JPH0415179B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0415179B2 JPH0415179B2 JP3418386A JP3418386A JPH0415179B2 JP H0415179 B2 JPH0415179 B2 JP H0415179B2 JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP H0415179 B2 JPH0415179 B2 JP H0415179B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- film
- etching
- plasma
- plasma polymerized
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、自動車用バツクミラー、ヘツドラン
プレンズ、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、
眼鏡レンズ等の表面の撥水性を高めるのに好適な
撥水処理方法に関するものである。
プレンズ、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、
眼鏡レンズ等の表面の撥水性を高めるのに好適な
撥水処理方法に関するものである。
（従来技術）
従来は、基材の表面に撥水性樹脂（シリコン樹
脂、フツ素樹脂等）を塗布して表面に樹脂の塗膜
を形成して撥水性を持たせている。塗布方法とし
ては、スプレー法、浸渣法、ブレード法などを用
いる。
脂、フツ素樹脂等）を塗布して表面に樹脂の塗膜
を形成して撥水性を持たせている。塗布方法とし
ては、スプレー法、浸渣法、ブレード法などを用
いる。
しかし、このように撥水性樹脂を単に塗布した
だけでは、撥水性の度合いが低かつたり（接触角
90〜100℃）、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗
膜の耐摩耗性が低いばかりでなく、経時変化が大
きく特性の低下が著しいため、短寿命であるとい
つた欠点がある。
だけでは、撥水性の度合いが低かつたり（接触角
90〜100℃）、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗
膜の耐摩耗性が低いばかりでなく、経時変化が大
きく特性の低下が著しいため、短寿命であるとい
つた欠点がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、すぐれた撥水性を容易に得る
ことができる撥水処理方法を提供することにあ
る。
ことができる撥水処理方法を提供することにあ
る。
（発明の概要）
本発明は、基材表面にプラズマ重合膜を形成し
た後、その表面をエツチングにより粗面化し、更
にプラズマ重合膜を形成することを特徴とするも
のである。
た後、その表面をエツチングにより粗面化し、更
にプラズマ重合膜を形成することを特徴とするも
のである。
（実施態様）
次に、本発明方法の実施の態様について説明す
る。まず、第１図に示すように基材１の表面にプ
ラズマ重合膜２を形成し、次いでこの重合膜２の
表面をエツチングにより粗面化する。この後、再
度プラズマ重合膜３を形成する。重合膜２の膜厚
は0.1〜2.0μｍとし、重合膜３の膜厚は0.1〜0.5μ
ｍとする。
る。まず、第１図に示すように基材１の表面にプ
ラズマ重合膜２を形成し、次いでこの重合膜２の
表面をエツチングにより粗面化する。この後、再
度プラズマ重合膜３を形成する。重合膜２の膜厚
は0.1〜2.0μｍとし、重合膜３の膜厚は0.1〜0.5μ
ｍとする。
上記処理には第２図に示すような容量結合型高
周波プラズマ（低温プラズマ）発生装置（周波数
13.56MHz）を用い、基材１はそのカソード電極
１１上にセツトする。カソード電極１１とアノー
ド電極１２は容器１３内に配置され、高周波電源
１４に接続される。容器１３にはガス導入口１５
と排気口１６があり、ガス導入口１５から、まず
シリコン系またはフツ素系のモノマーガスを導入
する。この状態で電極１１，１２間に高周波電圧
を印加してプラズマを発生させると、基材１の表
面にプラズマ重合膜２が形成される。この膜厚は
0.1〜2.0μｍで十分である。
周波プラズマ（低温プラズマ）発生装置（周波数
13.56MHz）を用い、基材１はそのカソード電極
１１上にセツトする。カソード電極１１とアノー
ド電極１２は容器１３内に配置され、高周波電源
１４に接続される。容器１３にはガス導入口１５
と排気口１６があり、ガス導入口１５から、まず
シリコン系またはフツ素系のモノマーガスを導入
する。この状態で電極１１，１２間に高周波電圧
を印加してプラズマを発生させると、基材１の表
面にプラズマ重合膜２が形成される。この膜厚は
0.1〜2.0μｍで十分である。
重合膜２の形成後、モノマーガスを止め、エツ
チング用ガスに切換える。エツチングガスとして
は、CH4，Ar，O2またはこれらの混合ガスを用
いる。このエツチングは表面の粗面化が目的であ
る。
チング用ガスに切換える。エツチングガスとして
は、CH4，Ar，O2またはこれらの混合ガスを用
いる。このエツチングは表面の粗面化が目的であ
る。
エツチングにより粗面化した後、エツチングガ
スを止め、再びモノマーガスを導入する。そし
て、プラズマ重合膜２の形成と同じ方法により
0.1〜0.5μｍの重合膜３を形成する。
スを止め、再びモノマーガスを導入する。そし
て、プラズマ重合膜２の形成と同じ方法により
0.1〜0.5μｍの重合膜３を形成する。
実施例を以下に示す。
