JPH0415573B2 - - Google Patents

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JPH0415573B2
JPH0415573B2 JP62082788A JP8278887A JPH0415573B2 JP H0415573 B2 JPH0415573 B2 JP H0415573B2 JP 62082788 A JP62082788 A JP 62082788A JP 8278887 A JP8278887 A JP 8278887A JP H0415573 B2 JPH0415573 B2 JP H0415573B2
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JP
Japan
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machining
helical
wave structure
slow wave
thread
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JP62082788A
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English (en)
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JPS62259331A (ja
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Haapaa Robaato
Eru Roojuu Josefu
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Raytheon Co
Original Assignee
Raytheon Co
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J23/00Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
    • H01J23/16Circuit elements, having distributed capacitance and inductance, structurally associated with the tube and interacting with the discharge
    • H01J23/24Slow-wave structures, e.g. delay systems
    • H01J23/26Helical slow-wave structures; Adjustment therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49016Antenna or wave energy "plumbing" making

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  • Microwave Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は進行波管に関し、より詳細には、数10
ギガヘルツ周波数の到来マイクロ波エネルギーを
進行波管の電子ビームに結合し、これによつて到
来マイクロ波エネルギーを増幅し、低速波構造体
の他端で必要とされる進行波管の低速波構造体に
関する。
従来技術 低速波構造体を提供するらせん状の導波管の出
現は長年にわたつて望まれていた。このらせん状
導波管の構造は電子ビームの中心下に孔を設けた
らせん状の矩形の中央突起を有する導波管の半部
分から成つている。導波管の伝搬の基本的な態様
は伝搬高周波エネルギーがらせん径路に従うよう
にすることにより電子の軸方向運動に対し効果的
に低くされている。
発明が解決しようとする問題点 しかし、かかる従来技術では設計上は簡単では
あるが、かかるらせん状の導波管構造体をいかに
作るか、特に導波管の寸法が何百分の1インチ
(1インチ25.4mm)の単位で測られる高周波管の
場合には問題があつた。従つて本発明はらせん状
の導波管構造体を製造する方法を提供する。
問題点を解決するための手段 かかる問題を解決するため、本発明の導波管の
らせん状低速波構造体の製造方法は、導電材料の
円筒杆内に深く狭い第1の溝を機械加工し、該円
筒杆両端の間に軸線を中心として該らせん状導波
管の上下らせん壁を画成するらせん状のねじ山を
形成する段階と、該第1の溝の底部に第2の溝を
機械加工して該ねじ山の少なくとも一面に横断方
向に伸長する少なくとも一つの突起を形成し、該
第2の溝が該ねじ山に沿つて軸方向に伸びる中央
のコアに底付けするようにする段階と、該ねじ山
の周囲に導電スリーブをろう付けして該らせん状
導波管の該ねじ山の壁に接続する外壁を形成する
段階と、該円筒杆の両端を機械加工により除去し
て該ねじ山の壁を該導電スリーブの一端で終わる
ようにする段階と、そして次に該円筒杆の軸線に
沿つて該中央のコアを孔に形成して該中央のコア
を除去し、半径方向に伸びるらせん壁、円筒状外
壁、及び該突起の隣接部分の間に軸線方向間〓の
ある少なくとも一つの軸線方向に伸びるらせん状
突起を備えた内壁を有するらせん状導波管を製造
する段階と、で構成されている。
実施例 第1図を参照すると、進行波管1の縦断面が示
され、この進行波管は集束電極のアツセンブリを
含むものとされるカソード11と、アノード35
と、放熱器を含むものとされるコレクター13と
を備えている。カソード11とアノード12とは
らせん状の導波管50として示された低速波構造
体の軸線15に沿つて電子ビーム14を供給す
る。この電子ビーム14は、第1図に簡略化して
示された円板17を間に挿入したトロイダル(ド
ーナツ)形の1組の永久磁石16によつて通常の
