JPH0414650B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0414650B2 JPH0414650B2 JP60156949A JP15694985A JPH0414650B2 JP H0414650 B2 JPH0414650 B2 JP H0414650B2 JP 60156949 A JP60156949 A JP 60156949A JP 15694985 A JP15694985 A JP 15694985A JP H0414650 B2 JPH0414650 B2 JP H0414650B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- present
- fluorobenzene
- platinum
- fluorocyclohexene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 11
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- JHJLETSOSKVZGF-UHFFFAOYSA-N 1-fluorocyclohexene Chemical compound FC1=CCCCC1 JHJLETSOSKVZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、フルオロベンゼンの新規な製造法に
関する。 （従来の技術） フルオロベンゼンの製造法としては、従来、ア
ニリンのジアゾニウム塩を熱分解する方法（シー
マン法）や、分子状弗素によるベンゼンの直接弗
素化、あるいはシクロペンタンジエンに対するフ
ルオロカルベン付加を経る方法（特公昭60−7976
号公報）等が知られている。 （発明が解決しようとする問題点） 前記従来の方法は、高価な原料を用いること
や、目的生成物であるフルオロベンゼンの収率が
低いという欠点がある。また、シーマン法では、
不安定で分解しやすい固体のジアゾニウム塩を取
り扱わなければならないため、工業的に実施する
のは困難を伴なう。直接弗素化法では、きわめて
反応性の高い分子状弗素を使用するという点で危
険性が高いばかりでなく、副生成物も多い。シク
ロペンタジエンに対するフルオロカルベン付加を
経る方法では、酸受容体と発生する酸との付加物
が副生するという欠点がある。したがつて、この
ような欠点を解消する製造法の出現が望まれてい
た。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記の欠点を有しない新規な製
造法を見出すため鋭意研究を重ねた結果、１−フ
ルオロシクロヘキセンを脱水素触媒の存在下に反
応させることにより、フルオロベンゼンが得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち、本発明は、１−フルオロシクロヘキ
センを脱水素触媒の存在下に反応させることを特
徴とするフルロオベンゼンの製造法に関するもの
である。 本発明は、フルオロベンゼンの新規な製造法を
提供するものである。 原料として用いる１−フルオロシクロヘキセン
は公知であり、どのような合成法で製造されたも
のであつても使用することができる。 本発明において使用される脱水素触媒として
は、本発明の反応条件において脱水素能を有する
触媒であればよく、特に限定されるものではな
い。好ましくは、パラジウム、白金、ルテニウ
ム、ニツケル、コバルト、ロジウム、オスミウ
ム、イリジウム等の白金族金属および白金族元素
を含む化合物の中から選ばれた少なくも１種の触
媒が用いられる。さらに好ましくは、パラジウ
ム、白金、ルテニウム、およびパラジウム、白
金、ルテニウムを含む化合物の中から選ばれた少
なくとも１種の触媒が用いられる。 反応の様式としては、流動床式、固定床式、あ
るいは撹拌式等、一般に用いられる方法を使用す
ることができる。また、流通式、回分式いずれの
方法であつてもよい。 反応圧力は特に制限はなく、原料として用いる
１−フルオロシクロヘキセンは、反応系において
液相、気相あるいは気液混相のいずれであつても
よい。 反応温度は脱水素反応の平衡の点から、また、
反応速度を向上させるためには、高温が有利であ
るが、副反応等の問題から、あまり高い温度は好
ましくない。本発明においては、反応温度は使用
する触媒の種類および用いる反応の様式等によつ
て異なるが、気相反応の場合には、通常は100〜
600℃、好ましくは200〜500℃で行われ、液相反
応の場合には、通常は室温〜400℃、好ましくは
50〜300℃で行われる。 また、反応時間は反応温度、触媒の種類、用い
る原料の種類等により異なるが、液相反応の場合
には、通常は0.05〜50時間、好ましくは0.1〜20
時間が用いられる。気相流通式反応の場合には、
接触時間で表現して通常は0.1〜100秒、好ましく
は0.3〜20秒が用いられる。 反応原料と触媒の量比は、広範囲にとることが
でき、反応形式が連続式あるいは回分式のいずれ
で実施されるかによつても異なる。液相回分式の
場合で例をあげると、通常は反応原料に対する触
媒の重量比で表現して、0.0001〜0.5の範囲が用
いられ、好ましくは0.001〜0.1の範囲で使用され
る。 反応原料である１−フルオロシクロヘキセンと
脱水素触媒の他に、水蒸気、水素、窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等の気体が雰囲気として反応系に存
在していてもよく、脱水素反応に不活性な有機溶
媒が反応系に存在していてもよい。 （実施例） 以下に実施例を示し、本発明を具体的に述べ
る。 実施例 １ １−フルオロシクロヘキセン18.8ｇとパラジウ
ム黒2.0ｇを、予めアルゴンガス置換した容量50
mlのステンレス製耐圧反応管に仕込み、150℃の
油浴中で15分間振盪加熱することにより反応を行
わせた。反応管を冷却後、反応混合物をガスクロ
マトグラフイー法により分析した結果、フルオロ
