JPH0415210B2 - - Google Patents
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- JPH0415210B2 JPH0415210B2 JP60504412A JP50441285A JPH0415210B2 JP H0415210 B2 JPH0415210 B2 JP H0415210B2 JP 60504412 A JP60504412 A JP 60504412A JP 50441285 A JP50441285 A JP 50441285A JP H0415210 B2 JPH0415210 B2 JP H0415210B2
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- diphenylhexafluoropropane
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
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- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
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Description
請求の範囲
1 2,2−ビス(4−トリメチルシリルフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4
−ビニルフエニル)ヘキサフルオロプロパン及び
2,2−ビス(4−エポキシフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパンからなる群から選ばれたヘキサフ
ルオロプロパン化合物。
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4
−ビニルフエニル)ヘキサフルオロプロパン及び
2,2−ビス(4−エポキシフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパンからなる群から選ばれたヘキサフ
ルオロプロパン化合物。
[発明の背景]
1 技術分野
この発明は、一般にジフエニルヘキサフルオロ
プロパン誘導体、特に、炭素又はけい素によつて
ジフエニルヘキサフルオロプロパンのフエニル環
のパラー位置に各種の基が付いた誘導体に関す
る。
プロパン誘導体、特に、炭素又はけい素によつて
ジフエニルヘキサフルオロプロパンのフエニル環
のパラー位置に各種の基が付いた誘導体に関す
る。
2 背景技術
ジフエニルヘキサフルオロプロパンは、基本的
にはヘキサフルオロプロパンの番号2の炭素の反
対側に付いた2個のフエニル環からなる極めて多
用性の化合物である。過去には、ジフエニルヘキ
サフルオロプロパンの多くの異なる誘導体が、フ
エニル環のパラー又はメター位置に各種の官能基
を付けることによつて製造されてきた。これらの
誘導体は、高温構造コンポジツトに用いるための
熱安定性樹脂の合成に有用な中間体であることが
判つた。
にはヘキサフルオロプロパンの番号2の炭素の反
対側に付いた2個のフエニル環からなる極めて多
用性の化合物である。過去には、ジフエニルヘキ
サフルオロプロパンの多くの異なる誘導体が、フ
エニル環のパラー又はメター位置に各種の官能基
を付けることによつて製造されてきた。これらの
誘導体は、高温構造コンポジツトに用いるための
熱安定性樹脂の合成に有用な中間体であることが
判つた。
これまでに製造されたジフエニルヘキサフルオ
ロプロパン化合物は、エチニル基、アミノ基、ハ
ロゲンのような各種官能基が炭素又は窒素結合に
よつてメター位置においてフエニル環に付いてい
る。良く知られているように、化学的先駆体及び
中間体の特定の異性体型は所望の化学物質の最終
特性及び作用を定めるに当たつて重要な因子であ
る。従つて、メター位置の代わりにパラー位置に
おいてフエニル環に官能基が付いたジフエニルヘ
キサフルオロプロパン誘導体を製造することも望
ましいことである。
ロプロパン化合物は、エチニル基、アミノ基、ハ
ロゲンのような各種官能基が炭素又は窒素結合に
よつてメター位置においてフエニル環に付いてい
る。良く知られているように、化学的先駆体及び
中間体の特定の異性体型は所望の化学物質の最終
特性及び作用を定めるに当たつて重要な因子であ
る。従つて、メター位置の代わりにパラー位置に
おいてフエニル環に官能基が付いたジフエニルヘ
キサフルオロプロパン誘導体を製造することも望
ましいことである。
