JPH04169589A - ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH04169589A JPH04169589A JP29496390A JP29496390A JPH04169589A JP H04169589 A JPH04169589 A JP H04169589A JP 29496390 A JP29496390 A JP 29496390A JP 29496390 A JP29496390 A JP 29496390A JP H04169589 A JPH04169589 A JP H04169589A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハイドロジエンポリシロキサン及びその製造
方法に関する。
方法に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課B]テトラ
メチルジシロキサンあるいはヘキサメチルジシロキサン
とオクタメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチ
ルシクロテトラシロキサンは酸平衡化して両末端・側鎖
ハイドロポリシロキサンあるいは側鎖ハイドロポリシロ
キサンを与える。これらハイドロジエンポリシロキサン
は白金触媒存在下、種々のアルケンと反応して対応する
付加生成物を与えるが、側鎖(メタ)アクリルで両末端
水素のハイドロジエンポリシロキサンは知られていなか
った。また、メチル系側鎖ハイドロポリシロキサンの一
部5i−)1を(メタ)アクリル酸アリルで付加反応し
て対応する付加生成物を容易に得ることができるが、メ
チルフェニル系ハイドロジエンポリシロキサンにおいて
は全く報告されていない。何故ならば、フェニル系シロ
キサンは一般にアルカリ触媒で平衡化するため、5i−
H化合物を用いることができなかった。今までは、芳香
族置換基をハイドロジエンポリシロキサンに導入するに
はα−メチルスチレンを一般に用いていたが、耐候性に
乏しく、紫外線や太陽光の当たる箇所で使用する用途に
は不向きであった。また、芳香族置換基を導入しないと
、有機樹脂との相溶性が悪く、反応性も乏しく、フェニ
ル基を適度に含有する反応性のポリシロキサンが有機樹
脂の改質剤として求められていた。
メチルジシロキサンあるいはヘキサメチルジシロキサン
とオクタメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチ
ルシクロテトラシロキサンは酸平衡化して両末端・側鎖
ハイドロポリシロキサンあるいは側鎖ハイドロポリシロ
キサンを与える。これらハイドロジエンポリシロキサン
は白金触媒存在下、種々のアルケンと反応して対応する
付加生成物を与えるが、側鎖(メタ)アクリルで両末端
水素のハイドロジエンポリシロキサンは知られていなか
った。また、メチル系側鎖ハイドロポリシロキサンの一
部5i−)1を(メタ)アクリル酸アリルで付加反応し
て対応する付加生成物を容易に得ることができるが、メ
チルフェニル系ハイドロジエンポリシロキサンにおいて
は全く報告されていない。何故ならば、フェニル系シロ
キサンは一般にアルカリ触媒で平衡化するため、5i−
H化合物を用いることができなかった。今までは、芳香
族置換基をハイドロジエンポリシロキサンに導入するに
はα−メチルスチレンを一般に用いていたが、耐候性に
乏しく、紫外線や太陽光の当たる箇所で使用する用途に
は不向きであった。また、芳香族置換基を導入しないと
、有機樹脂との相溶性が悪く、反応性も乏しく、フェニ
ル基を適度に含有する反応性のポリシロキサンが有機樹
脂の改質剤として求められていた。
また従来、有機官能基を含有するオルガノポリシロキサ
ンは、塗料、成形材料、医療用材料、各種コーティング
材料等の分野で樹脂改質剤として広く利用され、有機樹
脂に耐熱性、耐候性、離型性、成形加工性、耐熱衝撃性
等の特性を付与するものである。
ンは、塗料、成形材料、医療用材料、各種コーティング
材料等の分野で樹脂改質剤として広く利用され、有機樹
脂に耐熱性、耐候性、離型性、成形加工性、耐熱衝撃性
等の特性を付与するものである。
このような有機官能基を含有するオルガノポリシロキサ
ンとしては、従来、ジメチルポリシロキサンの両末端に
アルコール性水酸基を含有する化合物(特公昭54−8
718号公報)、ジメチルポリシロキサンの両末端に官
能基を有する化合物(特開昭58−217515号、同
59−123502号公報)、側鎖に官能基を有するメ
チルポリシロキサン(特公昭61−18968号、同6
1−28880号公報)、側鎖及び両末端にアルコール
性水酸基を含有するメチルフェニルポリシロキサンが提
案されているが、これらのオルガノポリシロキサンは、
いずれもその官能基が1分子内で全て同一のもののみで
あり、1分子内に異種の官能基を含有するポリシロキサ
ンは提案されていない。
ンとしては、従来、ジメチルポリシロキサンの両末端に
アルコール性水酸基を含有する化合物(特公昭54−8
718号公報)、ジメチルポリシロキサンの両末端に官
能基を有する化合物(特開昭58−217515号、同
59−123502号公報)、側鎖に官能基を有するメ
チルポリシロキサン(特公昭61−18968号、同6
1−28880号公報)、側鎖及び両末端にアルコール
性水酸基を含有するメチルフェニルポリシロキサンが提
案されているが、これらのオルガノポリシロキサンは、
いずれもその官能基が1分子内で全て同一のもののみで
あり、1分子内に異種の官能基を含有するポリシロキサ
ンは提案されていない。
上記の官能基が1分子内で全て同一であるオルガノポリ
シロキサンは、その官能基に応じた特性を有するもので
あるが、かかるオルガノポリシロキサンに比べ、更に有
機樹脂との相溶性が高(、樹脂改質剤等としてより有効
に使用されるオルガノポリシロキサンが望まれる。
シロキサンは、その官能基に応じた特性を有するもので
あるが、かかるオルガノポリシロキサンに比べ、更に有
機樹脂との相溶性が高(、樹脂改質剤等としてより有効
に使用されるオルガノポリシロキサンが望まれる。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者は上記
要請に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、下記式(3)
、(4)及び(5)で示される化合物RR 1] H5iOSiH・・・・・・(3) RR (SiO)! ・・・・
