JPH04162517A - 減圧処理装置及び減圧処理容器への熱電対導入チューブの取付方法 - Google Patents
減圧処理装置及び減圧処理容器への熱電対導入チューブの取付方法Info
- Publication number
- JPH04162517A JPH04162517A JP28964890A JP28964890A JPH04162517A JP H04162517 A JPH04162517 A JP H04162517A JP 28964890 A JP28964890 A JP 28964890A JP 28964890 A JP28964890 A JP 28964890A JP H04162517 A JPH04162517 A JP H04162517A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、減圧処理装置に関する。
（従来の技術）
減圧処理装置例えば半導体ウェハに膜付は処理を行うＣ
ＶＤ装置では、例えば縦型プロセスチューブ内にウェハ
を多数枚搭載したボートを搬入して密閉し、プロセスチ
ューブ内を所定真空度に真空引きし、その後プロセスガ
スを導入して加熱下てＣＶＤによる膜付は処理を行って
いる。
ＶＤ装置では、例えば縦型プロセスチューブ内にウェハ
を多数枚搭載したボートを搬入して密閉し、プロセスチ
ューブ内を所定真空度に真空引きし、その後プロセスガ
スを導入して加熱下てＣＶＤによる膜付は処理を行って
いる。
ここで、この種のプロセスチューブには処理実行上に必
要な各種の被導入部材が導入されて支持される。この種
の被導入部材としては、プロセスガスを供給するための
インジェクター等の他に、縦型プロセスチューブの縦方
向の各加熱ゾーン毎の温度を測定するための熱電対があ
る。この熱電対は石英チューブに収容された状態でプロ
セスチューブの下端より導入され、上端に向がって縦方
向に支持される。プロセスチューブの下端より外部に配
置されるチューブの端部は、水平に伸びて温度測定用の
機器まで延在されて接続されている。
要な各種の被導入部材が導入されて支持される。この種
の被導入部材としては、プロセスガスを供給するための
インジェクター等の他に、縦型プロセスチューブの縦方
向の各加熱ゾーン毎の温度を測定するための熱電対があ
る。この熱電対は石英チューブに収容された状態でプロ
セスチューブの下端より導入され、上端に向がって縦方
向に支持される。プロセスチューブの下端より外部に配
置されるチューブの端部は、水平に伸びて温度測定用の
機器まで延在されて接続されている。
したがって熱電対導入チューブは長手辺の縦軸部と短手
辺の横軸部とから成る略し字状に形成されている。
辺の横軸部とから成る略し字状に形成されている。
（発明か解決しようとする課題）
プロセスチューブ内を減圧したとき、上述した被導入部
材特に熱電対導入チューブが、チューブ内外の差圧によ
りプロセスチューブ内に引き込まれるという事態が確認
された。この熱電対導入チューブの取り付は時には、プ
ロセスチューブの内側に略し字状のチューブ全体を配置
し、その後短手辺の横軸部をプロセスチューブの導入口
より外方に突出するようにして取り付ける。その後、上
記導入口の端部に形成したネジ部と螺合するキャンプを
取り付け、この際に導入口内面と横軸部外面との間で押
し潰されるＯリングを装着することで、気密シールか施
される。したかって、従来は、熱電対導入チューブはＯ
リングとの摩擦によってのみ位置決め支持されており、
上述した差圧。
材特に熱電対導入チューブが、チューブ内外の差圧によ
りプロセスチューブ内に引き込まれるという事態が確認
された。この熱電対導入チューブの取り付は時には、プ
ロセスチューブの内側に略し字状のチューブ全体を配置
し、その後短手辺の横軸部をプロセスチューブの導入口
より外方に突出するようにして取り付ける。その後、上
記導入口の端部に形成したネジ部と螺合するキャンプを
取り付け、この際に導入口内面と横軸部外面との間で押
し潰されるＯリングを装着することで、気密シールか施
される。したかって、従来は、熱電対導入チューブはＯ
リングとの摩擦によってのみ位置決め支持されており、
上述した差圧。
により熱電対導入チューブに引き込み力か作用した時、
Ｏリングとの摩擦力のみでは熱電対導入チューブをその
位置に止留めることができなかった。
Ｏリングとの摩擦力のみでは熱電対導入チューブをその
位置に止留めることができなかった。
熱電対導入チューブがその支持位置よりも引き込まれる
と、他の部材との衝突により破損が生ずることの上に、