パラー又はメター位置にエチニル基が付いたジ
フエニルヘキサフルオロプロパン化合物は、本特
許出願人の米国特許第4374291号明細書に開示さ
れている。然しながら、過去に開発され現在入手
できる他のパラー置換ジフエニルヘキサフルオロ
プロパン誘導体は全て官能基とフエニル環との間
に酸素又は硫黄結合を含んでいる。官能基の硫黄
又は酸素を介してのフエニル環のパラー位置への
付着はかなり柔軟な結合を生じ、それはかなり柔
軟な重合体生成物を生じる傾向がある。柔軟な高
温重合体は種種の応用に適してはいるけれども、
多くの場合堅さを増大した熱安定性樹脂を提供す
ることが望ましい。更に、重合体樹脂中の硫黄及
び酸素結合は酸化性劣化又は分裂を受け易く、硫
黄又は酸素結合ジフエニルヘキサフルオロプロパ
ン誘導体が配合されている重合体のはやすぎる劣
化を生じる。
フエニルヘキサフルオロプロパン化合物は、本特
許出願人の米国特許第4374291号明細書に開示さ
れている。然しながら、過去に開発され現在入手
できる他のパラー置換ジフエニルヘキサフルオロ
プロパン誘導体は全て官能基とフエニル環との間
に酸素又は硫黄結合を含んでいる。官能基の硫黄
又は酸素を介してのフエニル環のパラー位置への
付着はかなり柔軟な結合を生じ、それはかなり柔
軟な重合体生成物を生じる傾向がある。柔軟な高
温重合体は種種の応用に適してはいるけれども、
多くの場合堅さを増大した熱安定性樹脂を提供す
ることが望ましい。更に、重合体樹脂中の硫黄及
び酸素結合は酸化性劣化又は分裂を受け易く、硫
黄又は酸素結合ジフエニルヘキサフルオロプロパ
ン誘導体が配合されている重合体のはやすぎる劣
化を生じる。
従つて、メター置換誘導体に代わつて重合体先
駆体として用いることができ、パラー置換基とフ
エニル環との間に硫黄又は酸素を含まないパラー
置換ジフエニルヘキサフルオロプロパン誘導体を
提供する必要性が存在する。
駆体として用いることができ、パラー置換基とフ
エニル環との間に硫黄又は酸素を含まないパラー
置換ジフエニルヘキサフルオロプロパン誘導体を
提供する必要性が存在する。
[発明の概要]
この発明によると、パラー置換ジフエニルヘキ
サフルオロプロパン化合物の新規群が開示され、
酸素又は硫黄結合を要求しないメター置換ジフエ
ニルヘキサフルオロプロパン誘導体の相互重合体
先駆体を提供する。
サフルオロプロパン化合物の新規群が開示され、
酸素又は硫黄結合を要求しないメター置換ジフエ
ニルヘキサフルオロプロパン誘導体の相互重合体
先駆体を提供する。
この新規ジフエニルヘキサフルオロプロパン誘
導体は次の式を有する。
導体は次の式を有する。
「式中、Rは、置換又は未置換のアルキレン基、
エポキシ基又はアルキルシリル基であり、Xは水
素又はハロゲンであり、かつ、Yは水素又はハロ
ゲンである。」 この発明によるジフエニルヘキサフルオロプロ
パン誘導体は官能基Rとジフエニルヘキサフルオ
ロプロパンのフエニル環との間に直接炭素又はけ
い素結合を有する。炭素又はけい素結合は硫黄又
は酸素結合より硬い。その結果、従来の硫黄及び
酸素結合誘導体によつて従来可能であつたものよ
り一層硬い重合体がパラー置換ジフエニルヘキサ
フルオロプロパンから製造することが可能となつ
た。新規ジフエニルヘキサフルオロプロパン誘導
体は硬い重合体を製造するのに有用であるばかり
でなく、生成重合体は酸素又は硫黄結合が存在し
ないため熱的にも安定であり酸化性攻撃に対して
も抵抗性がある。
エポキシ基又はアルキルシリル基であり、Xは水
素又はハロゲンであり、かつ、Yは水素又はハロ
ゲンである。」 この発明によるジフエニルヘキサフルオロプロ
パン誘導体は官能基Rとジフエニルヘキサフルオ
ロプロパンのフエニル環との間に直接炭素又はけ
い素結合を有する。炭素又はけい素結合は硫黄又
は酸素結合より硬い。その結果、従来の硫黄及び
酸素結合誘導体によつて従来可能であつたものよ
り一層硬い重合体がパラー置換ジフエニルヘキサ
フルオロプロパンから製造することが可能となつ
た。新規ジフエニルヘキサフルオロプロパン誘導
体は硬い重合体を製造するのに有用であるばかり
でなく、生成重合体は酸素又は硫黄結合が存在し
ないため熱的にも安定であり酸化性攻撃に対して
も抵抗性がある。
この発明の上述した特色及び多くの他の特色及
び附随する利点は、次のこの発明の詳細な説明を
通じて一層良く理解されるであろう。
び附随する利点は、次のこの発明の詳細な説明を
通じて一層良く理解されるであろう。
[発明の具体的説明]
この発明による化合物は次の一般式を有する。
「式中、Rは、置換又は未置換のアルキレン基、
エポキシ基又はアルキルシリル基であり、Xは水