ベンゼンが0.7ｇ生成していた。 実施例 ２〜５ 実施例１と同様に、次表に示す反応条件によ
り、１−フルオロシクロヘキセンの脱水素反応を
行つた。結果次表に示す。
関する。 （従来の技術） フルオロベンゼンの製造法としては、従来、ア
ニリンのジアゾニウム塩を熱分解する方法（シー
マン法）や、分子状弗素によるベンゼンの直接弗
素化、あるいはシクロペンタンジエンに対するフ
ルオロカルベン付加を経る方法（特公昭60−7976
号公報）等が知られている。 （発明が解決しようとする問題点） 前記従来の方法は、高価な原料を用いること
や、目的生成物であるフルオロベンゼンの収率が
低いという欠点がある。また、シーマン法では、
不安定で分解しやすい固体のジアゾニウム塩を取
り扱わなければならないため、工業的に実施する
のは困難を伴なう。直接弗素化法では、きわめて
反応性の高い分子状弗素を使用するという点で危
険性が高いばかりでなく、副生成物も多い。シク
ロペンタジエンに対するフルオロカルベン付加を
経る方法では、酸受容体と発生する酸との付加物
が副生するという欠点がある。したがつて、この
ような欠点を解消する製造法の出現が望まれてい
た。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記の欠点を有しない新規な製
造法を見出すため鋭意研究を重ねた結果、１−フ
ルオロシクロヘキセンを脱水素触媒の存在下に反
応させることにより、フルオロベンゼンが得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち、本発明は、１−フルオロシクロヘキ
センを脱水素触媒の存在下に反応させることを特
徴とするフルロオベンゼンの製造法に関するもの
である。 本発明は、フルオロベンゼンの新規な製造法を
提供するものである。 原料として用いる１−フルオロシクロヘキセン
は公知であり、どのような合成法で製造されたも
のであつても使用することができる。 本発明において使用される脱水素触媒として
は、本発明の反応条件において脱水素能を有する
触媒であればよく、特に限定されるものではな
い。好ましくは、パラジウム、白金、ルテニウ
ム、ニツケル、コバルト、ロジウム、オスミウ
ム、イリジウム等の白金族金属および白金族元素
を含む化合物の中から選ばれた少なくも１種の触
媒が用いられる。さらに好ましくは、パラジウ
ム、白金、ルテニウム、およびパラジウム、白
金、ルテニウムを含む化合物の中から選ばれた少
なくとも１種の触媒が用いられる。 反応の様式としては、流動床式、固定床式、あ
るいは撹拌式等、一般に用いられる方法を使用す
ることができる。また、流通式、回分式いずれの
方法であつてもよい。 反応圧力は特に制限はなく、原料として用いる
１−フルオロシクロヘキセンは、反応系において
液相、気相あるいは気液混相のいずれであつても
よい。 反応温度は脱水素反応の平衡の点から、また、
反応速度を向上させるためには、高温が有利であ
るが、副反応等の問題から、あまり高い温度は好
ましくない。本発明においては、反応温度は使用
する触媒の種類および用いる反応の様式等によつ
て異なるが、気相反応の場合には、通常は100〜
600℃、好ましくは200〜500℃で行われ、液相反
応の場合には、通常は室温〜400℃、好ましくは
50〜300℃で行われる。 また、反応時間は反応温度、触媒の種類、用い
る原料の種類等により異なるが、液相反応の場合
には、通常は0.05〜50時間、好ましくは0.1〜20
時間が用いられる。気相流通式反応の場合には、
接触時間で表現して通常は0.1〜100秒、好ましく
は0.3〜20秒が用いられる。 反応原料と触媒の量比は、広範囲にとることが
でき、反応形式が連続式あるいは回分式のいずれ
で実施されるかによつても異なる。液相回分式の
場合で例をあげると、通常は反応原料に対する触
媒の重量比で表現して、0.0001〜0.5の範囲が用
いられ、好ましくは0.001〜0.1の範囲で使用され
る。 反応原料である１−フルオロシクロヘキセンと
脱水素触媒の他に、水蒸気、水素、窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等の気体が雰囲気として反応系に存
在していてもよく、脱水素反応に不活性な有機溶
媒が反応系に存在していてもよい。 （実施例） 以下に実施例を示し、本発明を具体的に述べ
る。 実施例 １ １−フルオロシクロヘキセン18.8ｇとパラジウ
ム黒2.0ｇを、予めアルゴンガス置換した容量50
mlのステンレス製耐圧反応管に仕込み、150℃の
油浴中で15分間振盪加熱することにより反応を行
わせた。反応管を冷却後、反応混合物をガスクロ
マトグラフイー法により分析した結果、フルオロ
ベンゼンが0.7ｇ生成していた。 実施例 ２〜５ 実施例１と同様に、次表に示す反応条件によ
り、１−フルオロシクロヘキセンの脱水素反応を
行つた。結果次表に示す。
【表】
（発明の効果）
本発明は、フルオロベンゼンを製造する新規な
方法を提供するものである。そして、本発明によ
れば、高価な原料を用いることなく、従来よりも
高い収率でフルオロベンゼンを得ることができ
る。
方法を提供するものである。そして、本発明によ
れば、高価な原料を用いることなく、従来よりも
高い収率でフルオロベンゼンを得ることができ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ １−フルオロシクロヘキセンを脱水素触媒の
存在下に反応させることを特徴とするフルオロベ
ンゼンの製造法。 ２ 脱水素触媒が白金族金属および白金族元素を
含む化合物の中から選ばれた少なくとも１種であ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 脱水素触媒がパラジウム、白金、ルテニウ
ム、およびパラジウム、白金、ルテニウムを含む
化合物の中から選ばれた少なくとも１種である特
