JPH04157178A - ベローズの製造方法 - Google Patents
ベローズの製造方法Info
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- JPH04157178A JPH04157178A JP28083290A JP28083290A JPH04157178A JP H04157178 A JPH04157178 A JP H04157178A JP 28083290 A JP28083290 A JP 28083290A JP 28083290 A JP28083290 A JP 28083290A JP H04157178 A JPH04157178 A JP H04157178A
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Landscapes
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- Chemically Coating (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は計測器、圧力スイッチ等の微圧力センサーと
して使用されるベローズの製造方法に関するものである
。
して使用されるベローズの製造方法に関するものである
。
〔従来技術および解決しようとする課題〕−ａにベロー
ズ、特に、金属ベローズを製造する場合には、まず、１
本の素管を数多くの熱処理、しごき工程を通して必要肉
厚の管を作り、次にそれを波形状に成形してシームレス
ベローズを製造したり、あるいは、上記の工程で製造し
たシームレスベローズおよび機械加工によりベローズ形
状に切削加工を施した母材に電気めっきを施して金属析
出層を形成し、この後に素管ベローズ、あるいは母材を
溶解して電着による金属ベローズ、すなわち、電着ベロ
ーズを製造している。
ズ、特に、金属ベローズを製造する場合には、まず、１
本の素管を数多くの熱処理、しごき工程を通して必要肉
厚の管を作り、次にそれを波形状に成形してシームレス
ベローズを製造したり、あるいは、上記の工程で製造し
たシームレスベローズおよび機械加工によりベローズ形
状に切削加工を施した母材に電気めっきを施して金属析
出層を形成し、この後に素管ベローズ、あるいは母材を
溶解して電着による金属ベローズ、すなわち、電着ベロ
ーズを製造している。
この場合、前記のように成形によって製造された成形ベ
ローズにあっては高強度ベローズが、また、電着ベロー
ズにあってはａｌｌ！（μｍオーダー）の軟ばね性のベ
ローズがそれぞれ製造されるものである。
ローズにあっては高強度ベローズが、また、電着ベロー
ズにあってはａｌｌ！（μｍオーダー）の軟ばね性のベ
ローズがそれぞれ製造されるものである。
しかしながら、前者のような成形ベローズにあっては、
成形性のある金属の場合に限定され、また、後者の電着
ベローズならば、基材表面の状態がめっきに反映し、小
孔の皆無なベローズを製造するにはめっき技術等が重要
であることは言うまでもなく、芯金の溶解など、技術的
、経済的に種々の問題点を有している。
成形性のある金属の場合に限定され、また、後者の電着
ベローズならば、基材表面の状態がめっきに反映し、小
孔の皆無なベローズを製造するにはめっき技術等が重要
であることは言うまでもなく、芯金の溶解など、技術的
、経済的に種々の問題点を有している。
この発明の目的は、成形性の材料を使用できるとともに
、小孔が皆無であり、しかも、全体を安価とすることの
できるベローズの製造方法を提供することにある。
、小孔が皆無であり、しかも、全体を安価とすることの
できるベローズの製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段］
この発明によるベローズの製造方法にあっては、比較的
に展延性のある金属薄板を円形状に打ち抜き、基材ベロ
ーズを深絞り加工を用いて波形状に成形してつくる。
に展延性のある金属薄板を円形状に打ち抜き、基材ベロ
ーズを深絞り加工を用いて波形状に成形してつくる。
次に、基材ベローズの内外面のうちの片面、あるいは両
面に無電解めっきを施す。
面に無電解めっきを施す。
さらに、片面、あるいは両面にイオンプレーティングに
よって金属析出層を形成する。
よって金属析出層を形成する。
また、片面のみにイオンプレーティングによって金属析
出層を形成した場合には基材ベローズを溶解して金属析
出層のみを残すことによりイオンプレーティングによる
表面処理層である金属析出層のみからなるベローズを製
造することができる。
出層を形成した場合には基材ベローズを溶解して金属析
出層のみを残すことによりイオンプレーティングによる
表面処理層である金属析出層のみからなるベローズを製
造することができる。
〔実施例−１〕
