JPH04145933A - 気体分離膜 - Google Patents
気体分離膜Info
- Publication number
- JPH04145933A JPH04145933A JP26807890A JP26807890A JPH04145933A JP H04145933 A JPH04145933 A JP H04145933A JP 26807890 A JP26807890 A JP 26807890A JP 26807890 A JP26807890 A JP 26807890A JP H04145933 A JPH04145933 A JP H04145933A
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- Japan
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- membrane
- gas
- alkyl group
- separation membrane
- gas separation
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、混合気体から特定の気体を選択透過する気体
分離膜に関する。更に詳しくは、気体透過特性の経時的
劣化を改良した分離膜に関する。
分離膜に関する。更に詳しくは、気体透過特性の経時的
劣化を改良した分離膜に関する。
（従来の技術）
近年、混合気体中から特定の気体を分離濃縮する技術開
発が盛んに行われ、中でも空気中から酸素を２５〜４０
％に濃縮分離するいわゆる酸素富化膜は、医療分野にお
ける酸素療法を始め燃焼システムにおける省エネ化、健
康機器、菌体の好気性培養など様々な用途への利用が期
待されている。
発が盛んに行われ、中でも空気中から酸素を２５〜４０
％に濃縮分離するいわゆる酸素富化膜は、医療分野にお
ける酸素療法を始め燃焼システムにおける省エネ化、健
康機器、菌体の好気性培養など様々な用途への利用が期
待されている。
酸素富化膜に要求される特性のうち重要なことは、酸素
富化空気の透過量が大きいこと、及び酸素濃度が高いこ
とである。酸素富化空気の透過量は、素材固有の値であ
る酸素透過係数（ＰＯ２）に比例し、膜厚に反比例する
。また酸素濃度は、酸素透過係数（ＰＯ２）と窒素透過
係数（ＰＮ２）の比である分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）
によって決まる。
富化空気の透過量が大きいこと、及び酸素濃度が高いこ
とである。酸素富化空気の透過量は、素材固有の値であ
る酸素透過係数（ＰＯ２）に比例し、膜厚に反比例する
。また酸素濃度は、酸素透過係数（ＰＯ２）と窒素透過
係数（ＰＮ２）の比である分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）
によって決まる。
従って、理想的な酸素富化膜とは、酸素透過係数が大き
く、かつ分離係数の高い膜素材を用いて、できるだけ薄
い（好ましく数十Å以下の）ピンホールのない超薄膜を
形成することにある。しかし、このような超薄膜は、通
常、膜強度が不十分であり、直接多孔質支持材上に積層
すると、吸引時に薄膜が破壊され実用性を失ってしまう
結果となる。
く、かつ分離係数の高い膜素材を用いて、できるだけ薄
い（好ましく数十Å以下の）ピンホールのない超薄膜を
形成することにある。しかし、このような超薄膜は、通
常、膜強度が不十分であり、直接多孔質支持材上に積層
すると、吸引時に薄膜が破壊され実用性を失ってしまう
結果となる。
この問題を解決するためには、超薄膜と多孔質支持材の
間に、補強とクツション性を兼ね備えた非多孔質の薄膜
を介してやればいよい。このような非多孔質膜に要求さ
れる性質は、酸素透過係数がきわめて大きいこと、加え
て、薄膜化に必要な膜強度を備えていることである。何
故なら非多孔質膜の膜厚はその性質上、上層の超薄膜よ
り厚く成らざるを得す、このことは、非多孔質膜が透過
量の律速となり易いことを意味している。超薄膜が十分
な酸素富化機能を有していれば、補強材としての非多孔
質膜にとって、必ずしも高い分離係数は必要でなく、厚
くても透過量が律速とならないように、透過係数のでき
るだけ大きい素材による、強度の強い薄膜化が強く望ま
れるのである。
間に、補強とクツション性を兼ね備えた非多孔質の薄膜
を介してやればいよい。このような非多孔質膜に要求さ
れる性質は、酸素透過係数がきわめて大きいこと、加え
て、薄膜化に必要な膜強度を備えていることである。何
故なら非多孔質膜の膜厚はその性質上、上層の超薄膜よ
り厚く成らざるを得す、このことは、非多孔質膜が透過
量の律速となり易いことを意味している。超薄膜が十分
な酸素富化機能を有していれば、補強材としての非多孔