・・(4)= (SiO)、 ・・・・
・・(5)(但し、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基
又はフェニル基、R′は水素原子又はメチル基、X、y
はそれぞれ3〜10の整数を示す。)を好ましくは酸、
特に濃硫酸あるいはトリフルオロメタンスルフォン酸の
存在下、平衡化反応すると、両末端水素、側鎖(メタ)
アクリルポリシロキサンが容易に製造され、両末端水素
をアクリル性以外の官能基含有アルケンとヒドロシリル
化することによりヘテロファンクショナルポリシロキサ
ンが得られること、これらへテロファンクショナルポリ
シロキサンの(メタ)アクリル基は他のラジカル重合性
単量体と共重合することができ、これらシリコーン・ア
クリル共重合体は官能基を含有しているため硬化性、他
の有機樹脂との相溶性に優れていることを見い出した。
要請に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、下記式(3)
、(4)及び(5)で示される化合物RR 1] H5iOSiH・・・・・・(3) RR (SiO)! ・・・・
・・(4)= (SiO)、 ・・・・
・・(5)(但し、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基
又はフェニル基、R′は水素原子又はメチル基、X、y
はそれぞれ3〜10の整数を示す。)を好ましくは酸、
特に濃硫酸あるいはトリフルオロメタンスルフォン酸の
存在下、平衡化反応すると、両末端水素、側鎖(メタ)
アクリルポリシロキサンが容易に製造され、両末端水素
をアクリル性以外の官能基含有アルケンとヒドロシリル
化することによりヘテロファンクショナルポリシロキサ
ンが得られること、これらへテロファンクショナルポリ
シロキサンの(メタ)アクリル基は他のラジカル重合性
単量体と共重合することができ、これらシリコーン・ア
クリル共重合体は官能基を含有しているため硬化性、他
の有機樹脂との相溶性に優れていることを見い出した。
同様に、下記式〇〇)、00、(8)、(9)R35i
O(SiO)、 5iRs ・・・・
・・00)■ RzSiO(SiO)、l5iRz
・・・・・・ODRzSi(OR”)2
・・・・・・(8)R5i (OR″)2 (但し、式中R,R’は上記と同様の意味を示し、R#
はメチル基又はエチル基を示し、mは0〜100の整数
、nは1〜100の整数を表わす。)で示される化合物
と水を好ましくは酸、特に濃硫酸あるいはトリフルオロ
メタンスルフォン酸存在下平衡化反応すると、同様に任
意モル数の(メタ)アクリロキシプロピル基含有ポリシ
ロキサンが得られ、特に(C68S) zsi (OC
413) zを用いることにより、フェニル基を含ませ
ることができること、このフェニル基含有ハイドロジエ
ンポリシロキサンは種々の官能基含有アルケンと付加反
応させることにより、有機樹脂との相溶性の高いラジカ
ル重合性マクロマーになることを見い出し、本発明をな
すに至った。
O(SiO)、 5iRs ・・・・
・・00)■ RzSiO(SiO)、l5iRz
・・・・・・ODRzSi(OR”)2
・・・・・・(8)R5i (OR″)2 (但し、式中R,R’は上記と同様の意味を示し、R#
はメチル基又はエチル基を示し、mは0〜100の整数
、nは1〜100の整数を表わす。)で示される化合物
と水を好ましくは酸、特に濃硫酸あるいはトリフルオロ
メタンスルフォン酸存在下平衡化反応すると、同様に任
意モル数の(メタ)アクリロキシプロピル基含有ポリシ
ロキサンが得られ、特に(C68S) zsi (OC
413) zを用いることにより、フェニル基を含ませ
ることができること、このフェニル基含有ハイドロジエ
ンポリシロキサンは種々の官能基含有アルケンと付加反
応させることにより、有機樹脂との相溶性の高いラジカ
ル重合性マクロマーになることを見い出し、本発明をな
すに至った。
従って、本発明は、下記平均組成式(1)(但し、式中
Rは炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基、R′は
水素原子又はメチル基、a、b、 cはO≦a≦20、
o<b≦3.0≦C≦10の正数を表わす。) で示される(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイド
ロジエンポリシロキサン、 下記平均組成式(2) (但し、式中R,R’ 、a及びbは上記と同様の意味
を示し、dは1≦d≦10の正数を表わす。)で示され
る(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイドロジエン
ポリシロキサン、 下記式(3)、(4)、(5)及び(6)RR R (Sin)、 ・・・・・
・(4)(但し、式中R,R’は上記と同様の意味を示
し、x、y、zはそれぞれ3〜10の整数を表わす。)
で示される化合物を平衡化することを特徴とする式(1
)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法
、 下記式(7)、(4)、(5)及び(6)′R55iO
SiR:+ ・・・・・・(7)(
Sin)、 ・・・・・・(
4)(Sin)、 ・・・・
・・(5)寡 (但し、式中R,R’ 、x、y、zはそれぞれ上記と
同様の意味を示す。) で示される化合物を平衡化することを特徴とする式(2
)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法
、 下記式(3)、(8)、(9)、(6)%式%(3) (但し、式中R,R’及び2は上記と同様の意味を示し
、R″はメチル基又はエチル基を表わす。)で示される
化合物及び水とを加水分解・平衡化することを特徴とす
る式(1)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの
製造方法、 (A)下記式(7)、(8)、(9)、(6)%式%(
7) (但し、式中R,R’ R“、Zは上記と同様の意味を
示す。) で示される化合物及び水、又は (B)下記式Go)、OD、(8)、(9)R R3510(510)II 5iR3・・・・・・0ω
■ R:1510(310)、 5iR3・・・・・・OD
RzSt(OR”)2 ・・
・・・・(8)R5i(OR”)2 (但し、式中R,R’ 、R’、m及びnは上記と同様
の意味を示す。) で示される化合物及び水 とを加水分解・平衡化することを特徴とする式(2)で