大気か減圧下のプロセスチューブ内に一度に導入されて
しまうことになるので、大きな事故に発展する恐れかあ
った。
と、他の部材との衝突により破損が生ずることの上に、
大気か減圧下のプロセスチューブ内に一度に導入されて
しまうことになるので、大きな事故に発展する恐れかあ
った。
そこで、本発明の目的とするところは、プロセスチュー
ブ内を減圧しても、このプロセスチューブに導入されて
いる被導入部材が、差圧により支持位置よりも内部に引
き込まれることを確実に防止できる減圧処理装置を提供
することにある。
ブ内を減圧しても、このプロセスチューブに導入されて
いる被導入部材が、差圧により支持位置よりも内部に引
き込まれることを確実に防止できる減圧処理装置を提供
することにある。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明は、処理容器に気密に支持されて該処理容器に導
入される被導入部材を有し、上記処理容器内部を減圧し
て処理する減圧処理装置において、 上記被導入部材は、減圧時に上記被導入部ヰＡが上記処
理容器内に引き込まれることを防止するストッパを有す
ることを特徴とする。
入される被導入部材を有し、上記処理容器内部を減圧し
て処理する減圧処理装置において、 上記被導入部材は、減圧時に上記被導入部ヰＡが上記処
理容器内に引き込まれることを防止するストッパを有す
ることを特徴とする。
（作 用）
処理容器を減圧したときに、処理容器内外の差圧により
被導入部材に引き込み力が作用しても、被導入部材に設
けたストッパが被導入部材をそれ以上内側に引き込むこ
とを防止する。
被導入部材に引き込み力が作用しても、被導入部材に設
けたストッパが被導入部材をそれ以上内側に引き込むこ
とを防止する。
（実施例）
以下、本発明を半導体ウェハの縦型ＣＶＤ装置に適用し
た一実施例について、図面を参照して具体的に説明する
。
た一実施例について、図面を参照して具体的に説明する
。
第２図において、二〇ＣＶＤ装置は、例えば石英製のプ
ロセスチューブ１０であるアウターチューブ１０ａ、イ
ンナーチューブ１０ｂか金属製マニホールド１２上に縦
方向に立設支持されており、このインナーチューブ１０
ｂの内側に処理室１４が形成されるようになっている。
ロセスチューブ１０であるアウターチューブ１０ａ、イ
ンナーチューブ１０ｂか金属製マニホールド１２上に縦
方向に立設支持されており、このインナーチューブ１０
ｂの内側に処理室１４が形成されるようになっている。
なお、上記プロセスチューブ１０はケーシング３２内に
納められるようになっている。
納められるようになっている。
このプロセスチューブ１０によって形成される処理室１
４内には、保温筒１８に載置されたボート２０が挿脱可
能となっていて、このボート２０に多数枚の被処理体で
ある半導体ウェハ２２が水平に等間隔に配列支持され、
半導体ウェハ２２に対して気相成長処理を実行可能とな
っている。なお、保温筒１８は、フランジキャップ２４
上に搭載され、このフランジキャップ２４は図示せぬエ
レベータアームに取り付けられて上下動し、上記保温筒
１８及びボート２０を上下動させるとともに、上記マニ
ホールド１２のボート挿入孔２６を密封しうるようにな
っている。
４内には、保温筒１８に載置されたボート２０が挿脱可
能となっていて、このボート２０に多数枚の被処理体で
ある半導体ウェハ２２が水平に等間隔に配列支持され、
半導体ウェハ２２に対して気相成長処理を実行可能とな
っている。なお、保温筒１８は、フランジキャップ２４
上に搭載され、このフランジキャップ２４は図示せぬエ
レベータアームに取り付けられて上下動し、上記保温筒
１８及びボート２０を上下動させるとともに、上記マニ
ホールド１２のボート挿入孔２６を密封しうるようにな
っている。
上記プロセスチューブ１０の外周には加熱装置２８が設
けられており、この加熱装置２８の外側には加熱装置２
８を支持、包囲する断熱材３４か設けられている。
けられており、この加熱装置２８の外側には加熱装置２
８を支持、包囲する断熱材３４か設けられている。
加熱装置２８は、上記処理室１４内を縦方向で５ゾーン
に分けて、それぞれを好適な温度条件下で加熱し得るよ
うに構成されるような５ゾ一ン方式をとっている。また
、断熱材３４もこの５ゾ一ン方式に対応して構成されて
いる。
に分けて、それぞれを好適な温度条件下で加熱し得るよ
うに構成されるような５ゾ一ン方式をとっている。また
、断熱材３４もこの５ゾ一ン方式に対応して構成されて
いる。
次に、本発明の特徴をなす熱電対導入チューブ（以下、
