JPH0415206A - 芳香環に置換基を有するジフェニルアセチレン重合体 - Google Patents
芳香環に置換基を有するジフェニルアセチレン重合体Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 33
- JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N biphenylacetylene Chemical group C1=CC=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 title abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 title description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- 229910004537 TaCl5 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 abstract 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 8
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 tantalum halide Chemical class 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000000475 acetylene derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARRNGEVJJGTTDG-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[3-(2-phenylethynyl)phenyl]silane Chemical group C[Si](C)(C)C1=CC=CC(C#CC=2C=CC=CC=2)=C1 ARRNGEVJJGTTDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZRJWRFLYPENFH-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[4-(2-phenylethynyl)phenyl]silane Chemical group C1=CC([Si](C)(C)C)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 UZRJWRFLYPENFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OJXGFEWFBRXAGR-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetramethyl-5-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group CC1=C(C)C(C)=CC(C#CC=2C=CC=CC=2)=C1C OJXGFEWFBRXAGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCQMSEHUKUGJFM-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetramethyl-3-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group CC1=CC(C)=C(C)C(C#CC=2C=CC=CC=2)=C1C WCQMSEHUKUGJFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSXZTABUTYCBF-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(CCCC)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 RCSXZTABUTYCBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIHCBXLKRQANHA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(CC)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 IIHCBXLKRQANHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLUINUYLPATFDY-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(CCCCCC)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 HLUINUYLPATFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTIFECUYDUJAY-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group CC1=CC=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 RVTIFECUYDUJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENVYSAMNKKWEK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(C)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 LENVYSAMNKKWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRSOXTPDSUJGBH-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 RRSOXTPDSUJGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNMXMEZTNDLNIU-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-(2-phenylethynyl)benzene Chemical group C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 MNMXMEZTNDLNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DANOKRKRYSWBNL-UHFFFAOYSA-N CC(C)[SiH2]C1=C(C=CC(=C1)C)C#CC1=CC=CC=C1 Chemical group CC(C)[SiH2]C1=C(C=CC(=C1)C)C#CC1=CC=CC=C1 DANOKRKRYSWBNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N butyltin Chemical compound CCCC[Sn] LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003482 tantalum compounds Chemical class 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
