JPH04165021A - パスライン保持用サポートローラ装置 - Google Patents
パスライン保持用サポートローラ装置Info
- Publication number
- JPH04165021A JPH04165021A JP28579390A JP28579390A JPH04165021A JP H04165021 A JPH04165021 A JP H04165021A JP 28579390 A JP28579390 A JP 28579390A JP 28579390 A JP28579390 A JP 28579390A JP H04165021 A JPH04165021 A JP H04165021A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- support roller
- roller
- electron beam
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B39/00—Arrangements for moving, supporting, or positioning work, or controlling its movement, combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills
- B21B39/02—Feeding or supporting work; Braking or tensioning arrangements, e.g. threading arrangements
- B21B39/12—Arrangement or installation of roller tables in relation to a roll stand
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、バスライン保持用サポートローラ装置に関
し、とくに走行中のストリップに対して電子ビームを照
射する場合における、ストリップの板面レベル変動の効
果的低減を図ったものである。
し、とくに走行中のストリップに対して電子ビームを照
射する場合における、ストリップの板面レベル変動の効
果的低減を図ったものである。
(従来の技術)
例えばけい素鋼板の特性改善技術の一つとして、特開昭
63−96218号公報に開示されているような、圧延
方向と直角方向に電子ビーム(HB)を照射することに
よって鋼板の品質を向上させる技術がある。
63−96218号公報に開示されているような、圧延
方向と直角方向に電子ビーム(HB)を照射することに
よって鋼板の品質を向上させる技術がある。
ところで電子ビームのような高エネルギービームを鋼板
に照射する場合には、ビーム焦点をストリップに正確に
合せることが肝要である。しかしながら実ラインにおい
てストリップを連続して処理する場合、ストリップの形
状不良や張力変動等さまざまな要因でバスラインが変動
する。このためビーム焦点からストリップがずれてしま
い、板表面に目的とするエネルギー密度を均一に与えら
れないなどの不具合が発生する。
に照射する場合には、ビーム焦点をストリップに正確に
合せることが肝要である。しかしながら実ラインにおい
てストリップを連続して処理する場合、ストリップの形
状不良や張力変動等さまざまな要因でバスラインが変動
する。このためビーム焦点からストリップがずれてしま
い、板表面に目的とするエネルギー密度を均一に与えら
れないなどの不具合が発生する。
そのため例えば特開昭58−181820号公報では、
サポートローラ装置を積極的に利用することによってバ
スラインの変動を防止する方法が提案されている。
サポートローラ装置を積極的に利用することによってバ
スラインの変動を防止する方法が提案されている。
(発明が解決しようとする課題)
連続的にストリップを処理する実設備を考えた場合、第
2図aに示すようにストリップ1の幅方向に正確に照射
ビームスポット2を並べるためには、第2図すに示すよ
うに、ライン速度vLに応じてビーム走査方向を、次式 ここでVsは走査速度 で示されるθだけ進行方向に傾ける必要がある。
2図aに示すようにストリップ1の幅方向に正確に照射
ビームスポット2を並べるためには、第2図すに示すよ
うに、ライン速度vLに応じてビーム走査方向を、次式 ここでVsは走査速度 で示されるθだけ進行方向に傾ける必要がある。
このような状態で電子ビームガン3によって、上面から
のみEB照射を行なうに際し、その下にサポートローラ
4を設置してバスラインの保持を行なう場合、第4図に
示すようにEB照射端部では、次式 %式% ここでWは照射幅 で示されるδだけサポートローラ装置とEB照射位置と
が離れることになり、EB照射に対するバスラインがス
トリップセンターとエツジとで変動することになる。ま
た第4図に示すように、ストリップ1の表裏面に同時に
EB照射を行う場合、サポートローラ装置4はa =1
/2wtanθだけEBガン3から離れた位置にしか設
置できず、バスライン保持効果は必ずしも十分とは言え