質膜にとって、必ずしも高い分離係数は必要でなく、厚
くても透過量が律速とならないように、透過係数のでき
るだけ大きい素材による、強度の強い薄膜化が強く望ま
れるのである。
これまで知られた酸素透過係数の大きい高分子膜として
は、ポリジメチルシロキサンがある。酸素透過係数は６
Ｘ １Ｏ−８Ｌ？ｎ＋３（ＳＴＰ）ａｍ／ ｅＴＩｌ
”ＳｅＣ”ｅ＋ｎＨｇとゴム状高分子の中では最も高い
がきわめて柔軟であるため２５μｍ以下の薄膜化は困難
であり実用に耐えることができない。また分離係数も２
．０と低い。
は、ポリジメチルシロキサンがある。酸素透過係数は６
Ｘ １Ｏ−８Ｌ？ｎ＋３（ＳＴＰ）ａｍ／ ｅＴＩｌ
”ＳｅＣ”ｅ＋ｎＨｇとゴム状高分子の中では最も高い
がきわめて柔軟であるため２５μｍ以下の薄膜化は困難
であり実用に耐えることができない。また分離係数も２
．０と低い。
ポリジメチルシロキサンの薄膜化特性を改良する目的で
、ポリジメチルシロキサン／ポリカーボネート共重合体
（米国特許第３９８０４５６号、同３７４９６号）やポ
リジメチルシロキサン共重合体（特開昭５６−２６５０
４号公報）が知られている。これらは、１μｍ以下の薄
厚を達成することにより透過流量は向上したが、酸素透
過係数は何れもポリジメチルシロキサンを下回るため、
実用性は十分とはいえない。
、ポリジメチルシロキサン／ポリカーボネート共重合体
（米国特許第３９８０４５６号、同３７４９６号）やポ
リジメチルシロキサン共重合体（特開昭５６−２６５０
４号公報）が知られている。これらは、１μｍ以下の薄
厚を達成することにより透過流量は向上したが、酸素透
過係数は何れもポリジメチルシロキサンを下回るため、
実用性は十分とはいえない。
一方、ポリジメチルシロキサンより酸素透過係数の大き
い高分子膜として、ポリ（１−トリメチ・非シリル１−
プロピン）（以下ＰＴＭＳＰと略す）の代表される置換
ポリアセチレン化合物が知られている。 （Ｊ、Ａｍ、
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、 １０５．７４７３（１９８３）
）メチル基とトリメチルシリル基という嵩高い運動性に
富んだ側鎖と、剛直な二重結合の主鎖からなるＰＴＭＳ
Ｐは、膜の密度が非常に低く、膜中の自由体積が通常の
ガラス状高分子に比べてかなり大きいことから、製膜直
後の分子構造は非常にバルキーであると考えられ、この
ことが高い気体透過係数に繁ると推察される。このＰＴ
ＭＳＰからなる膜は、分離係数は１．４〜２．０と低い
が、酸素透過係数は４〜ＩＯＸ １０−７とポリジメチ
ルシロキサンを１桁も上回り、優れた膜強度を持つため
薄膜化が容易にできるという長所がある。その意味で、
ＰＴＭＳＰは好ましい材料である。
い高分子膜として、ポリ（１−トリメチ・非シリル１−
プロピン）（以下ＰＴＭＳＰと略す）の代表される置換
ポリアセチレン化合物が知られている。 （Ｊ、Ａｍ、
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、 １０５．７４７３（１９８３）
）メチル基とトリメチルシリル基という嵩高い運動性に
富んだ側鎖と、剛直な二重結合の主鎖からなるＰＴＭＳ
Ｐは、膜の密度が非常に低く、膜中の自由体積が通常の
ガラス状高分子に比べてかなり大きいことから、製膜直
後の分子構造は非常にバルキーであると考えられ、この
ことが高い気体透過係数に繁ると推察される。このＰＴ
ＭＳＰからなる膜は、分離係数は１．４〜２．０と低い
が、酸素透過係数は４〜ＩＯＸ １０−７とポリジメチ
ルシロキサンを１桁も上回り、優れた膜強度を持つため
薄膜化が容易にできるという長所がある。その意味で、
ＰＴＭＳＰは好ましい材料である。
しかしこのＰＴＭＳＰは、時間経過とともに酸素透過係
数が著しく低下するという大きな欠点があり、特に加熱
下ではこの劣化のスピードは加速される傾向がある（
Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｏ１ｍ、Ｓｃｉ、、３０． １６０５
゜（１９８５））。
数が著しく低下するという大きな欠点があり、特に加熱
下ではこの劣化のスピードは加速される傾向がある（
Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｏ１ｍ、Ｓｃｉ、、３０． １６０５
゜（１９８５））。
気体透過係数の低下の原因は定かではないが、時間経過
とともに起こる分子の緩和現象、或いは空気中の微粒子
の蒸着等によるものと考えられている。従って、ＰＴＭ
ＳＰ膜の酸素透過係数を極力落とさないで如何に長期安
定性を計るかが、大変重要な課題となるのである。
とともに起こる分子の緩和現象、或いは空気中の微粒子
の蒸着等によるものと考えられている。従って、ＰＴＭ
ＳＰ膜の酸素透過係数を極力落とさないで如何に長期安