示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法、及
び下記平均組成式(121 %式% (但し、式中R,a、b及びdは上記と同様の意味を示
す。) で示されるハイドロジエンシロキサンにアリルアクリレ
ート又はアリルメタクリレートを付加反応させることを
特徴とする式(2)で示されるハイドロジエンポリシロ
キサンの製造方法を提供する。
Rは炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基、R′は
水素原子又はメチル基、a、b、 cはO≦a≦20、
o<b≦3.0≦C≦10の正数を表わす。) で示される(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイド
ロジエンポリシロキサン、 下記平均組成式(2) (但し、式中R,R’ 、a及びbは上記と同様の意味
を示し、dは1≦d≦10の正数を表わす。)で示され
る(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイドロジエン
ポリシロキサン、 下記式(3)、(4)、(5)及び(6)RR R (Sin)、 ・・・・・
・(4)(但し、式中R,R’は上記と同様の意味を示
し、x、y、zはそれぞれ3〜10の整数を表わす。)
で示される化合物を平衡化することを特徴とする式(1
)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法
、 下記式(7)、(4)、(5)及び(6)′R55iO
SiR:+ ・・・・・・(7)(
Sin)、 ・・・・・・(
4)(Sin)、 ・・・・
・・(5)寡 (但し、式中R,R’ 、x、y、zはそれぞれ上記と
同様の意味を示す。) で示される化合物を平衡化することを特徴とする式(2
)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法
、 下記式(3)、(8)、(9)、(6)%式%(3) (但し、式中R,R’及び2は上記と同様の意味を示し
、R″はメチル基又はエチル基を表わす。)で示される
化合物及び水とを加水分解・平衡化することを特徴とす
る式(1)で示されるハイドロジエンポリシロキサンの
製造方法、 (A)下記式(7)、(8)、(9)、(6)%式%(
7) (但し、式中R,R’ R“、Zは上記と同様の意味を
示す。) で示される化合物及び水、又は (B)下記式Go)、OD、(8)、(9)R R3510(510)II 5iR3・・・・・・0ω
■ R:1510(310)、 5iR3・・・・・・OD
RzSt(OR”)2 ・・
・・・・(8)R5i(OR”)2 (但し、式中R,R’ 、R’、m及びnは上記と同様
の意味を示す。) で示される化合物及び水 とを加水分解・平衡化することを特徴とする式(2)で
示されるハイドロジエンポリシロキサンの製造方法、及
び下記平均組成式(121 %式% (但し、式中R,a、b及びdは上記と同様の意味を示
す。) で示されるハイドロジエンシロキサンにアリルアクリレ
ート又はアリルメタクリレートを付加反応させることを
特徴とする式(2)で示されるハイドロジエンポリシロ
キサンの製造方法を提供する。
以下、本発明につき更に詳述する。
本発明に係るハイドロジエンポリシロキサンは、下記平
均組成式(1)、(2)で示されるものである。
均組成式(1)、(2)で示されるものである。
RRR
+ 1 1
(但し、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基又はフェニ
ル基、R′は水素原子又はメチル基、a、b、 cは0
≦a≦20、o<b≦3.0≦C≦10、dは1≦d≦
10の正数を表わす。) ここで、Rは上記したようにメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基で
あるが、特に工業的にはメチル基とフェニル基が好まし
い。これらは併用することが望ましく、例えばジフェニ
ルシロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位をジ
メチルシロキサン単位を主鎖とするシロキサンに導入す
ることにより、有機樹脂との反応性や相溶性をより向上
させることができる。また、a −dは上記した範囲テ
アリ、シロキサンの長さがあまり長くなる( a −d
が上記上限値を超える)と、粘度が高くなり過ぎて取り
扱い性が悪くなる上、有機樹脂との相溶性も低下するの
で好ましくない。
ル基、R′は水素原子又はメチル基、a、b、 cは0
≦a≦20、o<b≦3.0≦C≦10、dは1≦d≦
10の正数を表わす。) ここで、Rは上記したようにメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基で
あるが、特に工業的にはメチル基とフェニル基が好まし
い。これらは併用することが望ましく、例えばジフェニ
ルシロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位をジ
メチルシロキサン単位を主鎖とするシロキサンに導入す
ることにより、有機樹脂との反応性や相溶性をより向上
させることができる。また、a −dは上記した範囲テ
アリ、シロキサンの長さがあまり長くなる( a −d
が上記上限値を超える)と、粘度が高くなり過ぎて取り
扱い性が悪くなる上、有機樹脂との相溶性も低下するの
で好ましくない。
本発明の(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイドロ
ジエンポリシロキサンは、ラジカル重合性のアクリル基
又はメタクリル基を含有し、種々のオレフィン類と白金
触媒下に付加反応可能な5i−H結合を併せ有するもの
で、以下の製造法に従うことにより、容易に高収率で簡
便に製造することができる。
ジエンポリシロキサンは、ラジカル重合性のアクリル基
又はメタクリル基を含有し、種々のオレフィン類と白金
触媒下に付加反応可能な5i−H結合を併せ有するもの
で、以下の製造法に従うことにより、容易に高収率で簡
便に製造することができる。
即ち、上記(1)式のハイドロジエンポリシロキサンは
、下記式(3)、(4)、(5)及び(6)RR H5iO5iH・・・・・・(3) RR (Sin)、 ・・・・・
・(4)(SiO)y
・・・・・・(5)■ で示される化合物を平衡化することによって合成できる
。なお、式中X、y、zは3〜10の整数である。