ｒＴ／Ｃチューブ」という）およびＴ／Ｃチューブ導入
口につき説明する。
ｒＴ／Ｃチューブ」という）およびＴ／Ｃチューブ導入
口につき説明する。
このＴ／Ｃチューブ４０は石英製であり、その内部には
５対の熱電対が収容されており、上記加熱装置２８の５
ゾ一ン方式に対応して膜付は処理温度を正確に検出する
ように構成されている。そして、各熱電対の導線はＴ／
Ｃチューブ４０の外部に配置されている図示しない温度
測定機器に接続され、５ゾーンの各ヒータのフィードバ
ック制御に供するようになっている。 また、上記Ｔ／
Ｃチューブ４０は長手辺の縦軸部４２と短手辺の横軸部
４４とからなる略し字状に形成されており、Ｔ／Ｃチュ
ーブ４０を一旦アウターチューブ１０ｂ内に配置した後
、この短手片の横軸部４４を上記マニホールド１２に設
けられているＴ／Ｃチューブ導入口から外方に突出させ
て取り付けが行われる。
５対の熱電対が収容されており、上記加熱装置２８の５
ゾ一ン方式に対応して膜付は処理温度を正確に検出する
ように構成されている。そして、各熱電対の導線はＴ／
Ｃチューブ４０の外部に配置されている図示しない温度
測定機器に接続され、５ゾーンの各ヒータのフィードバ
ック制御に供するようになっている。 また、上記Ｔ／
Ｃチューブ４０は長手辺の縦軸部４２と短手辺の横軸部
４４とからなる略し字状に形成されており、Ｔ／Ｃチュ
ーブ４０を一旦アウターチューブ１０ｂ内に配置した後
、この短手片の横軸部４４を上記マニホールド１２に設
けられているＴ／Ｃチューブ導入口から外方に突出させ
て取り付けが行われる。
第１図は、Ｔ／Ｃチューブ４０がＴ／Ｃチューブ導入口
から外方に突出配置されている状態を示す部分断面図で
ある。
から外方に突出配置されている状態を示す部分断面図で
ある。
同図において、Ｔ／Ｃチューブ導入口５０は放熱フィン
が設けられた導入ガイド部材６０と気密用Ｏリング７０
と筒体部材８０と第１キャップ部材９０と第２キャップ
部材１００とからなり、このＴ／Ｃチューブ導入口５０
にＴ／Ｃチューブ４０が挿入されている。
が設けられた導入ガイド部材６０と気密用Ｏリング７０
と筒体部材８０と第１キャップ部材９０と第２キャップ
部材１００とからなり、このＴ／Ｃチューブ導入口５０
にＴ／Ｃチューブ４０が挿入されている。
Ｔ／Ｃチューブ４０の横軸部４４は、縦軸部４２より径
が大きく作成されている。また、この横軸部４４の外方
端部の外周壁部には環状溝４６が形成されており、この
環状溝４６には断面形状が略Ｃ字状のストッパ１１０が
嵌め込まれている。
が大きく作成されている。また、この横軸部４４の外方
端部の外周壁部には環状溝４６が形成されており、この
環状溝４６には断面形状が略Ｃ字状のストッパ１１０が
嵌め込まれている。
このストッパ１１０は石英を破損させない柔軟性と耐熱
性を有する材質か好ましく、本実施例では４フツ化エチ
レン樹脂を採用している。
性を有する材質か好ましく、本実施例では４フツ化エチ
レン樹脂を採用している。
筒状の上記導入カイト部材６０はＴ／Ｃチューブ４０の
横軸部４４を挿通案内するガイド孔６０ａを有する。ま
た、その外周面がフィン６０ｂを有するように形成され
ており、これにより放熱性が良好となっている。そして
、この導入ガイド部材６０のプロセスチューブ側上方の
周面部６２は、Ｔ／Ｃチューブ４０の中間屈曲部４３の
曲率に応じて下方の周面部６５より長く形成されている
。
横軸部４４を挿通案内するガイド孔６０ａを有する。ま
た、その外周面がフィン６０ｂを有するように形成され
ており、これにより放熱性が良好となっている。そして
、この導入ガイド部材６０のプロセスチューブ側上方の
周面部６２は、Ｔ／Ｃチューブ４０の中間屈曲部４３の
曲率に応じて下方の周面部６５より長く形成されている
。
この上方の周面部６２には、Ｔ／Ｃチューブ４０の縦軸
部４２との干渉を避けるＵ字状またはコ字状の切欠部６
２ａが設けられている。この切欠部６２ａの幅寸法をＴ
／Ｃチューブ４０の外径に応じて設定することで、Ｔ／
Ｃチューブ４０の倒れ防止機能を確保している 一方、導入ガイド部材６０の外方端部６６は外径が若干
大きく形成されており、この領域にはガイド孔６０ａよ
りも径が大きい段差孔６８ａか確保されている。ガイド
穴６０ａと段差穴６８ａとの段差面はテーパ面６９とな
っており、このテーパ面６９と密着して上記気密用Ｏリ
ング７０が装着されている。
部４２との干渉を避けるＵ字状またはコ字状の切欠部６
２ａが設けられている。この切欠部６２ａの幅寸法をＴ
／Ｃチューブ４０の外径に応じて設定することで、Ｔ／
Ｃチューブ４０の倒れ防止機能を確保している 一方、導入ガイド部材６０の外方端部６６は外径が若干