定性を計るかが、大変重要な課題となるのである。
ＰＴＭＳＰの気体透過性に対する経時的不安定さを改善
する目的で、ＰｖＣ可塑剤として知られるジオクチルフ
タレート（以下ＤＯＰと略す）をＰＴＭＳＰ膜に吸着す
る方法が提案されている（第２４同高分子と水に関する
討論会 講演要旨集１９８６年）。しかし、この方法は
ＤＯＰを１００℃の高温の下で吸着処理するため、カス
透過特性の低下を促進させることに繁り好ましい方法と
はいえない。
する目的で、ＰｖＣ可塑剤として知られるジオクチルフ
タレート（以下ＤＯＰと略す）をＰＴＭＳＰ膜に吸着す
る方法が提案されている（第２４同高分子と水に関する
討論会 講演要旨集１９８６年）。しかし、この方法は
ＤＯＰを１００℃の高温の下で吸着処理するため、カス
透過特性の低下を促進させることに繁り好ましい方法と
はいえない。
特開昭６２−１１０７２８号公報むこは、ＰＴＭＳＰに
ポリシロキザン系高分子を含浸または吸着させた気体透
過性複合膜が提案されているが、分離係数はやや上がる
ものの、酸素透過係数は、ＰＴＭＳＰ単体の場合に比べ
て大きく低下しており、ここで用いる非多孔質膜として
は適切とはいえない。
ポリシロキザン系高分子を含浸または吸着させた気体透
過性複合膜が提案されているが、分離係数はやや上がる
ものの、酸素透過係数は、ＰＴＭＳＰ単体の場合に比べ
て大きく低下しており、ここで用いる非多孔質膜として
は適切とはいえない。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、上記欠点を解決するもので、気体透過性に優
れ、且つ酸素透過係数の経時的低下度の少ない気体分離
膜を提供するものである。
れ、且つ酸素透過係数の経時的低下度の少ない気体分離
膜を提供するものである。
（問題点を解決するための手段と作用）本発明は、ＰＴ
ＭＳＰに代表される置換ポリアセチレンの持つ優れた酸
素透過性係数をできるだけ低下させることなく、経時的
に安定な高分子膜の提供を目的としたもので、ＰＴＭＳ
Ｐ膜の表面または内部に、ジトリメチルシリルフマレー
ト（以下ＤＴＭＳＦと略す）のモノマーまたは／および
オリゴマーを吸蔵化することにより、優れた膜強度と高
い酸素透過係数を併せ−持つ膜素材ができることを見出
し、本発明を完成するに至った。
ＭＳＰに代表される置換ポリアセチレンの持つ優れた酸
素透過性係数をできるだけ低下させることなく、経時的
に安定な高分子膜の提供を目的としたもので、ＰＴＭＳ
Ｐ膜の表面または内部に、ジトリメチルシリルフマレー
ト（以下ＤＴＭＳＦと略す）のモノマーまたは／および
オリゴマーを吸蔵化することにより、優れた膜強度と高
い酸素透過係数を併せ−持つ膜素材ができることを見出
し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、 「一般式が
＋Ｃ＝Ｃ気
（但し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
またはハロゲン化アルキル基、Ｒ２はアルキル基、フェ
ニル基、またはオルガノシリル基）で示される置換ポリ
アセチレン高分子膜にジトリメチルシリルフマレートを
０．５〜ｌｏ、ｏｗｔ％吸蔵化させることを特徴とする
気体分離膜」をその要旨とするものである。
またはハロゲン化アルキル基、Ｒ２はアルキル基、フェ
ニル基、またはオルガノシリル基）で示される置換ポリ
アセチレン高分子膜にジトリメチルシリルフマレートを
０．５〜ｌｏ、ｏｗｔ％吸蔵化させることを特徴とする
気体分離膜」をその要旨とするものである。
本発明に用いる置換ポリアセチレンとしては、例えばポ
リメチルアセチレン、ボリエメチルアセチレン、ポリプ
ロピルアセチレン、ポリｔ−ブチルアセチレン、ポリト
リメチルシリルプロピン、ポリｌ、２−ビス（トリメチ
ルシリル）アセチレン、ポリフェニルアセチレン、ポリ
１−クロロ２−フェニルアセチレン等があるがこれに限
定されるものではない。
リメチルアセチレン、ボリエメチルアセチレン、ポリプ
ロピルアセチレン、ポリｔ−ブチルアセチレン、ポリト
リメチルシリルプロピン、ポリｌ、２−ビス（トリメチ
ルシリル）アセチレン、ポリフェニルアセチレン、ポリ
１−クロロ２−フェニルアセチレン等があるがこれに限
定されるものではない。
置換ポリアセチレンの中で、例えばＰ ＴＭＳ Ｐは、
従来知られた増圧等のＪ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
、 １０５．７４７３（１９８３）の方法に準じて作成
することができる。
従来知られた増圧等のＪ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
、 １０５．７４７３（１９８３）の方法に準じて作成
することができる。
市販の１−トリメチルシリル１−プロピンを原料とし、