チレン重合体、さらに詳しくは、従来のポリアセチレン
とは異なり、空気に対して安定であり、かつ有機溶媒に
可溶で優れた膜形成能を有し、例えば分離膜、吸着材、
レジスト材料、半導体材料、記憶材料などへの応用が可
能な高分子量の芳香環に置換基を有する重合体に関する
ものである。
されており、高分子化合物の分野においても機能性高分
子材料の開発が積極的に試みられている。この機能性高
分子材料の1つとしてポリアセチレンが知られている。
と単結合で交互に結合してできる次素の鎖に水素がつい
た構造を有し、このままでは絶縁体に近い半導体である
が、ヨウ素のようなアクセプターをドープするとp型、
ナトリウムやカリウムのようなドナーをドープするとn
型の半導体となり、さらにドープ量を増やすことによっ
て、電気伝導度の高い導電性に優れたものになることが
知られている。このような電気的性質を有するポリアセ
チレンは、例えば蓄電池や太陽電池、表示素子、エレク
トロニクス素子、センサーなどへの応用が考えられる。
易に反応して劣化するため、寅用化しにくいという欠点
を有している。
るために、研究を重ね、先に、六ハロゲン化タングステ
ンや五ハロゲン化モリブデンを主体とする触媒を用いて
、1−アルキルアセチレン類やフェニルアセチレンの重
合に成功し、さらにl−フェニル−1−アルキン類や1
−トリメチルシリル−1−プロピンからは、触媒として
五塩化ニオビウムや五塩化タンタルを用いることにより
、分子量が数十万ないし百方以上の高重合体が得られる
ことを見い出した。
塩化タングステンや五塩化タンタルを用いることにより
重合するが、得られた重合体は有機溶媒に不溶であり、
かつ加熱により溶融させることができないため、フィル
ムなどに成形することが困鰭であるという欠点を有して
いる。
で、かつ成形が可能であって、新素材として工業的価値
の高い新規なジフェニルアセチレン系高重合体を提供す
ることを目的としてなされたものである。
ニルアセチレン系高重合体を開発すべく鋭意研究を重ね
た結果、一方のフェニル基にある種の置換基を1つ以上
導入したジフェニルアセチレン類の高重合体により、そ
の目的を達成しうろことを見い出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
数であり、mが2〜5の場合、Rは同一のものであって
もよいし、異なるものであってもよい) で表される繰り返し本位を有し、かつ重量平均分子量が
1万以上であることを特徴とする芳昏環に置換基を有す
るジフェニルアセチレン重合体を提供するものである。
、一般式 %式%([) (式中のR及びmは前記と同じ意味をもつ)で表される
ジフェニルアセチレン類が用いられる。
くはCl−0、特に好ましくはC1〜12のアルキル基
又はシリル基、好ましくはトリアルキルシリル基であり
、mは1〜5の整数であって、Rが2個以上の場合は、
該Rは同一のものであってもよいし、たがいに異なるも
のであってもよい。
としては、例えば1−(p−メチルフェニル)−2−フ
ェニルアセチレン、1−(p−エチルフェニル)−2−
フェニルアセチレン、1−(p−n−ブチルフェニル)
−2−フェニルアセチレン、l −(p −n−ヘキシ
ルフェニル)−2=フエニルアセチレン、1−(p−n
−オクチルフェニル)−2−フェニルアセチレン、1−
(p−t−ブチルフェニル)−2−フェニルアセチレン
、1−(o−メチルフェニル)−2−フェニルアセチレ
ン、I−(o〜エチル7ニニル)−2−フェニルアセチ
レン、l−(m−メチルフェニル)−2−フェニルアセ
チレン、1−(2,4,6−)リメチルフェニル)−2
−フェニルアセチレン、1−(2,3,4,5−テトラ
メチルフェニル)−2フエニルアセチレン、1−(2,
3,5,6−テトラメチルフェニル)−2−フェニルア
セチレン、1−(p −トリメチルシリルフェニル)−
2−フェニルアセチレン、1−(m−トリメチルシリル
フェニル)−2−フェニルアセチレン、1−(1)−ト
リエチルシリルフェニル)−2−フェニルアセチレンs
1− (p−ジメチルエチルシリルフェニル)−2
−フェニルアセチレンなどを挙ケることができる。これ
らのジフェニルアセチレン類は、それぞれ単独で用いて
もよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また
、他の置換アセチレン類と共重合させることもできる。
、ニオビウム、タンタルなどの遷移金属化合物が用いら
れるが、これらの中で特にタンタル化合物が好適であり
、その使用方法としては次の2種が挙げられる。すなわ
ち(1)五塩化タンタルなどのハロゲン化タンタルを使
用する方法、及び(2)ハロゲン化タンタルを主触媒と
し、還元剤を第二成分とする開始剤を使用する方法であ
る。後者の(2)の方法においては、主成分のハロゲン
化タンタルとして、五塩化タンタルの使用が好ましく、
また、第二成分の還元剤としては、通常アルミニウム、
ホウ素、ケイ素、スズ、アンチモン、ビスマス、リチウ
ムなどを含む有機金属化合物が用いられる。
は、通常上ツマ−に対して0.1〜5モル%の範囲で選
ばれ、また前記(2)の方法における還元剤は主触媒に
対する割合がモル比で0.3〜3になるように用いるの
が好ましい。
えばトルエンなどの芳香族炭化水素、シクロヘキサンな
どの脂肪族炭化水素、四塩化炭素、二塩化エチレンなど
のハロゲン化炭化水素、アニソール、ジブチルエーテル
、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、アセトフェ
ノンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル類など
が挙げられる。これらの溶媒は1種用いてもよいし、2
種以上を混合して用いてもよい。
しく、特に0〜80°Cの範囲が好ましい。