方法で集束される。これら円板17は電子ビーム
14に磁界を形成するために鉄などの高透磁性材
料で作られる。低速波構造体50の端での電磁エ
ネルギーの結合は入出力カツプラ7,8によつて
行なわれる。これらカツプラ7,8夫々は進行波
管1とその軸線15を横切つてのびる導波管42
とによつて構成されている。導波管の最も狭い部
分3は軸線15に対して平行に配置されている。
導波管42は低速波構造体50の軸線15と軸線
方向に整合している円筒スリーブ43を備える。
この円筒スリーブ43は低速波構造体50の突起
13と同じ内径を有する。円筒スリーブ43は一
端45が導波管42の壁44によつて支持され、
他端46には壁48の切欠部の円周49によつて
境界された壁48の円形開口47が設けられてい
る。導波管42は、円筒スリーブ43から長手方
向に変位されている短絡の端壁49で終つてい
る。この変位(通常は1/8〜1/4波長に相当
する)と、円筒スリーブ43の直径及び長さは、
インピーダンスと低速波構造体50への導波管4
2の結合を決定する。
第2図は第1図の−線に沿つた断面図であ
る。この図面には進行波管1の壁3に取付けられ
た導波管42の幅4とドーナツ形の磁石、および
鉄製の円板16,17の関係が示されている。
円筒スリーブ43は信号源26からの電磁エネ
ルギーを低速波構造体50に結合し、この場合、
〓間31を横切る電磁エネルギーは、増幅して低
速波構造体に沿つて、この電磁エネルギーが負荷
27に結合される出力カツプラ17に進む電子ビ
ームと相互作用する。電磁エネルギーは、らせん
状半径方向に指向されたねじ山12間に存在する
らせん状空間30内で進行波管1をらせん状に走
行する。低速波構造体50を通つて進行波管の出
力端から入力端まで進む電磁エネルギーのらせん
径路は、らせん状の突起13の近接する端縁3
2,33間の〓間31に発生する電圧の軸線方向
配置の有効速度を、進行波管の下方に軸線方向に
走行する際の電子ビーム14の電子の速度とほぼ
同じ速度で減少する。隣接突起13間の〓間31
の電界の軸速度と電子ビーム14の速度の近似等
化の結果、電子ビームへの入力電磁エネルギーの
結合は、電子ビームが進行波管1の軸線15の下
方を周知の方法で走行するとき、電磁エネルギー
の増幅があるように行われる。
第1図に示すような導波管の低速波構造体50
の組立ては、進行波管がかなり低い周波数で作動
して低速波構造体50の寸法をかなり大きくする
ような場合でも困難である。きわめて高い周波数
すなわち本発明におけるような20〜30ギガヘルツ
以上で作動する進行波管に用いられる低速波構造
体50の製造は革新的な製造技術が要求される。
これらの周波数で、低速波構造体50は典型的な
寸法にされる。即ち、ねじ山12の直径は1/4
インチ(6.4mm)、全長は約1インチ(25.4mm)、
ピツチは約1〜10インチ(2.5mm)、軸線方向に向
けられる電子ビーム14の通過用の中心孔34の
直径は約4/100インチ(1mm)である。これら
の寸法を有する低速波構造体50の製造には、進
行波管の当業者にとつて周知の低速波構造体の製
造標準技術とは著しくかけ離れた技術が要求され
る。
本発明の低速波構造体50を製造する工程は例
示的にこの構造体の寸法より直径も長さもやゝ大
きく、11/4インチ(32mm)より少し長い銅の中
実ロツドによつて開始される。中実ロツドは完成
した低速波構造体50より長くされて中実ロツド
の機械加工を容易にしている。製造方法の第1工
程は中実ロツドの直径を従来の旋盤加工技術によ
り低速波構造体50の正確な直径〔許容範囲内、
この実施例では最大0.2450インチ(6.22mm)、最
小0.2246(5.70mm)〕まで小さくする。中実ロツド
を円筒形に機械加工するとその中心軸線15がで
き上る。
中実ロツドはその両端40,41で固着され旋
盤上で精巧に機械加工されて第3図の切欠側面図
で示すようなねじ山状の低速波構造体10にされ
る。この低速波構造体10を製造するのに必要と
される機械加工の困難さは、ねじ山の幅広部分1
1が最大0.202インチ(0.513mm)、最小0.0198イン
チ(0.503mm)であるという代表的な寸法によつ
て明らかである。ねじ山12は、その直径が最大
0.0532インチ(1.351mm)、最小0.0528インチ
(1.341mm)あるコレクターとしての突起13で終
つている。みぞ6はねじ山12の間で中心に位置
決めされるよう機械加工され最高0.039インチ
(0.991mm)、最小0.37インチ(0.939mm)の直径と、
最大0.0322インチ(0.181mm)、最小0.0318インチ
(0.808mm)を幅をもつている。低速波構造体10
はたとえば最大1.002インチ(25.45mm)、最小
0.998インチ(25.35mm)で所望の完成した低速波
構造体の長さを最小限度に延びている。
低速波構造体の製造方法の次の工程は、従来の
旋盤加工技術によつて最大0.3444インチ(8.748
mm)、最小0.343インチ(8.712mm)の外径、最大
0.2455インチ(6.236mm)、最小0.2452インチ
(6.228mm)の内径をもつ銅の円筒スリーブ38を
作ることである。円筒スリーブ38の内外径は
0.001インチ(0.0254mm)以内で互いに同心され
る。円筒スリーブ38の長さは、最大1.001イン
チ(25.43mm)、最小0.999インチ(25.37mm)とな
つている。円筒スリーブ38は第3図示の低速波
構造体10の上を摺動し、その後ねじ山12の周
囲にろう付けされる。円筒スリーブ38は低速波
構造体10に対する構造支持体となるので両端4
0,41が機械加工によつて取除かれ、低速波構
造体10を円筒スリーブ38内に入れるようにし
ている。
第4図示の完成した低速波構造体50の製造方
法の次の工程は、低速波構造体10の中心のコア
5を除いて第4図に示すように突起13とこれに