重合触媒として五塩化タンタル、五塩化ニオブ等を用い
、有機溶媒（トルエン、キシレン、ベンゼン、１．２−
ジクロロエタン、四塩化炭素等）の下８０℃で１２から
２４時間重合することにより得られる。生成したポリマ
ーは多量のメタノール中に沈降させ、白色粉末のＰＴＭ
ＳＰに精製する。重量平均分子量は、ＧＰＣ法によりス
チレン換算値で５０万以上好ましくは１００万以上であ
る。
重合触媒として五塩化タンタル、五塩化ニオブ等を用い
、有機溶媒（トルエン、キシレン、ベンゼン、１．２−
ジクロロエタン、四塩化炭素等）の下８０℃で１２から
２４時間重合することにより得られる。生成したポリマ
ーは多量のメタノール中に沈降させ、白色粉末のＰＴＭ
ＳＰに精製する。重量平均分子量は、ＧＰＣ法によりス
チレン換算値で５０万以上好ましくは１００万以上であ
る。
本発明に用いる置換ポリアセチレン高分子は（トルエン
、キシレン、ベンゼン、ｎ−ヘキサン等の有機溶媒に溶
解し、通常知られたキャスト法、水面展開法等により容
易に薄膜化することができ、多孔質支持材上に積層され
、超薄膜用補強層としての複合膜が形成される。
、キシレン、ベンゼン、ｎ−ヘキサン等の有機溶媒に溶
解し、通常知られたキャスト法、水面展開法等により容
易に薄膜化することができ、多孔質支持材上に積層され
、超薄膜用補強層としての複合膜が形成される。
多孔質支持材としては、酢酸セルロース、ポリカーボネ
ット、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリオレ
フィン等の高分子多孔質膜が使用できる。
ット、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリオレ
フィン等の高分子多孔質膜が使用できる。
ＰＴＭＳＰ単独の経時的なガス透過特性を知るため、ま
ず本ポリマーをベンゼン溶媒に溶解し、ガラス板上にキ
ャストした後、室温で乾燥し、膜厚８０〜１５０μｍの
フィルムを作成した。低圧法により気体透過率を測定し
たところ、ＰＴＭＳＰフィルムの酸素透過係数の初期値
は６〜１０×１０−７と非常に高い値を示したが、時間
と共に経時劣化し、特に加速試験のため１００℃加熱雰
囲気中に放置すると、酸素透過係数は１昼夜後１１２０
以下に低下することが分かった。
ず本ポリマーをベンゼン溶媒に溶解し、ガラス板上にキ
ャストした後、室温で乾燥し、膜厚８０〜１５０μｍの
フィルムを作成した。低圧法により気体透過率を測定し
たところ、ＰＴＭＳＰフィルムの酸素透過係数の初期値
は６〜１０×１０−７と非常に高い値を示したが、時間
と共に経時劣化し、特に加速試験のため１００℃加熱雰
囲気中に放置すると、酸素透過係数は１昼夜後１１２０
以下に低下することが分かった。
本発明に用いるＤＴＭＳＦは、公知の方法により、フマ
ル酸とへキサメチルジシラサンを１３０℃オイルバス上
で８時間反応させた後、減圧蒸留により精製ＤＴＭＳＦ
を得た。ＤＴＭＳＦはモノマーまたは／及びオリゴマー
として、メチルアルコール、エチルアルコール、アセト
ン、酢酸エチル等の有機溶媒に溶解させ、この溶液中に
ＰＴＭＳＰをはじめ、置換ポリアセチレンフィルムを浸
漬し、ＤＴＭＳＦを置換ポリアセチレンフィルムの表層
または／および内部に吸−化させる。あるいはＤＴＭＳ
Ｆを、減圧下でＤＴＭＳＦ蒸気として置換ポリアセチレ
ンフィルムに吸蔵化させることができる。いずれの場合
も、吸蔵化温度は気体透過性の低下を防止するため、４
０〜５０℃以下、できれば常温下で行うことが望ましい
。
ル酸とへキサメチルジシラサンを１３０℃オイルバス上
で８時間反応させた後、減圧蒸留により精製ＤＴＭＳＦ
を得た。ＤＴＭＳＦはモノマーまたは／及びオリゴマー
として、メチルアルコール、エチルアルコール、アセト
ン、酢酸エチル等の有機溶媒に溶解させ、この溶液中に
ＰＴＭＳＰをはじめ、置換ポリアセチレンフィルムを浸
漬し、ＤＴＭＳＦを置換ポリアセチレンフィルムの表層
または／および内部に吸−化させる。あるいはＤＴＭＳ
Ｆを、減圧下でＤＴＭＳＦ蒸気として置換ポリアセチレ
ンフィルムに吸蔵化させることができる。いずれの場合
も、吸蔵化温度は気体透過性の低下を防止するため、４
０〜５０℃以下、できれば常温下で行うことが望ましい
。
ＤＴＭＳＦの置換ポリアセチレンフィルムに対する吸蔵
化量は、０．５〜１０ｗｔ％が好ましく、１．０〜５．
０ｗ％であれば、更に好ましい。吸蔵化量がこの範囲に
あれば、気体透過性を余り損なうことがなく、酸素透過
係数の経時安定性を保つことができる。ＤＴＭＳＦの吸
蔵化量が０．５ｗｔ％以下になると、未処理のＰＴＭＳ
Ｐフィルムと同じく急激な経時的酸素透過係数の低下が
見られ、ＤＴＭＳＦの吸蔵化効果は認められない。一方
、ＤＴＭＳＦの吸蔵化量が１０ｗｔ％を越えると、分離
係数は少し高いが、酸素透過係数の初期値が１０−８台