なかった。
のみEB照射を行なうに際し、その下にサポートローラ
4を設置してバスラインの保持を行なう場合、第4図に
示すようにEB照射端部では、次式 %式% ここでWは照射幅 で示されるδだけサポートローラ装置とEB照射位置と
が離れることになり、EB照射に対するバスラインがス
トリップセンターとエツジとで変動することになる。ま
た第4図に示すように、ストリップ1の表裏面に同時に
EB照射を行う場合、サポートローラ装置4はa =1
/2wtanθだけEBガン3から離れた位置にしか設
置できず、バスライン保持効果は必ずしも十分とは言え
なかった。
また第5図に示すように、表裏面にEBガン3をタンデ
ムに配置する場合には、このサポートローラ4の間隔が
EBガン3の配置間隔を決定し、装置全体の寸法が大き
くなって経済的とは言えなかった。
ムに配置する場合には、このサポートローラ4の間隔が
EBガン3の配置間隔を決定し、装置全体の寸法が大き
くなって経済的とは言えなかった。
(課題を解決するための手段)
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、走行
中のストリップに対して電子ビームを照射する場合に、
ストリップの板面レベルの変動を効果的に低減すること
ができるバスライン保持用サポートローラ装置を提案す
ることを目的とする。
中のストリップに対して電子ビームを照射する場合に、
ストリップの板面レベルの変動を効果的に低減すること
ができるバスライン保持用サポートローラ装置を提案す
ることを目的とする。
すなわちこの発明は、連続して走行する間に、幅方向に
電子ビームを照射されるストリップの板面レベルを維持
するサポートローラ装置であって、ストリップの幅方向
に多分割されたローラ群からなり、該ローラ群を、走行
するストリップの幅方向からストリップ進行方向に向け
て斜めに配置したことからなるバスライン保持用サポー
トローラ装置(第1発明)である。
電子ビームを照射されるストリップの板面レベルを維持
するサポートローラ装置であって、ストリップの幅方向
に多分割されたローラ群からなり、該ローラ群を、走行
するストリップの幅方向からストリップ進行方向に向け
て斜めに配置したことからなるバスライン保持用サポー
トローラ装置(第1発明)である。
またこの発明は、ローラ群を平行リンク機構としたバス
ライン保持用サポートローラ装置(第2発明)である。
ライン保持用サポートローラ装置(第2発明)である。
さらにこの発明は、ローラ群の各ローラを個々に回転自
在なキャスタ形式とし、リジットバーに配設してなるバ
スライン保持用サポートローラ装置(第3発明)である
。
在なキャスタ形式とし、リジットバーに配設してなるバ
スライン保持用サポートローラ装置(第3発明)である
。
またさらにこの発明は、上記第1.2および3発明にお
いて、ローラ群の配置角度をストリップの走行速度に応
じて可変としたバスライン保持用サポートローラ装W(
第4発明)である。
いて、ローラ群の配置角度をストリップの走行速度に応
じて可変としたバスライン保持用サポートローラ装W(
第4発明)である。
(作 用)
この発明に従い、サポートローラ装置を幅方向に多分割
したローラ群とし、これをEB照射偏向角θに合せてパ
ス進行方向に斜めに配置することにより、常にビームス
ポットの直下もしくは直近でのストリップの保持が可能
となる。
したローラ群とし、これをEB照射偏向角θに合せてパ
ス進行方向に斜めに配置することにより、常にビームス
ポットの直下もしくは直近でのストリップの保持が可能
となる。
またローラ群の配置に際し、平行リンク方式や回転自在
キャスタ方式を採用することにより、ローラ群の配置を
より簡便に行うことができる。
キャスタ方式を採用することにより、ローラ群の配置を
より簡便に行うことができる。
さらにライン速度が変化した場合には、当然EB照射偏
向角θは変化するけれども、ローラ群の配置角度を可変
とすることにより、ライン速度の変動に対応してローラ
群の配置角度を適切に調整できるので、ライン速度の変
動に伴う弊害もない。
向角θは変化するけれども、ローラ群の配置角度を可変
とすることにより、ライン速度の変動に対応してローラ
群の配置角度を適切に調整できるので、ライン速度の変
動に伴う弊害もない。
(実施例)
第1図a、bに、この発明に従うバスライン保持用サポ
ートローラ装置の好適例を平面および正面で示し、図中
番号5がストリップの幅方向に多分割されたサポートロ
ーラ、6がこれらのローラ群の支持台、7が回転軸受け
、8が傾動シリンダである。
ートローラ装置の好適例を平面および正面で示し、図中
番号5がストリップの幅方向に多分割されたサポートロ
ーラ、6がこれらのローラ群の支持台、7が回転軸受け
、8が傾動シリンダである。
さて第1図に示したところにおいて、分割サポートロー
ラ5はいずれも支持台6に回転可能な状態で取付けられ
ている。また支持台6は回転軸受け7を介して回動可能
とし、傾動シリンダ8によってストリップ1の進行方向
に対し任意の角度を取ることができるようになっている
。