以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明を説明する
。
。
まず、比較的に高い展延性を有するとともに、アルカリ
で容易に溶解できる金属アルミニウム薄板を円形に打ち
抜いて円板１を形成する（第１図）。
で容易に溶解できる金属アルミニウム薄板を円形に打ち
抜いて円板１を形成する（第１図）。
つぎに打ち抜いた金属アルミニウム薄板の円板１をチエ
−ピングして素管２としく第２図）、さらに、この素管
２をプレス成形によって波形状に成形して基材ベローズ
３を作る（第３図）。
−ピングして素管２としく第２図）、さらに、この素管
２をプレス成形によって波形状に成形して基材ベローズ
３を作る（第３図）。
つぎに、無電解めっき浴中に浸漬することにより基材ベ
ローズ３の内面のみ、または外面のみ、あるいは内外面
にあらかじめ無電解めっきを施しておく。
ローズ３の内面のみ、または外面のみ、あるいは内外面
にあらかじめ無電解めっきを施しておく。
つぎに、イオンプレーティングによって内面のみ、また
は外面のみ、あるいは、内外面に金属析出層からなる表
面処理層４を形成する（第４図、第５図）。
は外面のみ、あるいは、内外面に金属析出層からなる表
面処理層４を形成する（第４図、第５図）。
なお、内面のみ、または、外面のみに表面処理層４を形
成する場合には外面、または内面にあらかじめ樹脂コー
トを施しておく。
成する場合には外面、または内面にあらかじめ樹脂コー
トを施しておく。
そして、内外面に表面処理層４を形成した場合（第５図
）を除いて、別槽に準備した、たとえば、アルカリ溶解
液等に浸漬してアルミニウム薄板で形成した基材ベロー
ズ３を除去して残った金属析出層である表面処理層４の
みでベローズ５を製造する（第６図）。
）を除いて、別槽に準備した、たとえば、アルカリ溶解
液等に浸漬してアルミニウム薄板で形成した基材ベロー
ズ３を除去して残った金属析出層である表面処理層４の
みでベローズ５を製造する（第６図）。
なお、内外面に表面処理層４を形成した場合には、内部
にアルミニウム薄板で形成した基材ベローズ３が位置し
ているベローズ６が形成されるものである（第５図）。
にアルミニウム薄板で形成した基材ベローズ３が位置し
ているベローズ６が形成されるものである（第５図）。
〔実施例−２〕
この実施例−２においては前記実施例−１と同様なので
前記実施例−１で用いた各図を参照しつつ説明する。
前記実施例−１で用いた各図を参照しつつ説明する。
まず、前記実施例−１と同様の工程によって金属銅薄板
で基材ベローズ３を形成する。
で基材ベローズ３を形成する。
つぎに、無電解めっき浴中に浸漬することにより基材ベ
ローズ３の内面のみ、または外面のみ、あるいは内外面
に無電解めっきを施しておく。
ローズ３の内面のみ、または外面のみ、あるいは内外面
に無電解めっきを施しておく。
つぎに、イオンプレーティングによって表面に金属析出
層４を形成する（第４図、第５図）。
層４を形成する（第４図、第５図）。
なお、内面のみ、または、外面のみに金属析出層からな
る表面処理層４を形成する場合には内面、または外面に
あらかしめ樹脂コートを施しておく。
る表面処理層４を形成する場合には内面、または外面に
あらかしめ樹脂コートを施しておく。
これによって、内面、または外面の一方、あるいは内外
面に金属析出層からなる表面処理層４が形成されたベロ
ーズ６が形成されるものである（第５図）。
面に金属析出層からなる表面処理層４が形成されたベロ
ーズ６が形成されるものである（第５図）。
なお、いずれの実施例においても、イオンプレーティン
グとして、スパッタリング、ＣＶＤ、ＤＶＤ、プラズマ
ＣＶＤ等を採用することができるものである。
グとして、スパッタリング、ＣＶＤ、ＤＶＤ、プラズマ
ＣＶＤ等を採用することができるものである。
この発明によれば、比較的に展延性の大きい金属薄板を
成形加工によってチュービング、および波形状に形成す
るようにしたので、凹凸のない平滑な表面を得ることが
でき、また、従来のように大量に溶解する必要がなくて
製造が容易であり、また、ばね定数等に敏感な従来の電
気めっきによりつき廻りがイオンプレーティングによっ
て大きく改善することができるという効果を有している
。
成形加工によってチュービング、および波形状に形成す
るようにしたので、凹凸のない平滑な表面を得ることが
でき、また、従来のように大量に溶解する必要がなくて
製造が容易であり、また、ばね定数等に敏感な従来の電
気めっきによりつき廻りがイオンプレーティングによっ
て大きく改善することができるという効果を有している
。
第１図は金属円板を示す概略図、第２図は第１図のもの
を管状にした一概略図、第３図は第２図のものを波形状
の基材ベローズとした概略図、第４図は基材ベローズの
内面または外面にイオンプレーティングによって金属析
出層を形成した状態を示す概略図、第５図は基材ベロー
ズの内外面にイオンプレーティングによって金属析出層
