JPH0416466B2 - - Google Patents
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- JPH0416466B2 JPH0416466B2 JP8497483A JP8497483A JPH0416466B2 JP H0416466 B2 JPH0416466 B2 JP H0416466B2 JP 8497483 A JP8497483 A JP 8497483A JP 8497483 A JP8497483 A JP 8497483A JP H0416466 B2 JPH0416466 B2 JP H0416466B2
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Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は医薬、農薬等の中間体として有用な一
般式 (式中Rは低級アルキル基を、Xはハロゲン原子
を、nは0、1又は2を示す。)で表わされる化
合物及びその製造方法に関するものである。
般式 (式中Rは低級アルキル基を、Xはハロゲン原子
を、nは0、1又は2を示す。)で表わされる化
合物及びその製造方法に関するものである。
本発明化合物は、例えば2位を脱炭酸したのち
1位にアシル化することにより特開昭56−
7967255−51066、55−57508等に記載の農園芸用
殺菌剤を収率よく製造できる。
1位にアシル化することにより特開昭56−
7967255−51066、55−57508等に記載の農園芸用
殺菌剤を収率よく製造できる。
上記ピロール誘導体の殺菌剤の製造方法として
は下記反応式に示す方法が知られている。
は下記反応式に示す方法が知られている。
(式中X及びnは前記と同一の意味を示し、
R′はH、低級アルキル又はメトキシメチルを示
す。)しかしながら該製造方法は化合物()と
化合物()を反応させることにより本発明化合
物を経ることなく式()で表わされるピロール
誘導体が得られるが、その収率はXnの種類、反
応条件により30〜70%と低収率であるばかりでな
く、重要な原料化合物である化合物()は下記
反応式に示す方法により製造されることが知られ
ているが、収率が低く高いコストがかかる等の欠
点を有していた。
R′はH、低級アルキル又はメトキシメチルを示
す。)しかしながら該製造方法は化合物()と
化合物()を反応させることにより本発明化合
物を経ることなく式()で表わされるピロール
誘導体が得られるが、その収率はXnの種類、反
応条件により30〜70%と低収率であるばかりでな
く、重要な原料化合物である化合物()は下記
反応式に示す方法により製造されることが知られ
ているが、収率が低く高いコストがかかる等の欠
点を有していた。
本発明者らはより入手しやすい安価な原料を用
いて収率よく前記ピロール誘導体を製造する方法
について検討を重ね本発明を完成した。
いて収率よく前記ピロール誘導体を製造する方法
について検討を重ね本発明を完成した。
本発明の化合物は一般式
(式中X及びnは前記と同一の意味を示し、Zは
ハロゲン原子、ニトリル基又は式SO2r(rはアル
キル基又はアリール基を示す。)で表わされるス
ルホニル基を示す。}で表わされるシンナムニト
リル類と一般式()CNCH2COOR(式中Rは前
記と同一の意味を示す。)で表わされるイソシア
ノ酢酸エステル類とを有機溶媒中、塩基又は触媒
の存在下反応させることにより製造することがで
きる。
ハロゲン原子、ニトリル基又は式SO2r(rはアル
キル基又はアリール基を示す。)で表わされるス
ルホニル基を示す。}で表わされるシンナムニト
リル類と一般式()CNCH2COOR(式中Rは前
記と同一の意味を示す。)で表わされるイソシア
ノ酢酸エステル類とを有機溶媒中、塩基又は触媒
の存在下反応させることにより製造することがで
きる。
塩基としては水素化ナトリウム、ナトリウムア
ルコキシド、カリウムアルコキシド、金属ナトリ
ウム、炭酸カリあるいは炭酸ナトリウム等の有機
又は無機塩基が用いられる。塩基として水素化ナ
トリウム、アルコラート、金属ナトリウム等を用
いる場合は有機溶媒はベンゼン、トルエン、エー
テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
の非水素溶媒を用いることができるが、ジメトキ
シエタン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド等のアニオン安定化溶媒を用いるか又は
イソシアノ酢酸エステルと当量のジメチルスルホ
キシドもしくはジメチルホルムアミドを添加した