ラ5はいずれも支持台6に回転可能な状態で取付けられ
ている。また支持台6は回転軸受け7を介して回動可能
とし、傾動シリンダ8によってストリップ1の進行方向
に対し任意の角度を取ることができるようになっている
。
EBガン3は、ライン速度に合せてそのEB照射偏向角
θがtanθ=vL/v、となるように調整するが、そ
の際傾動シリンダ8を用いてローラ支持台6をEB照射
偏向角θに合せる。この時ローラ5はローラ支持台6に
対してθ回転し、常にストリップ1の進行方向を向くよ
うになる。このようにして常にEBビームスポット部2
を支持するため、バスライン変動が抑えられるのである
。
θがtanθ=vL/v、となるように調整するが、そ
の際傾動シリンダ8を用いてローラ支持台6をEB照射
偏向角θに合せる。この時ローラ5はローラ支持台6に
対してθ回転し、常にストリップ1の進行方向を向くよ
うになる。このようにして常にEBビームスポット部2
を支持するため、バスライン変動が抑えられるのである
。
第6図a、bは、ストリップの表裏面に同時にEB照射
を行なう場合におけるこの発明の応用例を示したもので
ある。EBガン3,3′の前後直近にサポートローラ群
を設置して照射部のバスライン変動を防止する。この場
合にもEB偏向照射に合せ、前後サポートローラ支持台
6を回転させることにより、常に照射部直近をサポート
することができる。従ってEBガンタンデム配置の場合
に、EBガンの配置間隔を短くすることができる。
を行なう場合におけるこの発明の応用例を示したもので
ある。EBガン3,3′の前後直近にサポートローラ群
を設置して照射部のバスライン変動を防止する。この場
合にもEB偏向照射に合せ、前後サポートローラ支持台
6を回転させることにより、常に照射部直近をサポート
することができる。従ってEBガンタンデム配置の場合
に、EBガンの配置間隔を短くすることができる。
第7図a、bおよびCに、平行リンク方式によるローラ
サポート機構を示す。この場合、サポートローラ支持台
6,6′に対し、サポートローラ軸受部9をピン10で
回転可能に結合することにより、6.6’ 9で平行リ
ンク機構を構成する。またサポートローラ支持台6,6
′は、回転軸受け7、シリンダー8により傾動可能とな
っており、また車輪11により平行保持可能となってい
る。そしてサポートローラ支持台6,6′がシリンダー
8により傾動すると、リンク機構により各分割サポート
ローラ5は常にストリップ進行方向を向くことになる。
サポート機構を示す。この場合、サポートローラ支持台
6,6′に対し、サポートローラ軸受部9をピン10で
回転可能に結合することにより、6.6’ 9で平行リ
ンク機構を構成する。またサポートローラ支持台6,6
′は、回転軸受け7、シリンダー8により傾動可能とな
っており、また車輪11により平行保持可能となってい
る。そしてサポートローラ支持台6,6′がシリンダー
8により傾動すると、リンク機構により各分割サポート
ローラ5は常にストリップ進行方向を向くことになる。
次に第8図に、回転自在キャスタ方式によるローラサポ
ート機構を示す。この方式は、サポートローラ支持台6
に対し、サポートローラ軸受部9をピン10を介して回
転自在に取り付け、キャスタ形式としたものである。支
持台6は回転軸受け7、シリンダー8により傾動可能と
している。支持台6がシリンダー8により傾動した場合
、各分割サポートローラ5はストリップ搬送方向へ自在
に首を振り、常にストリップ進行方向に向くことになる
。
ート機構を示す。この方式は、サポートローラ支持台6
に対し、サポートローラ軸受部9をピン10を介して回
転自在に取り付け、キャスタ形式としたものである。支
持台6は回転軸受け7、シリンダー8により傾動可能と
している。支持台6がシリンダー8により傾動した場合
、各分割サポートローラ5はストリップ搬送方向へ自在
に首を振り、常にストリップ進行方向に向くことになる
。
(発明の効果)
この発明の効果は次のとおりに要約される。
(1) EB照射におけるバスライン変動防止効果が向
上し、均一なEB照射効果を得ることができる。
上し、均一なEB照射効果を得ることができる。
(2) EBガンタンデム配置時においてEBガンの
設置間隔を小さくでき、装置の小型化が可能となる。
設置間隔を小さくでき、装置の小型化が可能となる。
第1図a、bはそれぞれ、この発明に従うバスライン保
持要領を示す平面図および正面図、第2図a、bはそれ
ぞれ、電子ビーム照射痕と照射パターンを示した図、 第3図a、 b、第4図a、 bおよび第5図a。 bはそれぞれ、従来式によるバスラインの保持要領を示
した図、 第6図a、bはそれぞれ、この発明に従うバスライン保
持要領の説明図、 第7図a、bおよびCは、平行リンク方式によるローラ
サポート機構を示す平面図、A−A矢視面図およびB−
B矢視断面図、 第8図a、bは、回転自在キャスタ方式によるローラサ
ポート機構を示す平面図およびC−C矢視断面図である
。 1・・・ストリップ 2・・・電子ビームスポッ
ト3・・・電子ビームガン 4・・・サポートローラ
