコート層を０．４４μｍ塗布し、蒸着磁性層の上
に、パークルオロボリエーテルイソステアリルを４０Ａ
塗布、平坦化後、８ミリ幅の磁気テープに加工し、改造
したハイバンド８ミリビデオにより評価した。テープ条
件と結果を第２表に示した。
（以 下 余 白）
発明の効果
以上のように本発明によれば、テープ全厚が薄くなって
も良好なヘッドタッチが得られ、互換の面でも良好な特
性を得られるといったすぐれた効果がある。
も良好なヘッドタッチが得られ、互換の面でも良好な特
性を得られるといったすぐれた効果がある。
第１図及び第２図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の
拡大断面図である。 １．７・・・・・・積層フィルム、２，８・・・・・・
ポリエチレンテレフタレート層、３，９・・・・・・ポ
リエチレンナフタレート層、４・・・・・・蒸着磁性層
、５・・・・・・保護潤滑層。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか２名ｆＩＩ眉７４
ルム 第 図
拡大断面図である。 １．７・・・・・・積層フィルム、２，８・・・・・・
ポリエチレンテレフタレート層、３，９・・・・・・ポ
リエチレンナフタレート層、４・・・・・・蒸着磁性層
、５・・・・・・保護潤滑層。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか２名ｆＩＩ眉７４
ルム 第 図
Claims (2)
- （１）ポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフ
タレートの２層押し出しフィルムでポリエチレンテレフ
タレートフィルム側に蒸着磁性層を配し、ポリエチレン
テレフタレート層に対し、ポリエチレンナフタレート層
を高ヤング率に構成したことを特徴とする磁気記録媒体
。 - （２）ポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフ
タレートの２層押し出しフィルムでポリエチレンテレフ
タレートフィルム側に蒸着磁性層を配し、ポリエチレン
ナフタレート層をポリエチレンテレフタレート層より熱
膨脹率大に構成したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2267701A JPH04143916A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2267701A JPH04143916A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04143916A true JPH04143916A (ja) | 1992-05-18 |
Family
ID=17448343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2267701A Pending JPH04143916A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04143916A (ja) |
-
1990
- 1990-10-04 JP JP2267701A patent/JPH04143916A/ja active Pending
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