大きく形成されており、この領域にはガイド孔６０ａよ
りも径が大きい段差孔６８ａか確保されている。ガイド
穴６０ａと段差穴６８ａとの段差面はテーパ面６９とな
っており、このテーパ面６９と密着して上記気密用Ｏリ
ング７０が装着されている。
そして、上記気密用Ｏリング７０は、上記導入ガイド部
材６０の外方端部６６に形成したネジ部６８ｂと螺合す
る第１キャップ部材９０により、筒体部材８０を介して
テーパ面６９に押圧されている。すなわち、Ｔ／Ｃチュ
ーブの横軸部４４に外挿され、かつ放熱部材の外方端部
６６に内挿されている筒体部材８０は、上記第１キャッ
プ部材９０によりプロセスチューブ側に押圧されており
、この結果、気密用０リング７０を上記テーパ面６９に
押圧して変形させ、Ｔ’／Ｃチューブ４０の気密シール
を実現している。
材６０の外方端部６６に形成したネジ部６８ｂと螺合す
る第１キャップ部材９０により、筒体部材８０を介して
テーパ面６９に押圧されている。すなわち、Ｔ／Ｃチュ
ーブの横軸部４４に外挿され、かつ放熱部材の外方端部
６６に内挿されている筒体部材８０は、上記第１キャッ
プ部材９０によりプロセスチューブ側に押圧されており
、この結果、気密用０リング７０を上記テーパ面６９に
押圧して変形させ、Ｔ’／Ｃチューブ４０の気密シール
を実現している。
また、上記第１キャップ部材９０は、上記横軸部４４に
外装されると共に、その外方端部のネジ部９２と螺合す
る第２キャップ部材１００に内挿されている。この第２
キャップ部材１００は上記ストッパ１１０が半径方向に
変形してＴ／Ｃチューブ４０より離脱するのを防止する
。そして、第１キャップ部材９０の外方端部の周縁端面
９４は上記ストッパ１１０と当接しており、プロセスチ
ューブ内外の差圧によりＴ／Ｃチューブ４０に引き込み
力が作用しても、Ｔ／Ｃチューブ４０は周縁端面９４と
ストッパ１１０により規定される支持位置より内側に引
き込まれることはない。
外装されると共に、その外方端部のネジ部９２と螺合す
る第２キャップ部材１００に内挿されている。この第２
キャップ部材１００は上記ストッパ１１０が半径方向に
変形してＴ／Ｃチューブ４０より離脱するのを防止する
。そして、第１キャップ部材９０の外方端部の周縁端面
９４は上記ストッパ１１０と当接しており、プロセスチ
ューブ内外の差圧によりＴ／Ｃチューブ４０に引き込み
力が作用しても、Ｔ／Ｃチューブ４０は周縁端面９４と
ストッパ１１０により規定される支持位置より内側に引
き込まれることはない。
すなわち導入ガイド部材６０、筒体部材８０、第１キャ
ップ部材９０等からなる上記Ｔ／Ｃチューブ導入口５０
の周縁端面（第１キャップ部材の周縁端部９４）と、上
記ストッパ１１０とが当接しており、これにより上記差
圧に起因するＴ／Ｃチューブ４０の引き込みが確実に防
止できる。
ップ部材９０等からなる上記Ｔ／Ｃチューブ導入口５０
の周縁端面（第１キャップ部材の周縁端部９４）と、上
記ストッパ１１０とが当接しており、これにより上記差
圧に起因するＴ／Ｃチューブ４０の引き込みが確実に防
止できる。
本発明は、被導入部材に加わる圧力（プロセスチューブ
内が完全に真空な場合には１ ｋｇ ／ ｃｄ ）との
関係から、横断面積が１ ｃｄ以上の被導入部材に有効
である。
内が完全に真空な場合には１ ｋｇ ／ ｃｄ ）との
関係から、横断面積が１ ｃｄ以上の被導入部材に有効
である。
以上。本発明の好適な一実施例につき説明したか、本発
明は本実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨
の範囲内において種々の変形実施が可能である。例えば
、本発明を他の被導入部材、例えば処理容器にプロセス
ガスを導入するためのインジェクターにも適用すること
かできる。
明は本実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨
の範囲内において種々の変形実施が可能である。例えば
、本発明を他の被導入部材、例えば処理容器にプロセス
ガスを導入するためのインジェクターにも適用すること
かできる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、処理容器内外の
差圧により被導入部材が処理容器内に引き込まれること
が確実に防止される安全性の高い減圧処理容器を提供す
ることができるという効果を奏する。
差圧により被導入部材が処理容器内に引き込まれること
が確実に防止される安全性の高い減圧処理容器を提供す
ることができるという効果を奏する。