素又はハロゲンであり、かつ、Yは水素又はハロ
ゲンである。」好ましいアルキレン基も炭素原子
数1−4のものである。ビニル及びビニル誘導体
は特に好ましい。
エポキシ基又はアルキルシリル基であり、Xは水
素又はハロゲンであり、かつ、Yは水素又はハロ
ゲンである。」好ましいアルキレン基も炭素原子
数1−4のものである。ビニル及びビニル誘導体
は特に好ましい。
「これらの基には、ビニル、β−クロロビニル、
β−メチルビニル、(β−アセトキシ)ビニル、
β−フエニルビニル、β,β−ジメチルビニル、
α−クロロビニル、又は(β−メトキシカルボニ
ル−β−メチル)ビニルが含まれる。」炭素原子
1−4のシリル及びシロキシ基が好ましく、トリ
メチルシリルが特に好ましい、そのほか、上述の
アルキル、アルキレン、カルボニル、カルボキ
シ、シリル、シロキシ又はアシル基は1又は2個
のフエニル環を含んでいても良い。
β−メチルビニル、(β−アセトキシ)ビニル、
β−フエニルビニル、β,β−ジメチルビニル、
α−クロロビニル、又は(β−メトキシカルボニ
ル−β−メチル)ビニルが含まれる。」炭素原子
1−4のシリル及びシロキシ基が好ましく、トリ
メチルシリルが特に好ましい、そのほか、上述の
アルキル、アルキレン、カルボニル、カルボキ
シ、シリル、シロキシ又はアシル基は1又は2個
のフエニル環を含んでいても良い。
パラー位置に付いたR基に加えて、新規化合物
はメター位置に置換したハロゲンを含んでいても
良い。任意のハロゲンが用いられるが、よう素又
は臭素が好ましい。X及びYの両者は所望ならハ
ロゲンであつても良いが、Xがハロゲンで、Yが
水素であるのが好ましい。また好ましいのはX及
びYの両者が水素であるものである。
はメター位置に置換したハロゲンを含んでいても
良い。任意のハロゲンが用いられるが、よう素又
は臭素が好ましい。X及びYの両者は所望ならハ
ロゲンであつても良いが、Xがハロゲンで、Yが
水素であるのが好ましい。また好ましいのはX及
びYの両者が水素であるものである。
この発明による化合物の製造は好ましくは2,
2−ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロ
プロパン[BPHP]から始める。BPHPは、「米
国特許第4503254号明細書に記載された反応性単
量体である」好ましい原料は臭素置換体である
が、他のパラーハロゲン置換化合物、例えば、
2,2−ビス(4−イオドフエニル)ヘキサフル
オロプロパン及び2,2−ビス(4−クロロフエ
ニル)ヘキサフルオロプロパンも使用できる。
2−ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロ
プロパン[BPHP]から始める。BPHPは、「米
国特許第4503254号明細書に記載された反応性単
量体である」好ましい原料は臭素置換体である
が、他のパラーハロゲン置換化合物、例えば、
2,2−ビス(4−イオドフエニル)ヘキサフル
オロプロパン及び2,2−ビス(4−クロロフエ
ニル)ヘキサフルオロプロパンも使用できる。
次の例の多くで原料として用いられる2,2−
ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンは、トリフエニルフオスフインジブロミドと
ビスフエノールAF[2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフエニル)ヘキサフルオロプロパン]とを280
℃以上の温度で反応させることによつて製造され
る。ビスフエノールAFは市場で広く入手できる
普通の化合物である。合成の一例は次の通りであ
る。
ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンは、トリフエニルフオスフインジブロミドと
ビスフエノールAF[2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフエニル)ヘキサフルオロプロパン]とを280
℃以上の温度で反応させることによつて製造され
る。ビスフエノールAFは市場で広く入手できる
普通の化合物である。合成の一例は次の通りであ
る。
トリフエニルフオスフイン、ジブロミド[0.2
モル]のジクロロメタン[250ml]中スラリーに
アルゴンの下で2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
エニル)ヘキサフルオロプロパン[0.1モル]を
加えた。溶媒を蒸溜によつて除去して固体反応混
合物を残し、反応混合物を含むフラスコを350℃
の融解金属浴中に2時間置いた。反応混合物は
