JPH04151231A - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム

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JPH04151231A
JPH04151231A JP2275221A JP27522190A JPH04151231A JP H04151231 A JPH04151231 A JP H04151231A JP 2275221 A JP2275221 A JP 2275221A JP 27522190 A JP27522190 A JP 27522190A JP H04151231 A JPH04151231 A JP H04151231A
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film
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム
に関し、更に詳しくは大粒径の不活性無機粒子及び(又
は)耐熱性高分子粒子、小粒径のアルミナ粒子及びコロ
イダルシリカ粒子を含み、該粒子により形成される特定
の突起分布により滑り性、耐削れ性、耐スクラッチ性の
改善された磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィル
ムに関する。
[従来技術] ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表される二軸
配向ポリエステルフィルムは、その優れた物理的、化学
的特性の故に、磁気記録媒体のベースフィルムとして広
く用いられている。
二軸配向ポリエステルフィルムにおいては、その滑り性
や耐削れ性がフィルムの製造工程及び加工工程の作業性
の良否、さらにはその製品品質を左右する大きな要因と
なっている。これらが不足すると、例えば二軸配向ポリ
エステルフィルム表面に磁性層を塗布し磁気テープとし
て用いる場合にコーティングロールとフィルム表面との
摩擦が激しく、削れ粉が発生したり、フィルム表面にス
クラッチが発生する。またVTRやデータカートリッジ
用として用いる場合にも、カセットに高速で巻き込む工
程で削れ粉やスクラッチが発生しDloの原因となる。
特にVTR用途では、最近コストダウンを目的としてカ
セット内に固定されたガイドボストに、表面を十分に仕
上げていない金属ガイドやプラスチックガイドを用いる
場合があるが、該ガイドボストの表面は極めて粗く、バ
ックコートを設けない磁気テープでは、従来のフィルム
の易滑性、削れ性を向上させる技術、例えば酸化ケイ素
、二酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼
成カオリン等の無機質粒子を添加する方法(例えば特開
昭54−57562号公報参照)又は重合系内でカルシ
ウム、リチウムあるいはリンを含む微粒子を析出せしめ
る方法(例えば特公昭52−32914号公報参照)で
は、カセットに高速で巻き込む工程において削れ粉やス
クラッチが発生し、Dloのレベルが高く、問題となっ
ている。それ故従来から使用されている表面仕上げの良
好な金属ガイドと新たに出てきた粗い表面の金属ガイド
、プラスチックガイドなど全てにわたって良好な耐削れ
性、耐スクラッチ性を有するフィルムが切望されている
のが現状である。
[発明の目的] 本発明の目的は、従来から使用されている表面仕上げの
良好な金属ガイドはもちろん、新たに出てきた粗い表面
仕上げの金属ガイドやプラスチックガイドにおいても良
好な耐削れ性、耐スクラッチ性を有する易滑性に優れた
磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルムを提供す
ることにある。
[発明の構成、効果] 本発明によれば、本発明の上記目的は、第1に、二軸配
向されたポリエステルフィルムであって、(A)ポリエ
ステル中に存在する粒子によって形成されているフィル
ム表面の突起の分布曲線が、高さX(μm)が0.05
μm以上で突起の数y(個/me2)が30個/me 
2以上の範囲において、下記式(A)を満足し、(B)
走行摩擦係数上昇(Δμk)が0.15未満であり、か
つ(C)該突起が、フィルム中での独立存在率が80%
以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ
粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒
子より大きくて0.1〜0.3μmであるコロイダルシ
リカ粒子0.05〜2.0重量%と、平均粒径0.4〜
1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子0.01〜1.0重量%の存在によって形成さ
れていることを特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリ
エステルフィルム 11.4x+4<log y<−10,Ox+5 −(
A)ここで、Xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m〉であり、yは高さXでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/m2)である、によって達成される。
本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸
を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコ
ール成分とするポリエステルである。かかるポリエステ
ルは実質的に線状であり、そしてフィルム形成性特に溶