、下記式(3)、(4)、(5)及び(6)RR H5iO5iH・・・・・・(3) RR (Sin)、 ・・・・・
・(4)(SiO)y
・・・・・・(5)■ で示される化合物を平衡化することによって合成できる
。なお、式中X、y、zは3〜10の整数である。
前記出発原料は対応するクロロシランあるいはアルコキ
シシランを加水分解することにより得られ、シリコーン
工業では汎用原料となっているものである。
シシランを加水分解することにより得られ、シリコーン
工業では汎用原料となっているものである。
平衡化する際の触媒として濃硫酸あるいはトリフルオロ
メタンスルフォン酸が用いられ、原料全体の0.5〜2
0重量%添加することにより平衡化が生起し、室温以下
の温度、好ましくは0〜20°Cの温度で2〜20時間
で平衡化が完了する。酸添加量が0.5%より少ないと
平衡反応が著しく遅く、20%を越えると(メタ)アク
リル基が分解する場合がある。
メタンスルフォン酸が用いられ、原料全体の0.5〜2
0重量%添加することにより平衡化が生起し、室温以下
の温度、好ましくは0〜20°Cの温度で2〜20時間
で平衡化が完了する。酸添加量が0.5%より少ないと
平衡反応が著しく遅く、20%を越えると(メタ)アク
リル基が分解する場合がある。
上記平衡化した後は、常法に従がい、水洗するなどして
(1)式の化合物を回収することができる。
(1)式の化合物を回収することができる。
上記(1)式の化合物は、下記式(3)、(8)、(9
)、(6)の化合物の混合物を前記と同様にして酸平衡
化することによっても容易に得ることができる。
)、(6)の化合物の混合物を前記と同様にして酸平衡
化することによっても容易に得ることができる。
HSiOSiH・・・・・・(3)
R
R,Si (OR″)よ ・・・
・・・(8)(Sin)、
・・・・・・(6)なお、上記式中R#はメチル基又
はエチル基であり、2は3〜10の整数を示す。
・・・(8)(Sin)、
・・・・・・(6)なお、上記式中R#はメチル基又
はエチル基であり、2は3〜10の整数を示す。
この場合、R25i(OR’) zとしてジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジェトキシシラン、メチル
フエニルジメトキシシラン、メチルフエニルジエトキシ
シラン等を用いることにより、オルガノハイドロジエン
ポリシロキサンの主鎖にジメチルシロキサン単位、ある
いはメチルフェニルシロキサン単位を導入することがで
き、有機樹脂との相溶性や混合後の耐熱性が高まり、均
一にシロキサンを有機樹脂に導入することができる。
メトキシシラン、ジフェニルジェトキシシラン、メチル
フエニルジメトキシシラン、メチルフエニルジエトキシ
シラン等を用いることにより、オルガノハイドロジエン
ポリシロキサンの主鎖にジメチルシロキサン単位、ある
いはメチルフェニルシロキサン単位を導入することがで
き、有機樹脂との相溶性や混合後の耐熱性が高まり、均
一にシロキサンを有機樹脂に導入することができる。
一方、式(2)の化合物は、式(1)の化合物と同様、
下記式(7)、(4)、(5)及び(6)R3SfOS
iR3・・・・・・(7)(Sin)、
・・・・・・(4)(SiO)y
・・・・・・(5)■ の化合物の混合物を酸平衡化することにより得ることが
できる。また、下記式(7)、(8)、(9)及び(6
)で示される化合物又は式0IID、aD、(8)及び
(9)で示される化合物と水との混合物を酸平衡化する
ことによっても得ることができる。
下記式(7)、(4)、(5)及び(6)R3SfOS
iR3・・・・・・(7)(Sin)、
・・・・・・(4)(SiO)y
・・・・・・(5)■ の化合物の混合物を酸平衡化することにより得ることが
できる。また、下記式(7)、(8)、(9)及び(6
)で示される化合物又は式0IID、aD、(8)及び
(9)で示される化合物と水との混合物を酸平衡化する
ことによっても得ることができる。
R55iOSiR3・・・・・・(7)RgSi(OR
”)t ・・・・・・(8)R
5i (OR”)よ R35iO(SiO)s 5iRs
”””Qω畜 なお、式中mは0〜100の整数、nは1〜100の整
数を示す。
”)t ・・・・・・(8)R
5i (OR”)よ R35iO(SiO)s 5iRs
”””Qω畜 なお、式中mは0〜100の整数、nは1〜100の整
数を示す。
更に別法として、下記式(121
で示されるハイドロジエンシロキサンにアリルアクリレ
ート又はアリルメタクリレートを付加反応させることに
よっても得ることができる。
ート又はアリルメタクリレートを付加反応させることに
よっても得ることができる。
この付加反応(ヒドロシリル化反応)は、白金触媒の存
在下で行うことが好ましい。
在下で行うことが好ましい。
この場合、白金触媒は公知のヒドロシリル化反応に用い
られるいずれのものでも使用できるが、工業的には塩化
白金酸が好ましく、60−120°Cの温度で2〜8時
間加熱することにより、付加反応を完了させることがで
きる。白金触媒の添加量は触媒量であり、通常オルガノ
ハイドロジエンポリシロキサンの2〜400 ppm程
度である。
られるいずれのものでも使用できるが、工業的には塩化
白金酸が好ましく、60−120°Cの温度で2〜8時
間加熱することにより、付加反応を完了させることがで
きる。白金触媒の添加量は触媒量であり、通常オルガノ
ハイドロジエンポリシロキサンの2〜400 ppm程
度である。
なお、反応は、系の粘度や反応温度を調節する上で、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素溶媒
、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族系炭化水素
溶媒の存在下で行うことができる。
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素溶媒
、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族系炭化水素
溶媒の存在下で行うことができる。
以上の方法で製造された(メタ)アクリロキシプロピル
基含有ハイドロジエンポリシロキサンは、種々のオレフ
ィンと白金触媒存在下付加反応して対応する付加生成物
を得ることができる0例えば、アリルグリシジルエーテ
ル、アリルアルコール、アリルグリコール等の官能基含
有アルケンを付加することにより、例えば下記式 %式% (但し、Yは3−アクリロキシプロピル基又は3−メタ
クリロキシプロピル基、Xは3−グリシドキシプロビル