(a) アクリル及びガラス基板上に次の条件により
プラズマ重合膜を1.0μｍ形成した。
プラズマ重合膜を1.0μｍ形成した。
モノマーガス：ヘキサメチルジシロキサン
真空度：20Pa
RF：150W ……(A)
(b) 次にCF4＋Ar混合ガスをエツチングガスとし
て10分間エツチングを行い、重合膜表面を粗面
化した。
て10分間エツチングを行い、重合膜表面を粗面
化した。
(c) 続いて前記(A)と同じ条件でプラズマ重合膜を
0.2μｍ形成した。
0.2μｍ形成した。
(d) この試料の水による接触角（第３図のθ）を
測定したところ、θ＝130°であり、十分な撥水
性を示した。この撥水性は極めて安定であり、
大気中に１ヶ月放置した後でも、θ＞120°であ
つた。また、この重合膜をスチールウール“
000″で強く擦つても全く傷が付かず、十分な
耐摩耗性を有していた。
測定したところ、θ＝130°であり、十分な撥水
性を示した。この撥水性は極めて安定であり、
大気中に１ヶ月放置した後でも、θ＞120°であ
つた。また、この重合膜をスチールウール“
000″で強く擦つても全く傷が付かず、十分な
耐摩耗性を有していた。
（発明の効果）
本発明は次のような効果を有する。
(1) 基材表面を極めてすぐれた撥水性にすること
ができる。通常の材料で最も高い撥水性を示す
テフロン材でも接触角は約100°であるが、プラ
ズマ重合膜は適切なモノマーガス（シリコン系
またはフツ素系）を選び、適度な条件により形
成すれば100〜110°の接触角を容易に実現でき
る。表面を粗面化することで撥水性が高まる
が、エツチングにより表面物性が変化するた
め、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合
膜を設ける必要がある。
ができる。通常の材料で最も高い撥水性を示す
テフロン材でも接触角は約100°であるが、プラ
ズマ重合膜は適切なモノマーガス（シリコン系
またはフツ素系）を選び、適度な条件により形
成すれば100〜110°の接触角を容易に実現でき
る。表面を粗面化することで撥水性が高まる
が、エツチングにより表面物性が変化するた
め、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合
膜を設ける必要がある。
(2) 撥水処理は低温での処理であり、いかなる材
料にも施すことが可能であり、効果も大であ
る。
料にも施すことが可能であり、効果も大であ
る。
例えば、バツクミラーを撥水処理すれば、視
界が常に確保でき、安全性が向上する。ヘツド
ランプレンズや交通信号灯のレンズに適用すれ
ば、水滴付着による光のロスを防ぐことができ
る。
界が常に確保でき、安全性が向上する。ヘツド
ランプレンズや交通信号灯のレンズに適用すれ
ば、水滴付着による光のロスを防ぐことができ
る。
(3) この撥水性表面は、摩擦係数が非常に小さい
ため、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみ
も付きにくい。従つて、高層ビルの窓ガラスに
適用すれば、優れた効果を発揮する。
ため、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみ
も付きにくい。従つて、高層ビルの窓ガラスに
適用すれば、優れた効果を発揮する。
(4) 撥水処理を施した表面は、一度重合膜を形成
した後、エツチングにより粗面化し、その上に
再度重合膜を形成した二重の重合膜としたこと
により、安定性が向上し半永久的な特性とな
る。
した後、エツチングにより粗面化し、その上に
再度重合膜を形成した二重の重合膜としたこと
により、安定性が向上し半永久的な特性とな
る。
(5) この撥水性表面は、耐摩耗性に優れている。
これは、プラズマ重合を行う場合、基材をカソ
ード電極上にセツトしたため、重合と同時にス
パツタリングが生じ、弱い結合分子は取り除か
れ、強い結合のみにより膜が形成されるからで
ある。
これは、プラズマ重合を行う場合、基材をカソ
ード電極上にセツトしたため、重合と同時にス
パツタリングが生じ、弱い結合分子は取り除か
れ、強い結合のみにより膜が形成されるからで
ある。
(6) この撥水性表面は、耐熱性、耐薬品性に優れ
ている。これは、プラズマ重合膜が三次元クロ
スリンク構造から成り立つているためと考えら
れる。
ている。これは、プラズマ重合膜が三次元クロ
スリンク構造から成り立つているためと考えら
れる。
第１図は本発明に係る撥水処理方法の一実施例
を示す処理工程説明図、第２図は撥水処理に用い
る装置の構成図、第３図は撥水性の度合い（水に
よる接触角）を示す図である。 １……基材、２及び３……プラズマ重合膜、１
１……容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソ
ード電極、１２……アノード電極、１３……容
器、１４……高周波電源、１５……ガス導入口、
１６……排気口。
を示す処理工程説明図、第２図は撥水処理に用い
る装置の構成図、第３図は撥水性の度合い（水に
よる接触角）を示す図である。 １……基材、２及び３……プラズマ重合膜、１
１……容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソ
ード電極、１２……アノード電極、１３……容
器、１４……高周波電源、１５……ガス導入口、
１６……排気口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基材表面にプラズマ重合膜を形成した後、そ
の表面をエツチングにより粗面化し、更にプラズ
マ重合膜を形成することを特徴とする撥水処理方