融成形によるフィルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸。
イソフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸。
ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸。
ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカルボ
ン酸等を挙げることができる。脂肪族グリコールとして
は、例えばエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコ
ール等の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコール
あるいはシクロヘキサンジメタツールの如き脂環族ジオ
ール等を挙げることができる。
本発明において、ポリエステルとしては、例えばアルキ
レンテレフタレートおよび/又はアルキレンナフタレー
トを主なる構成成分とするものが好ましく用いられる。
かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の80モル%
以上がテレフタル酸および/又は2,6−ナフタレンジ
カルボン酸であり、全グリコール成分の80モル%以上
がエチレングリコールである共重合体が好ましい。その
際全酸成分の20モル%以下はテレフタル酸および/又
は2,6−ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジ
カルボン酸であることができ、また例えばアジピン酸。
セパチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサ
ン−1,4−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等
であることができる。また、全グリコール成分の20モ
ル%以下は、エチレングリコール以外の上記グリコール
であることができ、あるいは例えばハイドロキノン、レ
ゾルシン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン等の如き芳香族ジオール;1,4−ジヒドロキシ
ジメチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオール
;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキレ
ングリコール(ポリオキシアルキレングリコール)等で
あることもできる。
また、本発明におけるポリエステルには例えばヒドロキ
シ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω−ヒドロキシカプ
ロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に由
来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン酸
成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは結合
するものも包含される。
さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状で
ある範囲の量、例えば全酸成分に対し2モル%以下の量
で、3官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ化
合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリスリトール等
を共重合したものも包含される。
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自
体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、0−クロロフェノール中の
溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4
〜約0.9のものが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、そのフィル
ム表面の平坦性を定義する突起分布の説明から明らかな
とおり、フィルム表面に多数の微細な突起を有している
。
それらの多数の微細な突起は本発明によればポリエステ
ル中に分散して含有される多数の実質的に不活性な固体
微粒子に由来する。
ポリエステル中に存在する粒子によって形成されている
フィルム表面の突起の分布曲線が、高さx (μm)が
0.05tt m以上で突起の数y(個/rNB2)が
30個/fIffi12以上の範囲において、下記式(
A)を満足することが肝要である。
−11,4x+4<log3’<−10,0x+5  
=lA)ここで、Xは基準レベルからの高さ方向の距離
(μm)であり、yは高さXでカットした時にカウント
される突起の数(個/mm2)である。
突起分布曲線が(A)式の範囲から外れると、フィルム
はバックコートを設けないで磁気テープとして使用する
と、走行性が不充分になったり、磁性層を設けても大突
起の存在により磁性層面が粗くなり、電磁変更特性が不
充分となり、磁気記録媒体用としては好ましくない。
本発明において、フィルム表面に形成される突起は、不
活性無機粒子及び(または)耐熱性高分子粒子から選ば
れる粒子、好ましくは2種以内の粒子と、アルミナ粒子
及びコロイダルシリカ粒子とからなる、少なくとも3種
の粒子によることが肝要である。即ち、平均粒径が0.