基、2− (3’、4’−エポキシシクロヘキシル)エ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−(2”−ヒド
ロキシエトキシ)プロピル基より選ばれる。Rは炭素数
1〜6のアルキル基又はフェニル基を示す、a、bはそ
れぞれ正数でl≦a≦20,1≦b≦lOである。) で示されるような、1分子中に(メタ)アクリル基とそ
れぞれの官能基の双方を有するヘテロファンクシッナル
ボリシロキサンを合成することができ、これらは官能基
含有ラジカル重合性マクロマーとして工業的に有用な物
質であり、他の重合性単量体と共重合することにより、
アクリル系樹脂の可撓性、耐熱性、密着性、撥水性、熱
衝撃性等の効果を発揮させることができる。
基含有ハイドロジエンポリシロキサンは、種々のオレフ
ィンと白金触媒存在下付加反応して対応する付加生成物
を得ることができる0例えば、アリルグリシジルエーテ
ル、アリルアルコール、アリルグリコール等の官能基含
有アルケンを付加することにより、例えば下記式 %式% (但し、Yは3−アクリロキシプロピル基又は3−メタ
クリロキシプロピル基、Xは3−グリシドキシプロビル
基、2− (3’、4’−エポキシシクロヘキシル)エ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−(2”−ヒド
ロキシエトキシ)プロピル基より選ばれる。Rは炭素数
1〜6のアルキル基又はフェニル基を示す、a、bはそ
れぞれ正数でl≦a≦20,1≦b≦lOである。) で示されるような、1分子中に(メタ)アクリル基とそ
れぞれの官能基の双方を有するヘテロファンクシッナル
ボリシロキサンを合成することができ、これらは官能基
含有ラジカル重合性マクロマーとして工業的に有用な物
質であり、他の重合性単量体と共重合することにより、
アクリル系樹脂の可撓性、耐熱性、密着性、撥水性、熱
衝撃性等の効果を発揮させることができる。
本発明の(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイドロ
ジエンポリシロキサンは他重合性単量体と共重合させる
ことにより、5i−H含有アクリル系重合体が得られ、
不飽和基含有重合体の白金存在下での架橋剤としても使
用できる。
ジエンポリシロキサンは他重合性単量体と共重合させる
ことにより、5i−H含有アクリル系重合体が得られ、
不飽和基含有重合体の白金存在下での架橋剤としても使
用できる。
本発明によれば、(メタ)アクリロキシプロピルメチル
ジアルコキシシランの加水分解物とテトラメチルジシロ
キサンを平衡することにより両末端水素のオルガノポリ
シロキサンが得られ、特にオクタフェニルシクロテトラ
シロキサンとオクタメチルテトラシロキサンのアルカリ
平衡化開環物を平衡時加えることにより、フェニル基を
含有する両末端水素の(メタ)アクリル基含有ポリシロ
キサンが得られるもので、本発明のオルガノハイドロジ
エンポリシロキサンはヘテロファンクショナルなポリシ
ロキンを合成する際の中間原料として有用である。即ち
、本発明によれば、フェニル基含有率、(メタ)アクリ
ル基含有率を任意に調節でき、(メタ)アクリル基以外
の官能基含有アルケンと付加反応して対応するヘテロフ
ァンクショナルなポリシロキサンが得られる。これらは
アクリル樹脂の改質剤として優れる。
ジアルコキシシランの加水分解物とテトラメチルジシロ
キサンを平衡することにより両末端水素のオルガノポリ
シロキサンが得られ、特にオクタフェニルシクロテトラ
シロキサンとオクタメチルテトラシロキサンのアルカリ
平衡化開環物を平衡時加えることにより、フェニル基を
含有する両末端水素の(メタ)アクリル基含有ポリシロ
キサンが得られるもので、本発明のオルガノハイドロジ
エンポリシロキサンはヘテロファンクショナルなポリシ
ロキンを合成する際の中間原料として有用である。即ち
、本発明によれば、フェニル基含有率、(メタ)アクリ
ル基含有率を任意に調節でき、(メタ)アクリル基以外
の官能基含有アルケンと付加反応して対応するヘテロフ
ァンクショナルなポリシロキサンが得られる。これらは
アクリル樹脂の改質剤として優れる。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記の実施例に制限されるものではない。
発明は下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例1〕
フラスコに1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン
13、4 g、オクタメチルシクロテトラシロキサン3
7、0 g、メチルフエニルジメトキシシラン36.4
g、及び3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシ
シランの加水分解物〔主成分は CH2 (SiO)3 に相当)18.6gを仕込み、5
°Cに系を冷却し、トリフルオロメタンスルフォン酸5
.3g投入後、水を1.9g添加し、5〜10°Cで1
2時間撹拌し、水洗3回行った後、約10mHg。
13、4 g、オクタメチルシクロテトラシロキサン3
7、0 g、メチルフエニルジメトキシシラン36.4
g、及び3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシ
シランの加水分解物〔主成分は CH2 (SiO)3 に相当)18.6gを仕込み、5
°Cに系を冷却し、トリフルオロメタンスルフォン酸5
.3g投入後、水を1.9g添加し、5〜10°Cで1
2時間撹拌し、水洗3回行った後、約10mHg。
50〜60°Cで減圧濃縮を行ない、対応する平衡化生
成物を93.3gjll!Mした。
成物を93.3gjll!Mした。
この生成物の物性の測定から下記の平均組成式であるこ
とを確認した(収率97%)、なお、物性値を第1表に
、赤外吸収スペクトルを第1図に示す。
とを確認した(収率97%)、なお、物性値を第1表に
、赤外吸収スペクトルを第1図に示す。
〔実施例2〕
フラスコに下記式
%式%)
で示されるハイドロジエンポリシロキサン30.2g、
ヘキサメチルジシロキサン30.4g、ジフェニルジメ
トキシシラン48.9 g及び3−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン30.2 gを仕込み、5
℃に系を冷却し、濃硫酸6.2g投入後、水を6.5g
添加し、5〜10°Cで12時間撹拌し、水洗3回行な