関連するねじ山12とを残す。取除かれるコア5
の材料は、みぞ6の底をなすコア5の直径に相当
する最大0.39インチ(9.9mm)、最小0.037インチ
(0.9mm)の直径をもつている。コア5は軸線35
の中心に位置決めされた先細の電極を用いて第3
図示の低速波構造体10のコアを浸食する放電機
械を用いるのでみぞ6の底までコア5を取除いて
突起13と、これに関連するねじ山12のみを残
す。流体も用いられて、放電機械による加工が行
なわれるとき電極によつて浸食される粉末を取除
く。放電機械の制御は突起13の隣接縁間の材料
すなわちコア5の浸食の均一性を観察することに
よつて保たれる。必要とあれば、コア5は低速波
構造体10の軸線15を電極の1回通過で取除く
ことも或るいはまた放電機械の取扱者の熟練度に
応じて電極を2回またはそれ以上通過させて取除
いてもよい。中心に、取除かれるコア5とねじ山
11の周囲9にろう付けされた円筒スリーブ38
とを備えた低速波構造体50は第4図の断面図に
示される。第4図示の低速波構造体50は、第1
図示の進行波管1の低速波構造体である。
発明の効果 本発明によれば、上記の構成によつて低速波構
造体が精度良く作ることができこの低速波構造体
は精度良く且つ確実に作動するという実益があ
る。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものでは
ない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る低速波構造体を示す進行
波管の中心軸線に沿つた部分断面図、第2図は第
1図の−線に沿つた断面図、第3図は製造完
了前の第1図の低速波構造体の側面図、第4図は
本発明の低速波構造体の完成したものを示す縦断
面図である。 1…進行波管、5…コア、6…みぞ、10…低
速波構造体、12…ねじ山、13…突起(コレク
ター)、14…電子ビーム、38,43…円筒ス
リーブ、50…低速波構造体(導波管)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 らせん状導波管を有する低速波構造体の製造
    方法にして、 導電材料の円筒杆内に深く狭い第1の溝を機械
    加工し、該円筒杆両端の間に軸線を中心として該
    らせん状導波管の上下らせん壁を画成するらせん
    状のねじ山を形成する段階と、 該第1の溝の底部に第2の溝を機械加工して該
    ねじ山の少なくとも一面に横断方向に伸長する少
    なくとも一つの突起を形成し、該第2の溝が該ね
    じ山に沿つて軸方向に伸びる中央のコアに底付け
    するようにする段階と、 該ねじ山の周囲に導電スリーブをろう付けして
    該らせん状導波管の該ねじ山の壁に接続する外壁
    を形成する段と、 該円筒杆の両端を機械加工により除去して該ね
    じ山の壁を該導電スリーブの一端で終わるように
    する段階と、そして次に 該円筒杆の軸線に沿つて該中央のコアに孔を形
    成して該中央のコアを除去し、半径方向に伸びる
    らせん壁、円筒状外壁、及び該突起の隣接部分の
    間に軸線方向間〓のある少なくとも一つの軸線方
    向に伸びるらせん状突起を備えた内壁を有するら
    せん状導波管を製造する段階と、 からなる低速波構造体の製造方法。 2 該ねじ山の中間にある第2のみぞの機械加工
    によつてねじ山の対向面から互いに軸線方向に延
    びる2つの突起を形成する特許請求の範囲第1項
    記載の低速波構造体の製造方法。 3 該孔の機械加工は放電加工を含んでいる特許
    請求の範囲第1項記載の低速波構造体の製造方
    法。 4 該深くて狭い第1のみぞの機械加工と、該第
    2のみぞの機械加工および該円筒杆の両端部の機
    械加工は精密旋盤加工である特許請求の範囲第1
    項記載の低速波構造体の製造方法。 5 旋盤上で杆のストツク片を機械加工して軸線
    に対して円対称をもつ円筒杆にする段階をさらに
    有する特許請求の範囲第1項記載の低速波構造体
    の製造方法。 6 該導電スリーブを旋盤上で機械加工してらせ
    ん状ねじ山の外径よりずつと大きい内径にして、
    該スリーブがらせん状ねじ山の周囲を通つてほぼ
    ねじ山と同心となるようにし、かつ該ねじ山の周
    囲を該導電スリーブにろう付けする特許請求の範
    囲第1項記載の低速波構造体の製造方法。 7 該導電スリーブと該らせん状ねじ山は同じ種
    類の材料から形成される特許請求の範囲第6項記
    載の低速波構造体の製造方法。 8 該材料は銅である特許請求の範囲第7項記載
    の低速波構造体の製造方法。
JP62082788A 1986-04-03 1987-04-03 低速波構造体の製造方法 Granted JPS62259331A (ja)

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US06/847,999 US4765056A (en) 1986-04-03 1986-04-03 Method of manufacture of helical waveguide structure for traveling wave tubes
US847999 1986-04-03

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JPS62259331A JPS62259331A (ja) 1987-11-11
JPH0415573B2 true JPH0415573B2 (ja) 1992-03-18

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GB (1) GB2189931B (ja)

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