許請求の範囲第２項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156949A JPS6219541A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | フルオロベンゼンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156949A JPS6219541A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | フルオロベンゼンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6219541A JPS6219541A (ja) | 1987-01-28 |
| JPH0414650B2 true JPH0414650B2 (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=15638855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60156949A Granted JPS6219541A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | フルオロベンゼンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6219541A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4749249B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-08-17 | 三洋電機株式会社 | 除菌ユニット |
| JP4744374B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2011-08-10 | 三洋電機株式会社 | 貯蔵庫の周辺空気の除菌装置 |
-
1985
- 1985-07-18 JP JP60156949A patent/JPS6219541A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6219541A (ja) | 1987-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4661337A (en) | Preparation of hydrogen peroxide | |
| JPH06256235A (ja) | １，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
| US4885389A (en) | Process for manufacturing p-aminophenol | |
| US4683329A (en) | Beneficial use of water in catalytic conversion of formamides to isocyanates | |
| EP0004636A2 (en) | Process for preparing benzotrifluoride and its derivatives | |
| JPH0587495B2 (ja) | ||
| EP0006999B1 (en) | A process for the production of 2-chlorobenzonitrile derivatives | |
| JPS6219541A (ja) | フルオロベンゼンの製造法 | |
| US3639482A (en) | Preparation of fluoroanilines | |
| US5241113A (en) | Process for producing trifluoroacetyl chloride | |
| Alami et al. | Stereoselective manganese-catalyzed coupling reaction of conjugated chloroenynes and chlorodienes with Grignard reagents | |
| JPH04149160A (ja) | １―アミノ―４―アルコキシベンゼン類の製造方法 | |
| JPH0710808A (ja) | 塩素不含シクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造方法 | |
| US4918251A (en) | Preparation of 2-halofluorobenzene | |
| JPS6153287A (ja) | 二環式アミドアセタールの製造方法 | |
| JPS6219540A (ja) | 芳香族弗素化合物の製造法 | |
| US3149161A (en) | Catalytic reduction of 3-chloronitro benzene | |
| US3020280A (en) | Quinoline synthesis | |
| JPH066595B2 (ja) | ２―ヒドロキシ―エチルホスホン酸ジアルキルエステルの酸化法 | |
| US4485243A (en) | Process for the preparation of a 2-alkylpyrrole | |
| US4222959A (en) | Process for the preparation of aromatic formamides | |
| JPS6039048B2 (ja) | ベンゾトリフルオライドまたはその誘導体の製法 | |
| CA1289573C (en) | Synthesis of high purity 5-chloroisophthaloyl chloride | |
| JP2613515B2 (ja) | ソジオホルミルアセトンの製造法 | |
| US4388251A (en) | Method for preparing 2-chlorobenzoyl chloride |