った後、約10−Hg、50〜60℃で減圧濃縮を行な
い、対応する平衡化生成物を121.9gを得た(収率
98%)。
ヘキサメチルジシロキサン30.4g、ジフェニルジメ
トキシシラン48.9 g及び3−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン30.2 gを仕込み、5
℃に系を冷却し、濃硫酸6.2g投入後、水を6.5g
添加し、5〜10°Cで12時間撹拌し、水洗3回行な
った後、約10−Hg、50〜60℃で減圧濃縮を行な
い、対応する平衡化生成物を121.9gを得た(収率
98%)。
この生成物の物性の測定から下記の平均組成式であるこ
とを確認した。物性値を第1表に併記する。また、赤外
吸収スペクトルを第2図に示す。
とを確認した。物性値を第1表に併記する。また、赤外
吸収スペクトルを第2図に示す。
〔実施例3〕
フラスコにトルエン50g1アリルメタクリレ−トロ、
8 g及び塩化白金酸の2%エタノール溶液0.1g
を仕込み、80°Cで下記平均組成式0式% で示されるハイドロジエンポリシロキサン82.8gを
2時間で滴下し、滴下終了後80℃で1時間熟成し、赤
外分光光度計でアリルメタクリレートのアリル基の吸収
(1650cm−9が消失していることを確認した後、
約10■Hg、50〜60℃で減圧濃縮し、濾過するこ
とにより、対応する付加生成物86.9 gを得た(収
率97%)。
8 g及び塩化白金酸の2%エタノール溶液0.1g
を仕込み、80°Cで下記平均組成式0式% で示されるハイドロジエンポリシロキサン82.8gを
2時間で滴下し、滴下終了後80℃で1時間熟成し、赤
外分光光度計でアリルメタクリレートのアリル基の吸収
(1650cm−9が消失していることを確認した後、
約10■Hg、50〜60℃で減圧濃縮し、濾過するこ
とにより、対応する付加生成物86.9 gを得た(収
率97%)。
この生成物の物性の測定から下記組成式%式%
であることを確認した。物性値を第1表に併記する。ま
た、赤外吸収スペクトルを第3図に示す。
た、赤外吸収スペクトルを第3図に示す。
第1表
本 かっこ内は理論値
〔参考例1〕
フラスコにトルエン100 g、アリルグリコール19
.7 g、塩化白金酸の2%エタノール溶液0.2gを
仕込み、80″Cで下記平均組成式C,FlhOOC〉 で示されるハイドロジエンポリシロキサン100gを2
時間で滴下し、滴下終了後80°Cで2時間熟成した。
.7 g、塩化白金酸の2%エタノール溶液0.2gを
仕込み、80″Cで下記平均組成式C,FlhOOC〉 で示されるハイドロジエンポリシロキサン100gを2
時間で滴下し、滴下終了後80°Cで2時間熟成した。
赤外分光光度計で5i−Hの吸収(2130cm−’)
が消失していることを確認した後、トルエン、未反応原
料等を減圧留去し、決過することにより、対応する下記
平均構造式の付加生成物116.4g(収率98%)を
得た。
が消失していることを確認した後、トルエン、未反応原
料等を減圧留去し、決過することにより、対応する下記
平均構造式の付加生成物116.4g(収率98%)を
得た。
ePhMe
粘度: 195cs (25°C)
屈折率 : 1.4876(25°C)H’ −N
MR(δ): 0.04(48H) 0.47(6)[) 1.54(6H) 3.43(14H) 5.40(IH) 5.98(LH) 7.27(20H) 元素分析値 : 実測値 C52,2% 、H7,5%計算値 C5
2,1% 、H7,6%〔参考例2〕 参考例2において、アリルグリコール19.7gの代り
にアリルグリシジルエーテル22.0 gを用いた以外
は同様に操作し、対応する下記平均構造式の付加生成物
119.8g(収率99%)を得た。
MR(δ): 0.04(48H) 0.47(6)[) 1.54(6H) 3.43(14H) 5.40(IH) 5.98(LH) 7.27(20H) 元素分析値 : 実測値 C52,2% 、H7,5%計算値 C5
2,1% 、H7,6%〔参考例2〕 参考例2において、アリルグリコール19.7gの代り
にアリルグリシジルエーテル22.0 gを用いた以外
は同様に操作し、対応する下記平均構造式の付加生成物
119.8g(収率99%)を得た。
粘度: 450cs (25°C)
屈折率 : 1.4846(25℃)H’ −NMR
(δ): 0.07(48H) 0.48(6H) 1.57(6H) 2.38(2H) 2.54(2H) 3.33(2H) 5.37(LH) 5.97(LH) 7.22(20H) 元素分析値 : 実測値 C53,1% 、H7,3%計算値 C5
2,9% 、H7,5%
(δ): 0.07(48H) 0.48(6H) 1.57(6H) 2.38(2H) 2.54(2H) 3.33(2H) 5.37(LH) 5.97(LH) 7.22(20H) 元素分析値 : 実測値 C53,1% 、H7,3%計算値 C5
2,9% 、H7,5%
第1図乃至第3図は、それぞれ本発明のハイドロジエン
ポリシロキサンの赤外線吸収スペクトルである。 出 願 人 信越化学工業株式会社 代 理 人 小 島 隆 司平成
2年12月5日 特許庁長官 植 松 敏 殿 1、事件の表示 平成2年特許願第294963号 2発明の名称 ハイドロジエンポリシロキサン及びその製造方法3補正
をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 金
側千尋 4、代理人 〒104 住 所 東京都中央区銀度3丁目11番14号ダパ
クリエートビル5階 電話(545) 64546、補
正の内容 願書に最初に添付した明細書の浄書、別紙の通り(内容
に変更なし) 手続補正書(自発) 平成3年1月14日 1事件の表示 平成2年特許願第294963号 2発明の名称 ハイドロジエンポリシロキサン及びその製造方法3、補
正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 金
側千尋 4、代理人 〒104 住 所 東京都中央区銀座3丁目11番14号ダパ
クリエートビル5階 電話(3545) 64546、
補正の内容 (1)明細書の第28頁最終行を 「 と訂正する。 以 上
ポリシロキサンの赤外線吸収スペクトルである。 出 願 人 信越化学工業株式会社 代 理 人 小 島 隆 司平成
2年12月5日 特許庁長官 植 松 敏 殿 1、事件の表示 平成2年特許願第294963号 2発明の名称 ハイドロジエンポリシロキサン及びその製造方法3補正
をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 金