混合溶媒を用いるのが好ましい。塩基として炭酸
ナトリムウを用いる場合は前記の溶媒の他にメタ
ノール、エタノール等を用いることもでき、特に
含水エタノールを用いるのが好ましい。触媒とし
てはイソシアノ酢酸エステル類と錯体を形成する
銅化合物、例えば酸化第1銅が用いられる。
ルコキシド、カリウムアルコキシド、金属ナトリ
ウム、炭酸カリあるいは炭酸ナトリウム等の有機
又は無機塩基が用いられる。塩基として水素化ナ
トリウム、アルコラート、金属ナトリウム等を用
いる場合は有機溶媒はベンゼン、トルエン、エー
テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
の非水素溶媒を用いることができるが、ジメトキ
シエタン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド等のアニオン安定化溶媒を用いるか又は
イソシアノ酢酸エステルと当量のジメチルスルホ
キシドもしくはジメチルホルムアミドを添加した
混合溶媒を用いるのが好ましい。塩基として炭酸
ナトリムウを用いる場合は前記の溶媒の他にメタ
ノール、エタノール等を用いることもでき、特に
含水エタノールを用いるのが好ましい。触媒とし
てはイソシアノ酢酸エステル類と錯体を形成する
銅化合物、例えば酸化第1銅が用いられる。
反応温度は用いる塩基、溶媒等により異なるが
通常室温あるいは冷却下0℃〜45℃の緩和な条件
下で行われる。但し、炭酸ナトリウム−含水エタ
ノールの系で反応を行なう場合は加熱還流下でも
可能である。
通常室温あるいは冷却下0℃〜45℃の緩和な条件
下で行われる。但し、炭酸ナトリウム−含水エタ
ノールの系で反応を行なう場合は加熱還流下でも
可能である。
前記一般式()で表わされるシンナムニトリ
ル類のZとしては塩素、臭素、ニトリル、メタン
スルホニル、エタンスルホニル、トシル等脱離基
として利用できる官能基を用いることができる
が、スルホン酸含有基を用いるのが好ましい。
ル類のZとしては塩素、臭素、ニトリル、メタン
スルホニル、エタンスルホニル、トシル等脱離基
として利用できる官能基を用いることができる
が、スルホン酸含有基を用いるのが好ましい。
尚、本発明化合物の構造はMASS,NMR,IR
等のスペクトル分析結果から決定した。
等のスペクトル分析結果から決定した。
以下、実施例を挙げて本発明化合物の製造方法
について更に詳しく説明する。
について更に詳しく説明する。
実施例 1
30ml4頚フラスコにα−シアノ−O−クロロシ
ンナモニトリル4.7g、60%水素化ナトリウム1.1
g、乾燥テトラヒドロフラン15mlを仕込み5〜10
℃に冷却し、窒素雰囲気下5mlの乾燥テトラヒド
ロフラン5mlに溶解したイソシアノ酢酸エチルエ
ステル3.1gを反応温度10℃以下で滴下した。滴
下後室温で3時間撹拌し反応を完結させ析出した
結晶を別した。液を減圧乾固せしめベンゼン
で溶解し水洗乾燥後再度減圧乾固した。得られた
粗結晶をエタノールで再結晶し、3gの3−シア
ノ−4−(2−クロルフエニル)−5−カルボエト
キシピロールを得た。収率44% 実施例 2 α−クロル−O−クロルシンナモニトリル2g
(0.01モル)とエチルイソシアノアセテート1.3g
(0.0115モル)を乾燥したベンゼン30mlに溶かし
た溶液をN2気流中、50%水素化ナトリウム0.6g
(0.0125モル)の乾燥したベンゼン20mlと
DMSO10mlの懸濁液に0°〜5℃の間で滴下し反応
させた。その後室温で1時間撹拌した。反応液を
氷水50mlの中に注入し、酢酸エチル30mlで2回抽
出し、有機層を飽和食塩水30mlで2回洗浄後硫酸
マグネシウムで乾燥して濃縮した。残留物をベン
ゼンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマト
グラフイーにかけ精製すると2−エトキシカルボ
ニル−3−(2−クロルフエニル)−4−シアノピ
ロール1gを得た。収率38% mp136−138℃ 実施例 3 α−クロルシンナモニトリル2.5g(0.015モ
ル)とエチルイソシアノアセテート2.1g
(0.0185モル)を乾燥したジメトキシエタン25ml
に溶かした溶液をN2気流中、50%NaH1.1g
(0.0229モル)の乾燥したジメトキシエタン15ml
の懸濁液に反応温度が45℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で1時間撹拌した。反応
液を氷水30mlの中に注入し酢酸エチル50mlで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウ
ムで乾燥して濃縮した。残留物をベンゼンを展開
溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にかけ精製すると2−エトキシカルボニル−3−
フエニル−4−シアノピロール1.3gを得た。収
率36.1% mp156−158℃ 実施例 4 α−トシル−O−クロルシンナモニトリル2g
(0.0063モル)とエチルイソシアノアセテート0.9
g(0.0079モル)を乾燥したジメトキシエタン30
mlに溶かした溶液をN2気流中、50%NaH0.4g
(0.0083モル)の乾燥したジメトキシエタン10ml
の懸濁液に反応温度が45℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で30分撹拌した。反応後
析出したp−トルエンフルフイン酸ソーダを別
し、液を濃縮して残留物を酢酸エチル50mlに溶
解させ飽和食塩水で洗浄、次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた粗
結晶をn−ヘキサン/ベンゼン2対1の混合溶媒
10mlで洗浄し、2−エトキシカルボニル−3−
(2−クロルフエニル)−4−シアノピロール0.9
gを得た。洗液を濃縮して残留物をベンゼンを展
開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにかけ精製し、二次晶として0.53g得られた。
ンナモニトリル4.7g、60%水素化ナトリウム1.1
g、乾燥テトラヒドロフラン15mlを仕込み5〜10
℃に冷却し、窒素雰囲気下5mlの乾燥テトラヒド
ロフラン5mlに溶解したイソシアノ酢酸エチルエ
ステル3.1gを反応温度10℃以下で滴下した。滴
下後室温で3時間撹拌し反応を完結させ析出した
結晶を別した。液を減圧乾固せしめベンゼン
で溶解し水洗乾燥後再度減圧乾固した。得られた
粗結晶をエタノールで再結晶し、3gの3−シア
ノ−4−(2−クロルフエニル)−5−カルボエト
キシピロールを得た。収率44% 実施例 2 α−クロル−O−クロルシンナモニトリル2g
(0.01モル)とエチルイソシアノアセテート1.3g
(0.0115モル)を乾燥したベンゼン30mlに溶かし
た溶液をN2気流中、50%水素化ナトリウム0.6g
(0.0125モル)の乾燥したベンゼン20mlと
DMSO10mlの懸濁液に0°〜5℃の間で滴下し反応
させた。その後室温で1時間撹拌した。反応液を
氷水50mlの中に注入し、酢酸エチル30mlで2回抽
出し、有機層を飽和食塩水30mlで2回洗浄後硫酸
マグネシウムで乾燥して濃縮した。残留物をベン
ゼンを展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマト
グラフイーにかけ精製すると2−エトキシカルボ
ニル−3−(2−クロルフエニル)−4−シアノピ
ロール1gを得た。収率38% mp136−138℃ 実施例 3 α−クロルシンナモニトリル2.5g(0.015モ
ル)とエチルイソシアノアセテート2.1g
(0.0185モル)を乾燥したジメトキシエタン25ml
に溶かした溶液をN2気流中、50%NaH1.1g
(0.0229モル)の乾燥したジメトキシエタン15ml
の懸濁液に反応温度が45℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で1時間撹拌した。反応
液を氷水30mlの中に注入し酢酸エチル50mlで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウ
ムで乾燥して濃縮した。残留物をベンゼンを展開
溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にかけ精製すると2−エトキシカルボニル−3−
フエニル−4−シアノピロール1.3gを得た。収
率36.1% mp156−158℃ 実施例 4 α−トシル−O−クロルシンナモニトリル2g
(0.0063モル)とエチルイソシアノアセテート0.9
g(0.0079モル)を乾燥したジメトキシエタン30
mlに溶かした溶液をN2気流中、50%NaH0.4g
(0.0083モル)の乾燥したジメトキシエタン10ml
の懸濁液に反応温度が45℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で30分撹拌した。反応後
析出したp−トルエンフルフイン酸ソーダを別
し、液を濃縮して残留物を酢酸エチル50mlに溶
解させ飽和食塩水で洗浄、次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた粗
結晶をn−ヘキサン/ベンゼン2対1の混合溶媒