100℃に冷却し他のフラスコに注いだ。更に反応
混合物を冷却するとフラスコ中に固体が生じ、
300ml部分のヘキサンで3回洗浄し、ヘキサン溶
液を漏過して不要の反応副産物を除いた。生成し
た生成物のヘキサン溶液を20%水酸化ナトリウム
及び脱イオン水で洗浄した。溶液を次いで無水硫
酸マグネシウム上で乾燥し短いアルミナコラムを
流下させた。ヘキサンを溶液から取除き生成する
半固体を蒸溜して76%の収率で生成物、2,2−
ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンを製造した。この種の反応にとつては高収率
である。
モル]のジクロロメタン[250ml]中スラリーに
アルゴンの下で2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
エニル)ヘキサフルオロプロパン[0.1モル]を
加えた。溶媒を蒸溜によつて除去して固体反応混
合物を残し、反応混合物を含むフラスコを350℃
の融解金属浴中に2時間置いた。反応混合物は
100℃に冷却し他のフラスコに注いだ。更に反応
混合物を冷却するとフラスコ中に固体が生じ、
300ml部分のヘキサンで3回洗浄し、ヘキサン溶
液を漏過して不要の反応副産物を除いた。生成し
た生成物のヘキサン溶液を20%水酸化ナトリウム
及び脱イオン水で洗浄した。溶液を次いで無水硫
酸マグネシウム上で乾燥し短いアルミナコラムを
流下させた。ヘキサンを溶液から取除き生成する
半固体を蒸溜して76%の収率で生成物、2,2−
ビス(4−ブロモフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンを製造した。この種の反応にとつては高収率
である。
好ましいジフエニルヘキサフルオロプロパン誘
導体の製造例は次の通りである。
導体の製造例は次の通りである。
例 1
2,2−ビス(4−トリメチルシリルフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン この合成は次のように示される。
ル)ヘキサフルオロプロパン この合成は次のように示される。
4.62g[0.1モル]の2,2−ビス(4−ブロ
モフエニル)ヘキサフルオロプロパンの75ml無水
テトラヒドロフラン中溶液に、反応混合物をドラ
イアイス−アセトンスラツシユ中で冷却しなが
ら、28ml[0.4モル]のn−ブチルリチウムの1.4
モルヘキサン溶液を滴加した。反応混合物を−78
℃で1時間半撹拌した。次いでクロロトリメチル
シラン[5ml、0.04モル]の滴加を反応混合物に
−78℃で行なつた。撹拌スラリーを放置し16時間
に亙つて大気温度にした。反応混合物に100mlヘ
キサンを加えた。有機層を2×150ml飽和塩化ナ
トリウム溶液及び2×150ml水で洗浄した。有機
層を乾燥し、漏過し、濃縮して白色結晶生成物
2,2−ビス(4−トリメチルシリルフエニル)
ヘキサフルオロプロパンを得た。
モフエニル)ヘキサフルオロプロパンの75ml無水
テトラヒドロフラン中溶液に、反応混合物をドラ
イアイス−アセトンスラツシユ中で冷却しなが
ら、28ml[0.4モル]のn−ブチルリチウムの1.4
モルヘキサン溶液を滴加した。反応混合物を−78
℃で1時間半撹拌した。次いでクロロトリメチル
シラン[5ml、0.04モル]の滴加を反応混合物に
−78℃で行なつた。撹拌スラリーを放置し16時間
に亙つて大気温度にした。反応混合物に100mlヘ
キサンを加えた。有機層を2×150ml飽和塩化ナ
トリウム溶液及び2×150ml水で洗浄した。有機
層を乾燥し、漏過し、濃縮して白色結晶生成物
2,2−ビス(4−トリメチルシリルフエニル)
ヘキサフルオロプロパンを得た。
次の理想的データが記録された。
NMR(CDCl3):δ7.4(m,4H,芳香族)及び
0.5ppm(s,9H,シリルメチル)。
0.5ppm(s,9H,シリルメチル)。
IR(フイルム):2970,1325,1255,1210,
1180,970,840,815cm-1 参考例 2,2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン この合成は次のように示される。
1180,970,840,815cm-1 参考例 2,2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン この合成は次のように示される。
17.58g[0.38モル]の2,2−ビス(4−ブ
ロモフエニル)ヘキサフルオロプロパンの100ml
の無水テトラヒドロフラン[THF]中の78℃の
溶液にn−ブチルリチウムの1.1モルヘキサン溶