4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱
性高分子粒子から選ばれる粒子0,01〜1.0重量%
と、フィルム中での独立存在率が80%以上、平均粒径
が0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.05〜
1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より大きくて
0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.0
5〜2.0重量%とをポリエステル中に存在させること
により、フィルム表面に突起を形成することが必要であ
る。
本発明における不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高分
子粒子から選ばれる粒子は、平均粒径が0.4〜1.5
μm、好ましくは0.5〜1.0μmであり、添加量が
0.01〜1.0重量%、好ましくは0.05〜0.5
重量%であるが、該粒子は併用することができ、この場
合2種以内の粒子の使用が好ましい。
この場合、それぞれの粒子は上記平均粒径を満足する必
要があり、また添加量は合計量が上記添加量を満足する
ようにする。これら粒子の平均粒径が0.4μm未満で
は形成される突起の高さが不十分であり、得られるフィ
ルムの易滑性が不十分になる。一方平均粒径が1.5μ
mを越えると、形成される突起の高さが大きくなりすぎ
、磁気記録媒体用として用いるにはフィルム表面が粗く
なりすぎ、好ましくない。また添加量が0.01重1%
未満では形成される突起数が不足し易滑性が不十分にな
るし、添加量が1.0重量%を越えるとフィルム表面が
粗くなりすぎ、磁気記録媒体用としては適さない。
上記不活性無機粒子の具体例としては、酸化ケイ素、炭
酸カルシウム、タルク、クレイ、カオリン等が挙げられ
るが、なかでも球状シリカ、炭酸カルシウムが易滑性の
点より好ましい。また上記耐熱性高分子粒子の具体例と
しては、シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル粒子、架橋
ポリスチレン粒子、架橋ポリエステル粒子、テフロン粒
子、ポリイミド粒子などの有機高分子粒子が挙げられる
が、なかでもシリコーン樹脂粒子が好ましい。
本発明においては、上記不活性無機粒子及び(又は)耐
熱性高分子粒子に加えて、フィルム中での独立存在率が
80%以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるア
ルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径がアル
ミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであるコロイ
ダルシリカ粒子0.05〜2,0重量%、より好ましく
は0.1〜1.0重量%添加することが肝要である。添
加するアルミナ粒子及びコロイダルシリカ粒子はフィル
ム表面上で不活性無機粒子及び/又は耐熱性高分子粒子
により形成される高突起間に微細な突起を形成する。
この2種類の微細な突起は、フィルムの地肌部分の摩擦
係数の低下に寄与していると考えられるが、本発明者の
検討ではその作用効果が異なり、アルミナ粒子による微
細な突起は表面を十分に仕上げていない金属ガイドやプ
ラスチックガイドとの接触において優れた耐削れ性及び
耐スクラッチ性を発揮し、コロイダルシリカ粒子による
微細な突起はプラスチックガイドや表面仕上げの良好な
金属ガイドとの接触において優れた耐削れ性及び耐スク
ラッチ性を発揮すること、そして表面仕上げの良好な金
属ガイド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及び
プラスチックガイドの全てにわたって優れた耐削れ性、
耐スクラッチ性を得るためにはこの2種の粒子を特定の
範囲で共存させることが必要であることが明らがとなっ
た。
本発明で用いるアルミナ粒子は上記した特性をもつ必要
があり、平均粒径が0.06μm未満ではフィルム地肌
部分に形成される突起が小さく、摩擦係数低下が不十分
となり、一方0.2μmを越えると形成される突起が大
きくなりすぎ、摩擦体特にプラスチックガイドとの高速
接触時の削れ性が悪化し、望ましくない。またアルミナ
粒子の添加量が0.05重量%未満ではフィルム地肌部
分に形成される突起数が不十分で耐削れ性、耐スクラッ
チ性の改良が望めないし、一方1.0重量%を越えると
、地肌部分でアルミナ粒子の突起の重なりが発生し、耐
削れ性が悪化する。さらに添加するアルミナ粒子の80
%以上がフィルム中で独立していることも重要であり、
これを満たさないと耐削れ性が悪化する。
本発明で用いるアルミナ粒子は、モース硬度が8未満の
γタイプ結晶体であることがより好ましい。モース硬度
が9のαタイプ結晶体のアルミナ粒子を用いる場合には
、添加条件によっては、磁気テープ等の製造工程で長時
間ランニングされた時、添加粒子が硬すぎるため、工程
内のロール等を傷つけることがあるし、また、磁気テー
プ等の走行及びカセットへの巻込み時に金属ガイド側を
傷つけ、削れ粉の発生やベースクラッチの原因となるこ
とがある。
本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は平均粒径が共存
するアルミナ粒子より大きくて0.1〜Ojμmでなけ
ればならない。この粒径がアルミナ粒子より小さいと、
表面仕上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スク
ラッチ性が劣る。またこの粒径が0.1μm未満でも表