10mlで洗浄し、2−エトキシカルボニル−3−
(2−クロルフエニル)−4−シアノピロール0.9
gを得た。洗液を濃縮して残留物をベンゼンを展
開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにかけ精製し、二次晶として0.53g得られた。
収率 82.7% mp136−138℃
実施例 5
α−トシル−シンナモニトリル3g(0.0106モ
ル)とエチルイソシアノアセテート1.4g
(0.0123モル)を乾燥したジメトキシエタン20ml
に溶かした溶液をN2気流下50%NaH0.6g
(0.0125モル)の乾燥したジメトキシエタン10ml
の懸濁液に反応温度が43℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で1時間撹拌した。反応
後析出したp−トルエンスルフイン酸ソーダを
別し、液を濃縮して残留物を酢酸エチル30mlに
溶解させ、飽和食塩水で水洗後硫酸マグネシウム
で乾燥して、溶媒を減圧下留去した。得られた粗
結晶をn−ヘキサン、ベンゼン1対1の混合溶媒
10mlで洗浄し、1.8gの2−エトキシカルボニル
−3−フエニル−4−シアノピロール1.8gを得
た。洗液を濃縮して残留物をベンゼンを展開溶媒
としてシリカゲルカラムクロマトグラフイーにか
け精製すると二次晶として0.128gを得た。収率
75.8% mp156−158℃ 実施例 6 α−メチルスルホニル−0−クロルシンナモニ
トリル2g(0.00828モル)とエチルイソシアノ
アセテート1g(0.0088モル)を乾燥したジメト
キシエタン25mlに溶かした溶液をN2気流中50%
NaH0.4g(0.0083モル)の乾燥したジメトキシ
エタン10mlの懸濁液に反応温度が40℃を越えない
ように徐々に滴下した。その後室温で30分撹拌し
た。反応後析出したメタンスルフイン酸ナトリウ
ムを別し、液を濃縮して得られた残留物をn
−ヘキサン40mlで2回洗浄して鉱油成分を除去
し、次いで残渣を酢酸エチル35mlに溶解させ飽和
食塩水で洗浄、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し
溶媒を減圧下留去した。得られた粗結晶をn−ヘ
キサンヘンゼン1対1の混合溶媒10mlで洗浄し、
2−エトキシカルボニル−3−(2−クロルフエ
ニル)−4−シアノピロール1.5gを得た。洗液を
濃縮して残留物をベンゼンを展開溶媒としてシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにかけ精製し、
二次晶として0.36g得た。収率82.7% mp140−
141℃ 実施例 7 α−メチルスルホニル−0−クロルシンナモニ
トリル2g(0.00828モル)とエチルイソシアノ
アセテート0.95g(0.0084モル)をエタノール40
mlに溶かした溶液に炭酸ナトリウム0.53g
(0.005モル)を加え50分間加熱還流した。反応終
了後室温に冷却し、過して析出した炭酸ナトリ
ウムの結晶を除いた。液に酢酸エチルエステル
30mlを加えて過し、液を飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去
した。得られた粗結晶をn−ヘキサン−ベンゼン
7対3の混合溶媒で洗浄し、2−エトキシカルボ
ニル−3−(2−クロルフエニル)−4−シアノピ
ロール1.55gを得た。洗液を濃縮してベンゼンを
展開溶媒としてカラムクロマトグラフイーにかけ
て精製し二次晶として0.1gを得た。収率 72.7
% 実施例 8 α−トシル−0−クロルシンナモニトリル6.35
(0.02モル)、エチルイソシアノアセテート2.26g
(0.02モル)、炭酸ナトリウム1.06g(0.01モル)、
エタノール30ml、水10mlからなる懸濁液を撹拌
下、30分間加熱還流した。反応液はロータリーエ
バポレーターを用いてエタノールを留去の後残渣
をベンゼン抽出した。ベンゼン層は水洗後、硫酸
マグネシウムにて乾燥、溶媒を留去した。得られ
た結晶は、n−ヘキサン洗浄して5.5gの2−エ
トキシカルボニル−3−(2−クロルフエニル)−
4−シアノピロールを得た。高速液体クロマトグ
ラフイー純度92.3% 収率 92.3% 参考例 1 エタノール8ml、水16.3ml、水酸化ナトリウム
1.6g(0.04モル)からなる溶液中に2−エトキ
シカルボニル−3−(2−クロルフエニル)−4−
シアノピロール5.49g(0.02モル)を加え、撹拌
下、5時間加熱還流した。反応液は冷却後、氷水
中に注加し、次いで塩酸を加えて酸性とした。こ
のものは酢酸エチルで抽出し、有機層は飽和食塩