法。 ２ ブラズマ重合膜としてシリコン系またはフツ
素系重合膜を用いる特許請求の範囲第１項記載の
撥水処理方法。 ３ エツチング時にCF4、Ar、O2またはこれら
の混合ガスを用いる特許請求の範囲第１項または
第２項記載の撥水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62191447A JPS62191447A (ja) | 1987-08-21 |
| JPH0415179B2 true JPH0415179B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=12407081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3418386A Granted JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62191447A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1244843B (it) * | 1990-11-21 | 1994-09-06 | Donegani Guido Ist | Procedimento per ridurre il coefficiente d'attrito e per incrementare l'idrorepellenza di superfici di corpi formati in materiale polimerico |
| JPH0597478A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 |
| NL9300447A (nl) * | 1993-03-12 | 1994-10-03 | Biwex Nv | Inrichting en werkwijze voor het op een glasplaat aanbrengen van een laag, en aldus verkregen glasplaat. |
| US6660363B1 (en) | 1994-07-29 | 2003-12-09 | Wilhelm Barthlott | Self-cleaning surfaces of objects and process for producing same |
| US5744215A (en) * | 1996-01-04 | 1998-04-28 | Ppg Industries, Inc. | Reduction of haze in transparent coatings |
| AU779530B2 (en) * | 2000-05-10 | 2005-01-27 | Nkt Research A/S | A method of coating the surface of an inorganic substrate with an organic material and the product obtained |
| JP4393048B2 (ja) | 2002-09-11 | 2010-01-06 | キヤノン株式会社 | 放射線変換基板、放射線撮影装置および放射線撮影システム |
| US7196043B2 (en) | 2002-10-23 | 2007-03-27 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Process and composition for producing self-cleaning surfaces from aqueous systems |
| US7722951B2 (en) * | 2004-10-15 | 2010-05-25 | Georgia Tech Research Corporation | Insulator coating and method for forming same |
| FR2893266B1 (fr) * | 2005-11-14 | 2007-12-21 | Commissariat Energie Atomique | Produit superhydrophile ou superhydrophobe, procede pour sa realisation et utilisation de ce produit |
| JP2008066067A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Ichikoh Ind Ltd | 車両用ランプ装置の製造方法 |
| EP2839970B1 (de) | 2013-08-21 | 2017-11-01 | Hueck Rheinische GmbH | Verfahren zur Herstellung einer hydrophoben oder superhydrophoben Oberflächentopografie |
| JP2017061388A (ja) * | 2014-02-06 | 2017-03-30 | 旭硝子株式会社 | ガラス樹脂複合体の製造方法 |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP3418386A patent/JPS62191447A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62191447A (ja) | 1987-08-21 |
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