面仕上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラ
ッチ性が劣る。一方この粒径が0.3μmを越えると、
形成される突起が大きくなりすぎ、摩擦体、特に表面を
十分に仕上げていない金属ガイドとの高速接触時の削れ
性が悪化し望ましくない。添加量が0.05重量%未満
では形成される突起数が不十分で耐スクラッチ性の改良
が認められないし、一方2.0重量%を越えると耐削れ
性が悪化する。本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は
粉体重量比100〜3000ppmのNaを含有するこ
とが好ましい。Na含有量がこの範囲を外れると対スク
ラッチ性が劣るようになる。この原因は定かではないが
、ポリエステル中での粒子の存在状態に微妙な差が出る
ことによるものと考えられる。
かかるコロイダルシリカの製造法としては硅酸Naを出
発原料として透析法、電気分解法、塩析比法あるいはイ
オン交換樹脂により活性シリカゾルを作り、ついで重合
する方法等があげられるが、得られる粒子の均一性から
イオン交換樹脂−重合法が最も好ましい。
本発明においてポリエステル中に上述した不活性粒子を
含有させる方法は、特に限定されないが、例えば不活性
無機粒子及び(又は〉耐熱性高分子粒子とアルミナ粒子
及びコロイダルシリカ粒子とを、ポリエステルの重合前
又は重合中に添加しポリエステルと緊密に混合する方法
、重合終了後のポリスチルをペレタイズするとき添加し
押出機中で緊密に混合する方法、シート状に溶融押出し
する際押出機中でポリエステルと十分に混練する方法等
が挙げられる。これらの中、ポリエステルの重合前又は
重合中に添加する方法が好ましい。
本発明の二軸配向フィルムは走行摩擦係数上昇(Δμk
)が0.15未満である必要がある。Δμkが0.15
以上になると、走行特性が不十分となり、例えば磁気テ
ープを繰返し使用すると該テープの走行性が低下し、μ
kが0.3を越えると走行ストップのトラブルを起すよ
うになる。Δμにの調節は、不活性粒子の種類1粒径、
添加量や延伸配向条件等で行うが、特に他の不活性無機
粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子の特性選択で行うの
が好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、例えば、融
点(Tm:’C)ないしくTm+70>、’Cの温度で
ポリエステルを溶押して固有粘度0.35〜0.9dl
/lの未延伸フィルムを得、該未延伸フィルムを一軸方
向(縦方向又は横方向)に(Tg−10)〜(Tg+7
0)℃の温度(ただし、Tg:ポリエステルのガラス転
移温度)で2.5〜5.0倍の倍率で延伸し、次いで上
記延伸方向と直角方向く一段目延伸が縦方向の場合には
、二段目延伸は横方向となる)にTg(”C)〜(Tg
+70>”Cの温度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸す
ることで製造できる。この場合、面積延伸倍率は9〜2
2倍、さらには12〜22倍にするのが好ましい。延伸
手段は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでもよいが
、後者がより好ましい。
さらに、二軸配向フィルムは、(Tg+70>’C〜T
m(’C)の温度で熱固定することができる。
例えばポリエチレンテレフタレートフィルムについては
190〜230℃で熱固定することが好ましい。
熱固定時間は例えば1〜60秒である。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、特定範囲の
不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子、及びア
ルミナ粒子、コロイダルシリカ粒子を含有するため、易
滑性に優れるとともに一表面仕上げの良好な金属ガイド
、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及びプラスチ
ックガイドの全てにわたって優れた耐削れ性、耐スクラ
ッチ性を有しており、磁気記録媒体用として極めて有用
である。
なお、本発明における種々の物性値及び特性は以下の如
くして測定されたものでありかつ定義される。
(1)粒子の平均粒径(DP) 島津製作所製CP−50型セントリフニゲルパーティク
ル サイズ アナライザー(Centrifoal P
article 5ize Analyser)を用い
て測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒
径の粒子とその存在量との積算曲線から、50マスパー
セントに相当する粒径を読み取り、この値を上記平均粒
径とする(Book r粒度測定技術」日刊工業新聞社
発行、 1975年1頁242〜247参照)。
(2)フィルムの走行摩擦係数くμk)第1図に示した
装置を用いて下記のようにして測定する。第1図中、1
は巻出しリール、2はテンションコントローラ、3.5
.6.8.9及び11はフリーローラー、4はテンショ
ン検出機(入日)、7はステンレス鋼S OS 304
製の固定棒く外径5mφ、表面粗Ra =0.Obzm
 ) 、10はテンション検出機(出口)、12はガイ
ドローラー、13は巻取りリールをそれぞれ示す。
温度20℃、湿度60%の環境で、巾1/2インチに裁
断したフィルムを7の固定棒に角度θ=(152/18
1)πラジアン(152°)で接触させて毎分200個
の速さで移動(摩擦)させる。入口テンションT1が3
5gとなるようにテンションコントローラー2を調整し
た時の出口テンション(T2:g)をフィルムが90m