望重合度などにより左右され、−概に定めることができ
ないが、通常0.5〜100時間程度である。さらに、
重合は乾燥窒素雰囲気下で行うのが有利である。
式(n)で表される芳香環に置換基を有するジフェニル
アセチレン類と他の成分として用いられる置換アセチレ
ン類との割合については特にM@はなく、任意の比率で
雨上ツマ−を使用することができる。
一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重量平均
分子量が1万以上の高重合度の重合体である。なお、こ
の重量平均分子量(Rw)は、ゲル・パーミェーション
・クロマトグラフィー(GPC)法により求めたポリス
チレン換算の値である。
、従来のポリアセチレンとは異なり、空気に対して安定
である上、耐熱材料としても期待できる。また、有機溶
媒Iこ可溶で膜形成能を有することから、物質の分離膜
としての利用も可能であり、さらには共役二重結合を宵
しているため、半導体材料、レジスト材料などにも利用
可能である。
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
撹拌しなから五塩化タンタル20ミリモルとテトラ−n
−ブチルスズ20ミリモルを加え、80℃で溶解した。
−フェニルアセチレン0.5モルを添加し、80℃で重
合を進行させた。24時間後、反応混合物を大量のメタ
ノール中に投入して生成重合体を沈殿させ、ろ別し乾燥
した。重合体の収率は50重量%であり、その重量平均
分子量は68万であった。このもののNMR測定結果を
第1図に示す。
エンなどの芳香族炭化水素、四塩化炭素などのハロゲン
化炭化水素、テトラヒドロ7ランなどのエーテルなどの
有機溶媒に可溶であった。
、実施例1と同様にして重合を行ったところ、60重量
%の収率で重量平均分子量が75万の重合体が得られた
。
シリルフェニル)−2−フェニルアセチレンを用いた以
外は、実施例1と同様にして重合を行ったところ、40
重量%の収率で重量平均分子量が37万の重合体が得ら
れた。このもののNMR測定結果を第2図に示す。
シルフェニル)−2−フェニルアセチレンを用い、かつ
テトラ−n−ブチルスズを40ミリモル加えたこと以外
は、実施例1と同様にして重合を行ったところ、55重
量%の収率で重量平均分子量が92万の重合体が得られ
た。このもののNMR測定結果を第3図に示す。
モルに変えた以外は、実施例4と同様にして重合を行っ
たところ、6011を量%の収率で重量平均分子量が1
20万の重合体が得られた。
シリルフェニル)−2−フェニルアセチレン0.5モル
とともに、ジフェニルアセチレン0.5モルを用いた以
外は、実施例1と同様の方法で共重合を行ったところ、
重合時間の経過とともに1〜(p−)リメチルシリルフ
ェニル)−2=フエニルアセチレンとジフェニルアセチ
レンがほぼ同じ速度で消費され、24時間後には両車量
体の重合体への転化率は80%に達した。ここで得られ
た重合体のGPC曲線は単峰性を示し、共重合体の生成
していることが分かる。
基を有するジフェニルアセチレン重合体は、重量平均分
子量が1万以上の高重合度の全く新規な重合体であって
、従来のポリアセチレンと異なり、空気に対して安定で
ある上、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素、テトラ
ヒドロフラン、アニソールなどのエーテル、トルエンな
どの芳香族炭化水素に可溶で優れた膜形成能を有してお
り、新素材として例えば分離膜、吸着材、レジスト材料
、半導体材料、記憶材料などへの応用が可能で工業的価
値が極めて高い。
異なった例のNMR測定チャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基又はシリル基、mは1〜5の整
数であり、mが2〜5の場合、Rは同一のものであって
もよいし、異なるものであってもよい) で表される繰り返し単位を有し、かつ重量平均分子量が
1万以上であることを特徴とする芳香環に置換基を有す
るジフェニルアセチレン重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2119518A JP2974369B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 芳香環に置換基を有するジフェニルアセチレン重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2119518A JP2974369B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 芳香環に置換基を有するジフェニルアセチレン重合体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0415206A true JPH0415206A (ja) | 1992-01-20 |
| JP2974369B2 JP2974369B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=14763259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2119518A Expired - Lifetime JP2974369B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 芳香環に置換基を有するジフェニルアセチレン重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2974369B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005314585A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Nof Corp | 分子量が制御された置換ジフェニルアセチレン重合体の製造方法 |
-
1990
- 1990-05-09 JP JP2119518A patent/JP2974369B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005314585A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Nof Corp | 分子量が制御された置換ジフェニルアセチレン重合体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2974369B2 (ja) | 1999-11-10 |
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