第１図は、Ｔ／ＣチューブがＴ／Ｃチューブ導入口から
外方に突出配置されている状態を示す部分断面図、 第２図は、本発明の減圧処理装置の全体構成を示す断面
図である。 １０・・・プロセスチューブ、 ４０・・Ｔ／Ｃチューブ、 ５０・・・Ｔ／Ｃチューブ導入口、 １１０・・ストッパ。
外方に突出配置されている状態を示す部分断面図、 第２図は、本発明の減圧処理装置の全体構成を示す断面
図である。 １０・・・プロセスチューブ、 ４０・・Ｔ／Ｃチューブ、 ５０・・・Ｔ／Ｃチューブ導入口、 １１０・・ストッパ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 処理容器に気密に支持されて該処理容器に導入される
被導入部材を有し、上記処理容器内部を減圧して処理す
る減圧処理装置において、 上記被導入部材は、減圧時に上記被導入部材が上記処理
容器内に引き込まれることを防止するストッパを有する
ことを特徴とする減圧処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2289648A JP3056776B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 減圧処理装置及び減圧処理容器への熱電対導入チューブの取付方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2289648A JP3056776B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 減圧処理装置及び減圧処理容器への熱電対導入チューブの取付方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04162517A true JPH04162517A (ja) | 1992-06-08 |
| JP3056776B2 JP3056776B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=17745960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2289648A Expired - Fee Related JP3056776B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 減圧処理装置及び減圧処理容器への熱電対導入チューブの取付方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3056776B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000349034A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-12-15 | Applied Materials Inc | シール用ｏ−リングの熱保護を改良したマイクロ波プラズマ発生装置 |
| WO2004030058A1 (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Limited | 熱処理方法および熱処理装置 |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP2289648A patent/JP3056776B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000349034A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-12-15 | Applied Materials Inc | シール用ｏ−リングの熱保護を改良したマイクロ波プラズマ発生装置 |
| WO2004030058A1 (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Limited | 熱処理方法および熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3056776B2 (ja) | 2000-06-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100414 Year of fee payment: 10 |
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