と低くなり好ましくない。
化量は、０．５〜１０ｗｔ％が好ましく、１．０〜５．
０ｗ％であれば、更に好ましい。吸蔵化量がこの範囲に
あれば、気体透過性を余り損なうことがなく、酸素透過
係数の経時安定性を保つことができる。ＤＴＭＳＦの吸
蔵化量が０．５ｗｔ％以下になると、未処理のＰＴＭＳ
Ｐフィルムと同じく急激な経時的酸素透過係数の低下が
見られ、ＤＴＭＳＦの吸蔵化効果は認められない。一方
、ＤＴＭＳＦの吸蔵化量が１０ｗｔ％を越えると、分離
係数は少し高いが、酸素透過係数の初期値が１０−８台
と低くなり好ましくない。
（実施例）１・：
以下実施例と比較例により本発明の詳細な説明するが、
本発明はこれに限定されたものではない。
本発明はこれに限定されたものではない。
＝１２一
実施例−１
ＰＴＭＳＰフィルムの調製
１−トリメチルシリル１−プロピン（アルドリッチ社製
）５００ミリモルをトルエン５００−に溶解し、触媒と
して五塩化タルタル５ミリモルを加え、８０℃で２４時
間重合した。生成ポリマーをトルエンに溶解し、多量の
メタノール中に沈澱させ精製した。
）５００ミリモルをトルエン５００−に溶解し、触媒と
して五塩化タルタル５ミリモルを加え、８０℃で２４時
間重合した。生成ポリマーをトルエンに溶解し、多量の
メタノール中に沈澱させ精製した。
ポリマーの重量平均分子量ＭｗをＧＰＣ法により測定し
たところＭｗ＝１９８万であった。
たところＭｗ＝１９８万であった。
精製ポリマー２．０ｇベンゼン１００−に溶解し、平滑
なガラス板上に流延し、常温常圧の下で溶媒を蒸発させ
、膜厚１２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムな得た。
なガラス板上に流延し、常温常圧の下で溶媒を蒸発させ
、膜厚１２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムな得た。
ＤＴＭＳＦの吸蔵化
フマル酸１．０モルをヘキサメチルシラザン１．１モル
に入れ、１３０℃で８時間反応させた。生成物を減圧蒸
留し白色結晶状の精製ＤＴＭＳＦを得た。
に入れ、１３０℃で８時間反応させた。生成物を減圧蒸
留し白色結晶状の精製ＤＴＭＳＦを得た。
精製ＤＴＭＳＦ３．０ｇをメタノール＋００ｄに溶解し
、この溶液中に先に作成したＰＴＭＳＰフィルムを１昼
夜浸漬した後、室温で乾燥させたところ、ＰＴＭＳＰに
対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は２．９ｗｔ％であった。
、この溶液中に先に作成したＰＴＭＳＰフィルムを１昼
夜浸漬した後、室温で乾燥させたところ、ＰＴＭＳＰに
対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は２．９ｗｔ％であった。
実施例−２
精製ＤＴＭＳＦ６．０ｇをメタノール１００ｍ１ｌに溶
解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚１２０μ
ｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥したとこ
ろＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は５．６ｗ
ｔ％であった。
解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚１２０μ
ｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥したとこ
ろＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は５．６ｗ
ｔ％であった。
比較例−１
実施例−１で作成した膜厚１２０μｍのＰＴＭＳＰフィ
ルムをそのまま用いた。
ルムをそのまま用いた。
比較例−２
精製Ｄ Ｔ Ｍ Ｓ Ｆ ０．２ｇをメタノール１００
−に溶解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚１
２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥し
たところＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は０
．２ｗｔ％であった。
−に溶解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚１
２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥し
たところＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量は０
．２ｗｔ％であった。
比較例−３