5・・・分割サポートローラ 6・・・サポートローラ支持台 7・・・回転軸受け(ピボット) 8・・・(引動シリンダ 9・・・サポートローラ軸受部 10・・・リンクピン(回転ピン) 11・・・車輪 第2図 (a) 2−−一電手ビーAヌJれ−・ト ライン七1度りt 第3図 (a) (b) @4図 (a) 、 (b) 第5図 (a) (b) 第6図 (a) (b) 第7図
持要領を示す平面図および正面図、第2図a、bはそれ
ぞれ、電子ビーム照射痕と照射パターンを示した図、 第3図a、 b、第4図a、 bおよび第5図a。 bはそれぞれ、従来式によるバスラインの保持要領を示
した図、 第6図a、bはそれぞれ、この発明に従うバスライン保
持要領の説明図、 第7図a、bおよびCは、平行リンク方式によるローラ
サポート機構を示す平面図、A−A矢視面図およびB−
B矢視断面図、 第8図a、bは、回転自在キャスタ方式によるローラサ
ポート機構を示す平面図およびC−C矢視断面図である
。 1・・・ストリップ 2・・・電子ビームスポッ
ト3・・・電子ビームガン 4・・・サポートローラ
5・・・分割サポートローラ 6・・・サポートローラ支持台 7・・・回転軸受け(ピボット) 8・・・(引動シリンダ 9・・・サポートローラ軸受部 10・・・リンクピン(回転ピン) 11・・・車輪 第2図 (a) 2−−一電手ビーAヌJれ−・ト ライン七1度りt 第3図 (a) (b) @4図 (a) 、 (b) 第5図 (a) (b) 第6図 (a) (b) 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、連続して走行する間に、幅方向に電子ビームを照射
されるストリップの板面レベルを維持するサポートロー
ラ装置であって、 ストリップの幅方向に多分割されたローラ群からなり、
該ローラ群を、走行するストリップの幅方向からストリ
ップ進行方向に向けて斜めに配置したことを特徴とする
バスライン保持用サポートローラ装置。 2、請求項1において、ローラ群が平行リンク機構にな
るバスライン保持用サポートローラ装置。 3、請求項1において、ローラ群の各ローラを個々に回
転自在なキャスタ形式とし、リジットバーに配設してな
るバスライン保持用サポートローラ装置。 4、請求項1、2または3において、ローラ群の配置角
度が可変であるバスライン保持用サポートローラ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28579390A JPH04165021A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | パスライン保持用サポートローラ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28579390A JPH04165021A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | パスライン保持用サポートローラ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04165021A true JPH04165021A (ja) | 1992-06-10 |
Family
ID=17696150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28579390A Pending JPH04165021A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | パスライン保持用サポートローラ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04165021A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012035288A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jfe Steel Corp | 電子ビーム照射方法 |
| JP2019510130A (ja) * | 2015-12-30 | 2019-04-11 | ポスコPosco | 方向性電磁鋼板の磁区微細化方法およびその装置 |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP28579390A patent/JPH04165021A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012035288A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jfe Steel Corp | 電子ビーム照射方法 |
| JP2019510130A (ja) * | 2015-12-30 | 2019-04-11 | ポスコPosco | 方向性電磁鋼板の磁区微細化方法およびその装置 |
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