側千尋 4、代理人 〒104 住 所 東京都中央区銀度3丁目11番14号ダパ
クリエートビル5階 電話(545) 64546、補
正の内容 願書に最初に添付した明細書の浄書、別紙の通り(内容
に変更なし) 手続補正書(自発) 平成3年1月14日 1事件の表示 平成2年特許願第294963号 2発明の名称 ハイドロジエンポリシロキサン及びその製造方法3、補
正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏
名 (206)信越化学工業 株式会社代表者 金
側千尋 4、代理人 〒104 住 所 東京都中央区銀座3丁目11番14号ダパ
クリエートビル5階 電話(3545) 64546、
補正の内容 (1)明細書の第28頁最終行を 「 と訂正する。 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記平均組成式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(1) (但し、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基又はフェニ
ル基、R′は水素原子又はメチル基、a、b、cは0≦
a≦20、0<b≦3、0≦c≦10の正数を表わす。 ) で示される(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイド
ロジエンポリシロキサン。 2、下記平均組成式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(2) (但し、式中R、R′、a及びbは請求項1記載のもの
と同じ意味を示し、dは1≦d≦10の正数を表わす。 ) で示される(メタ)アクリロキシプロピル基含有ハイド
ロジエンポリシロキサン。 3、下記式(3)、(4)、(5)および(6)▲数式
、化学式、表等があります▼・・・・・・(3) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(4) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(5) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(6) (但し、式中R、R′は請求項1記載のものと同じ意味
を示し、x、y、zはそれぞれ3〜10の整数を表わす
。) で示される化合物を平衡化することを特徴とする請求項
1記載のハイドロジエンポリシロキサンの製造方法。 4、下記式(7)、(4)、(5)及び(6)R_3S
iOSiR_3・・・・・・(7)▲数式、化学式、表
等があります▼・・・・・・(4) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(5) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(6) (但し、式中R、R′は請求項1記載のものと同じ意味
を示し、x、y及びzはそれぞれ3〜10の整数を表わ
す。) で示される化合物を平衡化することを特徴とする請求項
2記載のハイドロジエンポリシロキサンの製造方法。 5、下記式(3)、(8)、(9)、(6)▲数式、化
学式、表等があります▼・・・・・・(3) R_2Si(OR”)_2・・・・・・(8)▲数式、
化学式、表等があります▼・・・・・・(9) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(6) (但し、式中R、R′は請求項1記載のものと同じ意味
を示し、R″はメチル基又はエチル基を示し、zは3〜
10の整数を示す。) で示される化合物及び水とを加水分解・平衡化すること
を特徴とする請求項1記載のハイドロジエンポリシロキ
サンの製造方法。 6、(A)下記式(7)、(8)、(9)、(6)R_
3SiOSiR_3・・・・・・(7)R_2Si(O
R”)_2・・・・・・(8)▲数式、化学式、表等が
あります▼・・・・・・(9) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(6) (但し、式中R、R′は請求項1記載のものと同じ意味
を示し、R″はメチル基又はエチル基を示し、zは3〜
10の整数を示す。) で示される化合物及び水、又は (B)下記式(10)、(11)、(8)、(9)▲数
式、化学式、表等があります▼・・・・・・(10) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(11
) R_2Si(OR”)_2・・・・・・(8)▲数式、
化学式、表等があります▼・・・・・・(9) (但し、式中R、R′及びR″は請求項5記載のものと
同じ意味を示し、mは0〜100の整数、nは1〜10
0の整数を表わす。) で示される化合物及び水 とを加水分解・平衡化することを特徴とする請求項2記
載のハイドロジエンポリシロキサンの製造方法。 7、下記平均組成式(12) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(12
) (但し、式中R、a、b及びdは請求項1及び請求項2
記載のものと同一の意味を示す。) で示されるハイドロジエンシロキサンにアリルアクリレ
ート又はアリルメタクリレートを付加反応させることを
特徴とする請求項2記載のハイドロジエンポリシロキサ
ンの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2294963A JP2715652B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 |
| DE1991608345 DE69108345T2 (de) | 1990-10-31 | 1991-10-30 | Hydrogenpolysiloxane und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
| EP19910310003 EP0484120B1 (en) | 1990-10-31 | 1991-10-30 | Hydrogenpolysiloxanes and methods of making them |