を形成した状態を示す概略図、第６図は第４図に示すも
のの基材ベローズを溶解して金属析出層のみとした状態
を示す概略図である。 ■・・・・・・円板 ２・・・・・・素管 ３・・・・・・基材ベローズ ４・・・・・・金属析出層（表面処理層）５．６・・・
・・・ベローズ 特許出願人 イーグル工業株式会社 −代理人
弁理士 中 林 幹 雄−５′ 第１図 第２図 第３図 Ｊ！ηべ゛０−ス°。 第４図 蜘倉塙 第５図 べ０−ス。
を管状にした一概略図、第３図は第２図のものを波形状
の基材ベローズとした概略図、第４図は基材ベローズの
内面または外面にイオンプレーティングによって金属析
出層を形成した状態を示す概略図、第５図は基材ベロー
ズの内外面にイオンプレーティングによって金属析出層
を形成した状態を示す概略図、第６図は第４図に示すも
のの基材ベローズを溶解して金属析出層のみとした状態
を示す概略図である。 ■・・・・・・円板 ２・・・・・・素管 ３・・・・・・基材ベローズ ４・・・・・・金属析出層（表面処理層）５．６・・・
・・・ベローズ 特許出願人 イーグル工業株式会社 −代理人
弁理士 中 林 幹 雄−５′ 第１図 第２図 第３図 Ｊ！ηべ゛０−ス°。 第４図 蜘倉塙 第５図 べ０−ス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）展延性のある金属材料の板を圧延して得た薄板を
円形に打ち抜き、この後、絞り加工してチューブ状とし
、つぎに前記チューブを金型成形により波形状の基材ベ
ローズに形成し、この基材ベローズにあらかじめ無電解
めっきを施しておき、この基材ベローズに、イオンプレ
ーティングを施して、内面または外面のうちの一方、ま
たは内外面に金属析出層からなる表面処理層を形成した
ことを特徴とするベローズの製造方法。 （２）展延性のある金属材料はアルミニウムである請求
項１記載のベローズの製造方法。（３）展延性のある金
属材料は銅である請求項１記載のベローズの製造方法。 （４）展延性のある金属材料の板を圧延して得た薄板を
円形に打ち抜き、この後、絞り加工してチューブ状とし
、つぎに前記チューブを金型成形により波形状の基材ベ
ローズに形成し、この基材ベローズにあらかじめ無電解
めっきを施しておき、この基材ベローズにイオンプレー
ティングを施して、内面または外面のうちの一方に金属
析出層からなる表面処理層を形成し、さらに前記基材ベ
ローズを溶解して金属析出層からなる表面処理層のみで
ベローズを形成したことを特徴とするベローズの製造方
法。 （５）展延性のある金属材料はアルミニウムである請求
項４記載のベローズの製造方法。（６）展延性のある金
属材料は銅である請求項４記載のベローズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28083290A JPH04157178A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | ベローズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28083290A JPH04157178A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | ベローズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04157178A true JPH04157178A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17630608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28083290A Pending JPH04157178A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | ベローズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04157178A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100702442B1 (ko) * | 2005-09-09 | 2007-04-04 | 위아 주식회사 | 등속 조인트용 부트 |
-
1990
- 1990-10-19 JP JP28083290A patent/JPH04157178A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100702442B1 (ko) * | 2005-09-09 | 2007-04-04 | 위아 주식회사 | 등속 조인트용 부트 |
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