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去、真空ポンプで乾燥して4.52gの
2−カルボキシ−3−(2−クロルフエニル)−4
−シアノピロールを得た。収率91.3% 分解点
215.1℃ (このものは特に精製する事なく次工程へ用いる
事が出来る純度を有する。) 参考例 2 2−カルボキシ−3−(2−クロルフエニル)−
4−シアノピロール9.86g(0.04モル)、キノリ
ン20ml、酸化第二銅0.64g(0.008モル)からな
る混合物を撹拌下、150〜60℃にて2.5時間加熱し
た。反応液は室温まで冷却後、濃塩酸20gを含む
氷水中に注加した。酢酸エチル200mlを用いて抽
出後、有機層は飽和食塩水で洗浄、次いで硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して
粗製品8.0gを得た。
ル)とエチルイソシアノアセテート1.4g
(0.0123モル)を乾燥したジメトキシエタン20ml
に溶かした溶液をN2気流下50%NaH0.6g
(0.0125モル)の乾燥したジメトキシエタン10ml
の懸濁液に反応温度が43℃を越えないように徐々
に滴下した。その後室温で1時間撹拌した。反応
後析出したp−トルエンスルフイン酸ソーダを
別し、液を濃縮して残留物を酢酸エチル30mlに
溶解させ、飽和食塩水で水洗後硫酸マグネシウム
で乾燥して、溶媒を減圧下留去した。得られた粗
結晶をn−ヘキサン、ベンゼン1対1の混合溶媒
10mlで洗浄し、1.8gの2−エトキシカルボニル
−3−フエニル−4−シアノピロール1.8gを得
た。洗液を濃縮して残留物をベンゼンを展開溶媒
としてシリカゲルカラムクロマトグラフイーにか
け精製すると二次晶として0.128gを得た。収率
75.8% mp156−158℃ 実施例 6 α−メチルスルホニル−0−クロルシンナモニ
トリル2g(0.00828モル)とエチルイソシアノ
アセテート1g(0.0088モル)を乾燥したジメト
キシエタン25mlに溶かした溶液をN2気流中50%
NaH0.4g(0.0083モル)の乾燥したジメトキシ
エタン10mlの懸濁液に反応温度が40℃を越えない
ように徐々に滴下した。その後室温で30分撹拌し
た。反応後析出したメタンスルフイン酸ナトリウ
ムを別し、液を濃縮して得られた残留物をn
−ヘキサン40mlで2回洗浄して鉱油成分を除去
し、次いで残渣を酢酸エチル35mlに溶解させ飽和
食塩水で洗浄、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し
溶媒を減圧下留去した。得られた粗結晶をn−ヘ
キサンヘンゼン1対1の混合溶媒10mlで洗浄し、
2−エトキシカルボニル−3−(2−クロルフエ
ニル)−4−シアノピロール1.5gを得た。洗液を
濃縮して残留物をベンゼンを展開溶媒としてシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにかけ精製し、
二次晶として0.36g得た。収率82.7% mp140−
141℃ 実施例 7 α−メチルスルホニル−0−クロルシンナモニ
トリル2g(0.00828モル)とエチルイソシアノ
アセテート0.95g(0.0084モル)をエタノール40
mlに溶かした溶液に炭酸ナトリウム0.53g
(0.005モル)を加え50分間加熱還流した。反応終
了後室温に冷却し、過して析出した炭酸ナトリ
ウムの結晶を除いた。液に酢酸エチルエステル
30mlを加えて過し、液を飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去
した。得られた粗結晶をn−ヘキサン−ベンゼン
7対3の混合溶媒で洗浄し、2−エトキシカルボ
ニル−3−(2−クロルフエニル)−4−シアノピ
ロール1.55gを得た。洗液を濃縮してベンゼンを
展開溶媒としてカラムクロマトグラフイーにかけ
て精製し二次晶として0.1gを得た。収率 72.7
% 実施例 8 α−トシル−0−クロルシンナモニトリル6.35
(0.02モル)、エチルイソシアノアセテート2.26g
(0.02モル)、炭酸ナトリウム1.06g(0.01モル)、
エタノール30ml、水10mlからなる懸濁液を撹拌
下、30分間加熱還流した。反応液はロータリーエ
バポレーターを用いてエタノールを留去の後残渣
をベンゼン抽出した。ベンゼン層は水洗後、硫酸
マグネシウムにて乾燥、溶媒を留去した。得られ
た結晶は、n−ヘキサン洗浄して5.5gの2−エ
トキシカルボニル−3−(2−クロルフエニル)−
4−シアノピロールを得た。高速液体クロマトグ
ラフイー純度92.3% 収率 92.3% 参考例 1 エタノール8ml、水16.3ml、水酸化ナトリウム