| US07/867,464 US5256754A (en) | 1990-10-31 | 1992-04-13 | Hydrogenpolysiloxanes and methods of making |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2294963A JP2715652B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04169589A true JPH04169589A (ja) | 1992-06-17 |
| JP2715652B2 JP2715652B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=17814567
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2294963A Expired - Fee Related JP2715652B2 (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0484120B1 (ja) |
| JP (1) | JP2715652B2 (ja) |
| DE (1) | DE69108345T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0702068A1 (en) * | 1994-09-01 | 1996-03-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method of forming multilayer coatings on a substrate |
| US5741552A (en) * | 1995-06-27 | 1998-04-21 | Nippon Paint Co., Ltd. | Coating composition and method for forming multi-layer coating |
| JP2005534737A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼイション | 改良されたバイオ医療品組成物 |
| EP2738610A1 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, method for producing electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0769513B1 (en) * | 1993-06-21 | 1999-11-17 | Nippon Paint Co., Ltd. | Curable resin composition |
| US5795947A (en) * | 1993-07-02 | 1998-08-18 | Rhone-Poulenc Chimie | Olefinically functional polyorganosiloxanes and curable silicone compositions comprised thereof |
| FR2707655B1 (fr) * | 1993-07-02 | 1995-09-15 | Rhone Poulenc Chimie | Nouveaux polymères siliconés à fonctions oléfiniques, leur procédé de préparation et compositions durcissables comprenant lesdits polymères. |
| EP1164171A3 (en) * | 2000-06-12 | 2002-04-24 | General Electric Company | Silicone compositions |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5064393A (ja) * | 1973-10-08 | 1975-05-31 | ||
| JPS596222A (ja) * | 1982-06-18 | 1984-01-13 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | オルガノポリシロキサン、その製法および高エネルギ−放射線によつて橋かけ可能な被膜の製法 |
-
1990
- 1990-10-31 JP JP2294963A patent/JP2715652B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-10-30 EP EP19910310003 patent/EP0484120B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-30 DE DE1991608345 patent/DE69108345T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5064393A (ja) * | 1973-10-08 | 1975-05-31 | ||
| JPS596222A (ja) * | 1982-06-18 | 1984-01-13 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | オルガノポリシロキサン、その製法および高エネルギ−放射線によつて橋かけ可能な被膜の製法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0702068A1 (en) * | 1994-09-01 | 1996-03-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method of forming multilayer coatings on a substrate |
| US5741552A (en) * | 1995-06-27 | 1998-04-21 | Nippon Paint Co., Ltd. | Coating composition and method for forming multi-layer coating |
| JP2005534737A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼイション | 改良されたバイオ医療品組成物 |
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