液83mlを滴加した。添加は30分間かかつた。−60
乃至−65℃において15分後、反応混合物に無水テ
トラヒドロフラン50ml中のジメチルフオルムアミ
ド10.0g[0.137モル]の滴加をした。反応混合
物を1時間に亙つて25℃に暖め25℃に8時間維持
した。この期間の終に、反応混合物を1リツトル
の撹拌水に注いだ。生成物は、エチルエーテルで
抽出し、2×200mlの水で洗浄し、エーテル層を
乾燥した。エーテル留分の濃縮によつて8.46g
[23.5モル、61.8%収率]の白色固体生成物、2,
2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキサフル
オロプロパンを得た。M.P.130−132℃。
ロモフエニル)ヘキサフルオロプロパンの100ml
の無水テトラヒドロフラン[THF]中の78℃の
溶液にn−ブチルリチウムの1.1モルヘキサン溶
液83mlを滴加した。添加は30分間かかつた。−60
乃至−65℃において15分後、反応混合物に無水テ
トラヒドロフラン50ml中のジメチルフオルムアミ
ド10.0g[0.137モル]の滴加をした。反応混合
物を1時間に亙つて25℃に暖め25℃に8時間維持
した。この期間の終に、反応混合物を1リツトル
の撹拌水に注いだ。生成物は、エチルエーテルで
抽出し、2×200mlの水で洗浄し、エーテル層を
乾燥した。エーテル留分の濃縮によつて8.46g
[23.5モル、61.8%収率]の白色固体生成物、2,
2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキサフル
オロプロパンを得た。M.P.130−132℃。
次の物理的データが記録された。
NMR(CDCl1):δ10.1(s,1H,アルデヒド性
プロトン)及び7.7ppm(m,4H,芳香族)。
プロトン)及び7.7ppm(m,4H,芳香族)。
IR(KBr):1700,1385,1315,1280,1250,
1230,1210,1190,1170,1115,810cm-1 元素分析: C H F Br C17H10F6O4(360.253) 計算56.68 2.80 31.64 0.0 実測56.82 2.90 31.47 0.23 例 2 2,2−ビス(4−ビニルフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパン この合成は次のように示される。
1230,1210,1190,1170,1115,810cm-1 元素分析: C H F Br C17H10F6O4(360.253) 計算56.68 2.80 31.64 0.0 実測56.82 2.90 31.47 0.23 例 2 2,2−ビス(4−ビニルフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパン この合成は次のように示される。
メチルトリフエニルフオスフオニウムイオダイ
ド[8.18g]をアルゴンの下で50ml無水テトラヒ
ドロフランに懸濁させた。−78℃に冷却後スラリ
ーを20ml[24mモル]の1.2Mn−ブチルリチウム
で処理した。15分間撹拌後、参考例からのジアル
デヒド生成物の40mlテトラヒドロフラン中の溶液
を未だ−78℃でスラリーに加えた。添加完了後、
反応混合物を25℃に2時間に亙つて暖め、その温
度に20時間維持した。反応混合物を500mlの10%
塩酸中に注いだ。生成物を4回100mlのエーテル
洗浄で抽出した。エーテル抽出物を合わせたもの
を200mlの飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥した。乾燥エーテル溶液
の濃縮により黄色の油が得られた。この油をシリ
カゲル及びヘキサン中10%塩化メチレンを用いた
カラムクロマトグラフにより1.370g[38.5%収
率]の透明黄色粘着性の油を得る。これは2,2
−ビス(4−ビニルフエニル)ヘキサフルオロプ
ロパンであると定められた。
ド[8.18g]をアルゴンの下で50ml無水テトラヒ
ドロフランに懸濁させた。−78℃に冷却後スラリ
ーを20ml[24mモル]の1.2Mn−ブチルリチウム
で処理した。15分間撹拌後、参考例からのジアル
デヒド生成物の40mlテトラヒドロフラン中の溶液
を未だ−78℃でスラリーに加えた。添加完了後、
反応混合物を25℃に2時間に亙つて暖め、その温
度に20時間維持した。反応混合物を500mlの10%
塩酸中に注いだ。生成物を4回100mlのエーテル
洗浄で抽出した。エーテル抽出物を合わせたもの