1.6g(0.04モル)からなる溶液中に2−エトキ
シカルボニル−3−(2−クロルフエニル)−4−
シアノピロール5.49g(0.02モル)を加え、撹拌
下、5時間加熱還流した。反応液は冷却後、氷水
中に注加し、次いで塩酸を加えて酸性とした。こ
のものは酢酸エチルで抽出し、有機層は飽和食塩
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去、真空ポンプで乾燥して4.52gの
2−カルボキシ−3−(2−クロルフエニル)−4
−シアノピロールを得た。収率91.3% 分解点
215.1℃ (このものは特に精製する事なく次工程へ用いる
事が出来る純度を有する。) 参考例 2 2−カルボキシ−3−(2−クロルフエニル)−
4−シアノピロール9.86g(0.04モル)、キノリ
ン20ml、酸化第二銅0.64g(0.008モル)からな
る混合物を撹拌下、150〜60℃にて2.5時間加熱し
た。反応液は室温まで冷却後、濃塩酸20gを含む
氷水中に注加した。酢酸エチル200mlを用いて抽
出後、有機層は飽和食塩水で洗浄、次いで硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して
粗製品8.0gを得た。
粗製品はシリカゲルカラムクロマト法(溶出液
ベンゼン)で精製し、7.03gの3−(2−クロル
フエニル)−4−シアノピロールを得た。
ベンゼン)で精製し、7.03gの3−(2−クロル
フエニル)−4−シアノピロールを得た。
収率 86.8% 融点 139.4℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (1) 一般式 (式中Rは低級アルキル基を、Xはハロゲン原子
を、nは0、1又は2を示す。)で表わされる化
合物。 2 一般式 {式中Xはハロゲン原子を、nは0、1又は2
を、Zはハロゲン原子、シアノ基又は式SO2r(r
はアルキル基又はアリール基を示す。)で表わさ
れるスルホニル基を示す。}で表わされるシンナ
ムニトリル類と、 一般式 CNCH2COOR () (式中Rは低級アルキル基を示す。)で表わされ
るイソシアノ酢酸エステル類とを反応させること
を特徴とする一般式 (式中X、R及びnは前記と同一の意味を示す。)
で表わされる化合物の製造方法。 3 有機溶媒中塩基の存在下反応させる特許請求
の範囲第2項記載の製造方法。 4 有機溶媒中触媒の存在下反応させる特許請求
の範囲第2項記載の製造方法。 5 ZがSO2r(rはアルキル基又はアリール基を
示す。)である特許請求の範囲第2,3又は4項
記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8497483A JPS59212468A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 3−フエニル−4−シアノピロ−ル誘導体及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8497483A JPS59212468A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 3−フエニル−4−シアノピロ−ル誘導体及び製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59212468A JPS59212468A (ja) | 1984-12-01 |
| JPH0416466B2 true JPH0416466B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=13845589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8497483A Granted JPS59212468A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 3−フエニル−4−シアノピロ−ル誘導体及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59212468A (ja) |
-
1983
- 1983-05-17 JP JP8497483A patent/JPS59212468A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59212468A (ja) | 1984-12-01 |
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