走行したのちに出口テンション検出機で検出し、次式で
走行摩擦係数μkを算出する。
μk = +2.303/θ) log  (T2 、
/Tl  )=0.868 log  (T2 /35
>(3)フィルムの走行摩擦係数上昇(Δμk)上記フ
ィルムの走行摩擦係数(μk)を測定する装置を用いて
フィルム移動速度を2m/分として10m長のフィルム
を50回繰返し走行させる。その時の1回目の摩擦係数
をμに1.50回目の摩擦係数をμに5oとして下記式
によりΔμkを算出する。
Δ 、gk=  μ kso −μ kt(4)フィル
ム表面の平坦性 Ra  (中心線平均粗さ)をJIS B 06旧に準
じて測定する。東京精密社■製の触針式表面粗さ計(S
URFCOM3B)を用いて、針の半径2.tzm、荷
重0.07gの条件下にチャート(フィルム表面粗さ曲
線)をかかせ、得られるフィルム表面粗さ曲線からその
中心線の方向に測定長さしの部分を抜き取り、この抜き
取り部分の中心線をX軸とし、縦倍率の方向をY軸とし
て、粗さ曲線Y= f (X)で表わしたとき、次の式
で与えられる値(Ra :μm)をフィルム表面の平坦
性として定義する。
本発明では、基準長を0.25nwnとして8個測定し
、値の大きい方から3個除いた5個の平均値としてRa
を表わす。
(5)突起分布 小板研究所製三次元租さ計(5E−30に+を用いて針
径2μm R、針圧30■、測定長1陶、サンプリング
ピッチ2μm、カットオフ0.25mm、 Wi力方向
大倍率2万倍、横方向拡大倍率200倍。
走査本数150本の条件にてフィルム表面の突起のプロ
ファイルを三次元的(立体的)にイメージさせる。
そのプロファイルをフィルムの厚さ方向と直角方向の平
面でカットした場合に、各突起のプロファイルの断面積
の合計が、フィルムの測定領域の面積の70%となる平
面を基準レベル(0レベル)とし、その基準レベルの平
面と平行に突起の高さ方向に距離X(μm)だけ離れた
平面でカットしたときにカウントされる突起の数をy(
個/閉2)とする。Xを順次増加又は減少させ、そのと
きのyの数を読み取り、グラフにプロットすることによ
り、突起分布曲線を描く。
(6)粒子の独立存在率 製膜し得られた二軸配向ポリエステルフィルムを走査型
電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子■製スパッタリ
ング装! (JFC−1100型イオンスパツターリン
グ装置)を用いて、フィルム表面を下記条件にてイオン
エツチング処理を施す。ベンジャ−内に上記試料台を設
!し、約1O−3Torrの真空状態まで真空度を上げ
電圧0.25kV、電流12.5mAにて約10分間イ
オンエツチングを実施する。さらに同装置にてフィルム
表面に金スパッターを施し、約200A程度の金薄膜層
を形成し、XMA付き走査型電子顕微鏡を用いて2万倍
の倍率について測定を行なう、測定はランダムに100
視野について行ない、アルミナ粒子であることを確認し
つつ総粒子数a及び凝集剥離粒子数b(製膜時の延伸応
力により近接粒子間全幅にわたってボイド発生を伴なう
もの)を求め、下記式により、粒子の独立存在率を求め
る。
(7)コロイダルシリカ粉体中のNa含有量コロイダル
シリカ粉体をフッ化水素酸を用いて完全に溶解し、原子
吸光法によりNaを定量し、粉体中のNa含有量を求め
る。
(8)削れ性、スクラッチ性 フィルムの走行摩擦係数の測定に使用した第1図と同様
の装置において7のステンレス鋼SU S 304製固
定棒の代りにS IJ S 304製で表面を十分に仕
上げた6φのテープガイド(表面粗さRa =0.01
5 μm)を使った場合をA法、SUS焼結板を円柱形
に曲げた表面仕上げが不十分な6φのテープガイド(表
面粗さRa−0,151zm)を使った場合をB法、第
一精工社製カーボンブラック含有ポリアセタールの6φ
のテープガイドを使った場合をC法として、かつテープ
ガイドでの接触角度を30度として毎分300 mの速
さで入口張力が50 g / 1/2’となるようにし
て200m走行させる。走行後にガイド上に付着した削
れ粉及び走行後テープのスクラッチを評価する。
く削れ粉判定〉 ◎ 削れ粉が全くみられない ○ うつすらと削れ粉がみられる △ 削れ粉の存在が一見して判る × 削れ粉がひどく付着している 〈スクラッチ判定〉 ◎ スクラッチが全くみられない 01〜5本のスクラッチが見られる △ 6〜15本のスクラッチが見られる×16本以上の
スクラッチが見られる [実施例] 以下、実施例をあげて本発明を説明する。
実施例1〜4、比較例1〜6 ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エ
ステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として
三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤
として第1表に示す添加粒子を添加して、常法により重
合し、固有粘度(オルソクロロフェノール、35℃)0
.62のポリエチレンテレフタレートを得た。
このポリエチレンテレフタレートのペレットを170℃
で3時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度28
0〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーをlsnmの
スリット状ダイを通して表面仕上げOj!+程度、表面
温度20℃の回転冷却ドラム上に押出し、200μmの
未延伸フィルムを得た。
このようにして得られた未延伸フィルムを75℃にて予
熱し、更に低速、高速のロール間で15am上方より9
00℃の表面温度のIRヒーター1本にて加熱して3.
6倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し、1
05℃にて横方向に3.9倍に延伸した。得られた二軸
配向フィルムを205℃の温度で5秒間熱固定し、厚み
14.2μmの熱固定二軸配向フィルムを得な。
このようにして得られた14.2μmの二軸配向ポリエ
ステルフィルムの特性を第1表に示す。なお、得られた
フィルムの突起分布を調べなところ実施例1〜4、比較
例1〜5は下記(A)式を満足しており易滑性に優れた
ものになっていたが、比較例6は突起の数y(個/閣2
)がlog y<−10,0x+5の関係を規定全範囲
については満足しておらず、50回繰返し走行した後の
走行摩擦係数が0.31と高くなって実用上懸念のある
レベルになっている。
−11,4x+4<log y<−10,0x+5  
=lAl第1表における削れ性、スクラッチ性の判定と
しては○レベル以上であれば磁気テープとしても実用上
なんら懸念はないが、Δレベルになると使用条件にもよ
るが、テープガイド上の削れ粉やテープ上に入るスクラ
ッチ傷によってドロップアウトの増加が懸念される。
第1表で明らかなように、本発明によるものは磁気記録
媒体用として優れた易滑性を有するとともに、表面が十
分に仕上げられた金属テープガイド、表面が十分に仕上
げられていない金属テープガイド及びプラスチックテー
プガイド全てにわたって、優れた耐削れ性、耐スクラッ
チ性を有しており、磁気記録媒体用二軸配向ポリエステ
ルフィルムとして極めて優れた特性を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図はフィルムの走行摩擦係数を測定する装置の概略
図である。図中、1は巻出しリール12はテンションコ
ントローラ、4はテンション検出機(入口)、7は固定
棒、10はテンション検出機(出口)、13は巻取りリ
ールである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、二軸配向されたポリエステルフィルムであって、(
    A)ポリエステル中に存在する粒子によって形成されて
    いるフィルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)
    が0.05μm以上で突起の数y(個/mm^2)が3
    0個/mm^2以上の範囲において、下記式(A)を満
    足し、(B)走行摩擦係数上昇(Δμk)が0.15未
    満であり、かつ(C)該突起が、フィルム中での独立存
    在率が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2μmで
    あるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径
    がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmである
    コロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%と、平均
    粒径0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又
    は)耐熱性高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在に
    よって形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用
    二軸配向ポリエステルフィルム。 −11.4x+4<logy<−10.0x+5・・・
    (A)ここで、Xは基準レベルからの高さ方向の距離(
    μm)であり、yは高さxでカットした時にカウントさ
    れる突起の数(個/mm^2)である。 2、アルミナ粒子がモース硬度8未満のγタイプ結晶体
    の粒子であることを特徴とする請求項1記載の磁気記録
    媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。 3、コロイダルシリカ粒子が粉体重量比100〜300
    0ppmのNaを含有することを特徴とする請求項1記
    載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0586305A3 (en) * 1992-09-03 1995-02-01 Cheil Synthetics Inc Method of polyester production for films.

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EP0586305A3 (en) * 1992-09-03 1995-02-01 Cheil Synthetics Inc Method of polyester production for films.

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