を200mlの飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥した。乾燥エーテル溶液
の濃縮により黄色の油が得られた。この油をシリ
カゲル及びヘキサン中10%塩化メチレンを用いた
カラムクロマトグラフにより1.370g[38.5%収
率]の透明黄色粘着性の油を得る。これは2,2
−ビス(4−ビニルフエニル)ヘキサフルオロプ
ロパンであると定められた。
次の物理的データが記録された。
GC−MS:−のピーク、m/e356
NMR(CDCl3):δ7.3(bs,4H,芳香族H′s),
6,9,6,7,6,6,6.5(d×d,1H,JAB
=17.5Hz,JAC=11Hz,ビニルHA),5,8,5,
6(d×d,1H,JAB=17.5Hz,JBC=1.5Hz、ビニ
ルHB)、及び5.3,5.1ppm(d×d,1H,JAC=11
Hz,JBC=1.5Hz,ビニルHC)。この3個のビニル
プロトンはクラシカルABX3−核スプリツテイン
グパターンを与える。
6,9,6,7,6,6,6.5(d×d,1H,JAB
=17.5Hz,JAC=11Hz,ビニルHA),5,8,5,
6(d×d,1H,JAB=17.5Hz,JBC=1.5Hz、ビニ
ルHB)、及び5.3,5.1ppm(d×d,1H,JAC=11
Hz,JBC=1.5Hz,ビニルHC)。この3個のビニル
プロトンはクラシカルABX3−核スプリツテイン
グパターンを与える。
例 3
2,2−ビス(4−エポキシフエニル)ヘキサ
フルオロプロパン この合成は次のように示される。
フルオロプロパン この合成は次のように示される。
アルゴン雰囲気のフラスコに3.78g[0.03モ
ル]硫酸ジメチル、1.05g[0.033モル]硫化ジ
メチル、及び20mlアセトニトリルを入れた。混合
物を25℃で24時間撹拌した。ナトリウム、メトキ
サイド[1.87g,0.033モル]を一度に加え、反
応混合物を更に1時間25℃で撹拌した。反応混合
物に3.60g「0.01モル]の、参考例で生成した、
2,2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキサ
フルオロプロパンを15分間に亙つて加えた。添加
完了後、撹拌を18時間継続した。反応フラスコに
蒸溜器を取付け硫酸ジメチル及び硫化ジメチルの
ほとんどを除いた。冷却反応生成物に20mlアセト
ニトリルを加えた。有機層を4×100ml脱イオン
水で洗浄し硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮
し、キユーゲルロール装置を用いて精製し2.21
g、0.0057モル、57%収率の生成物、2,2−ビ
ス(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンを得た。
ル]硫酸ジメチル、1.05g[0.033モル]硫化ジ
メチル、及び20mlアセトニトリルを入れた。混合
物を25℃で24時間撹拌した。ナトリウム、メトキ
サイド[1.87g,0.033モル]を一度に加え、反
応混合物を更に1時間25℃で撹拌した。反応混合
物に3.60g「0.01モル]の、参考例で生成した、
2,2−ビス(4−フオルミルフエニル)ヘキサ
フルオロプロパンを15分間に亙つて加えた。添加
完了後、撹拌を18時間継続した。反応フラスコに
蒸溜器を取付け硫酸ジメチル及び硫化ジメチルの
ほとんどを除いた。冷却反応生成物に20mlアセト
ニトリルを加えた。有機層を4×100ml脱イオン
水で洗浄し硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮
し、キユーゲルロール装置を用いて精製し2.21
g、0.0057モル、57%収率の生成物、2,2−ビ
ス(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンを得た。
次の物理的データが記録された。
IR[フイルム]:1270,1250,1215,1185,
975,885,835cm-1 NMR(CDCl3):δ7.3(s),5.6(s),3.8(m)
,
3.1(m),2.7(m)ppm 応用例 エポキシ化ポリブタジエン及び2,2−ビス
(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンの共重合体 市販のエポキシ化ポリブタジエン[Nisso
Companyから、90%ビニルペンダント基の8%
エポキシ化]を、20%の例3で製造した2,2−
ビス(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプ
ロパンとブレンドし、次いで型内で標準多段硬化
法により4%1,2,3,6−テトラヒドロフタ
ル酸無水物及び1%ジクミルパーオキサイドで硬
化させて硬化したデイスク共重合体材料を形成し
た。
975,885,835cm-1 NMR(CDCl3):δ7.3(s),5.6(s),3.8(m)
,
3.1(m),2.7(m)ppm 応用例 エポキシ化ポリブタジエン及び2,2−ビス
(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンの共重合体 市販のエポキシ化ポリブタジエン[Nisso
Companyから、90%ビニルペンダント基の8%
エポキシ化]を、20%の例3で製造した2,2−
ビス(4−エポキシフエニル)ヘキサフルオロプ
ロパンとブレンドし、次いで型内で標準多段硬化
法により4%1,2,3,6−テトラヒドロフタ
ル酸無水物及び1%ジクミルパーオキサイドで硬
化させて硬化したデイスク共重合体材料を形成し
た。
以上、この発明の例示的具体例を説明してきた
が、当業者にとつては開示範囲は例示に過ぎない
ものであり、他の種種の変形、改変等がこの発明
の範囲内にあることに留意すべきである。従つ
て、この発明はこのように説明した具体例によつ
て限定されるのではなく、請求の範囲によつての
み限定されるものである。
が、当業者にとつては開示範囲は例示に過ぎない
ものであり、他の種種の変形、改変等がこの発明
の範囲内にあることに留意すべきである。従つ
て、この発明はこのように説明した具体例によつ
て限定されるのではなく、請求の範囲によつての
み限定されるものである。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US64699984A | 1984-09-04 | 1984-09-04 | |
| US646999 | 1984-09-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62500105A JPS62500105A (ja) | 1987-01-16 |
| JPH0415210B2 true JPH0415210B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=24595302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60504412A Granted JPS62500105A (ja) | 1984-09-04 | 1985-07-11 | ジフェニルヘキサフルオロプロパンの誘導体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0192767B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62500105A (ja) |
| DE (1) | DE3577708D1 (ja) |
| WO (1) | WO1986001511A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63221301A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-09-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | プラスチツク光伝送性繊維 |
| US5149764A (en) * | 1987-07-14 | 1992-09-22 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Substituted silyl-terminated compounds and polymers thereof |
| US4935479A (en) * | 1987-07-14 | 1990-06-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Substituted silyl-terminated compounds and polymers thereof |
| DE4022997A1 (de) * | 1989-07-19 | 1991-01-31 | Central Glass Co Ltd | Asymmetrische 2,2-bisarylhexafluorpropane und verfahren zu ihrer herstellung |