精製Ｄ ＴＭＳ Ｆ １５．０ｇをメタノールｌｏｏｍ
９！に溶解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚
１２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥
したところ、ＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量
は１４．３ｗｔ％であった。
９！に溶解し、この溶液中に実施例−１で作成した膜厚
１２０μｍのＰＴＭＳＰフィルムを１昼夜浸漬し、乾燥
したところ、ＰＴＭＳＰに対するＤＴＭＳＦの吸蔵化量
は１４．３ｗｔ％であった。
以上、実施例１〜２及び比較例１〜３て得られたフィル
ムを経時劣化を促進させるために１００℃加熱雰囲気に
入れ、気体透過特性をガス透過率測定機（理化精機工業
製に一３１５使用）を用いて測定した。
ムを経時劣化を促進させるために１００℃加熱雰囲気に
入れ、気体透過特性をガス透過率測定機（理化精機工業
製に一３１５使用）を用いて測定した。
その結果を表１に示す。
いずれの場合も高い酸素透過係数と、経時的劣化の少な
い分離膜が得られた。
い分離膜が得られた。
（以下余白）
＋５−
（発明の効果）
以上如く本発明はＤＴＭＳＦを置換ポリアセチレン膜の
表面または／および内部に吸蔵化してなる気体分離膜を
提供するもので、気体透過特性に優れ、気体透過係数の
経時的劣化を著しく低減できることから、十分な選択透
過機能を持つ超薄膜と複合させる上において、非常に有
効な気体分離膜である。
表面または／および内部に吸蔵化してなる気体分離膜を
提供するもので、気体透過特性に優れ、気体透過係数の
経時的劣化を著しく低減できることから、十分な選択透
過機能を持つ超薄膜と複合させる上において、非常に有
効な気体分離膜である。
Claims (2)
- （１）一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＿１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、またはハロゲン化アルキル基、Ｒ＿２はアルキル基、
フェニル基、またはオルガノシリル基）で示される置換
ポリアセチレン高分子膜にジトリメチルシリルフマレー
トを０．５〜１０．０ｗｔ％吸蔵化させることを特徴と
する気体分離膜。 - （２）置換ポリアセチレン高分子がポリ（１−トリメチ
ルシリル１−プロピン）である特許請求の範囲第１項記
載の気体分離膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26807890A JPH04145933A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26807890A JPH04145933A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 気体分離膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04145933A true JPH04145933A (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=17453582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26807890A Pending JPH04145933A (ja) | 1990-10-04 | 1990-10-04 | 気体分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04145933A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5707423A (en) * | 1996-06-14 | 1998-01-13 | Membrane Technology And Research, Inc. | Substituted polyacetylene separation membrane |
-
1990
- 1990-10-04 JP JP26807890A patent/JPH04145933A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5707423A (en) * | 1996-06-14 | 1998-01-13 | Membrane Technology And Research, Inc. | Substituted polyacetylene separation membrane |
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