| US5219937A (en) * | 1989-12-04 | 1993-06-15 | Alliedsignal Inc. | Process for preparing graft and block copolymers of polyphenylene oxides and polyesters and copolymers prepared by said process |
| US5124411A (en) * | 1989-12-04 | 1992-06-23 | Allied-Signal, Inc. | Process for preparing graft and block copolymers of polyphenylene oxides and polyesters and copolymers prepared by said process |
| DE4020184A1 (de) * | 1990-06-25 | 1992-01-02 | Hoechst Ag | Teilfluorierte biphenyle, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| US6020508A (en) * | 1997-05-16 | 2000-02-01 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Radiation- or thermally-initiated cationically-curable epoxide compounds and compositions made from those compounds |
| CN116574016B (zh) * | 2023-03-29 | 2024-04-12 | 山东阳谷华泰化工股份有限公司 | 一种2,2-[4-(4-氨基苯氧基)-3,5-二甲基苯基]六氟丙烷的制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3310573A (en) * | 1963-06-17 | 1967-03-21 | Du Pont | Diaryl fluoro compounds |
| US3328352A (en) * | 1963-06-17 | 1967-06-27 | Du Pont | Fluorine containing aromatic polycarbonamides |
| US3388097A (en) * | 1964-05-15 | 1968-06-11 | Du Pont | Polyesters from perhaloalkyl bisphenols and specified aromatic acid halides |
| GB1228007A (ja) * | 1968-06-06 | 1971-04-15 | ||
| JPS5679150A (en) * | 1979-11-30 | 1981-06-29 | Daikin Ind Ltd | Epoxy composition containing fluorine |
| US4503254A (en) * | 1982-03-24 | 1985-03-05 | Hughes Aircraft Company | Process for making bis(halophenyl)hexafluoropropanes |
-
1985
- 1985-07-11 WO PCT/US1985/001312 patent/WO1986001511A1/en not_active Ceased
- 1985-07-11 EP EP85905012A patent/EP0192767B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-11 JP JP60504412A patent/JPS62500105A/ja active Granted
- 1985-07-11 DE DE8585905012T patent/DE3577708D1/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0192767B1 (en) | 1990-05-16 |
| EP0192767A1 (en) | 1986-09-03 |
| WO1986001511A1 (en) | 1986-03-13 |
| DE3577708D1 (de) | 1990-06-21 |
| JPS62500105A (ja) | 1987-01-16 |
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