JPH04170732A - 情報記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザービーム等により、情報を高密度、大容
量で記録再生及び消去できる情報記録媒体の製造方法及
び製造装置に関するものである。

従来の技術 従来より円盤状のディスク基板の一方の面に記録薄膜層
を形成し、ディスク基板側よりレーザ光を照射して、記
録薄膜層に微小な穴を形成、あるいは反射率を変化させ
たピットを形成して記録・再生を行う追記型ディスクが
実用化されている。

更に記録薄膜層の反射率を可逆的に変化させて繰り返し
記録・消去が可能な消去ディスクが実用化されつつある
。この消去ディスクは記録薄膜層をレーザ光によってそ
の融点以上に加熱した後、急冷あるいは除冷して記録・
消去を行うものであり、１μｍ前後の微小な領域で短時
間ではあるが高温になるため、記録薄膜層の両側に耐外
保護層としてＳｉＯ２等の誘電体層を設けるのが一般的
である。

更に記録薄膜層の上の誘電体層上に反射層を設け、記録
薄膜層を透過したレーザ光を反射させて記録感度を向上
させた、いわゆる三層構造にしたものもある。これらの
記録薄膜層、誘電体層、反射層を形成する方法としては
蒸着法、スパッタ法が一般的であり、欠陥が少ない高品
質な成膜方式としてスパッタ法が多く用いられている。

従来、これらの成膜方式における薄膜の膜厚制御の方法
としては、一般的には水晶振動子を利用した膜厚モニタ
を用いて膜厚を制御する方法、あるいは薄膜が成膜され
るに伴って反射率が変化してゆくことを利用して、光学
的に制御する方法等が用いられている。

従来の光学的に膜厚を制御する方法を第３図に示す。

第３図は薄膜をスパッタ法で成膜する場合に、光学的に
膜厚を制御する方法を示す模式図であり、１は真空容器
、２は真空容器１へのガス導入口、３は真空容器１から
の排気口、４は円盤状の透明基板からなるディスク基板
で基板保持具６に装着されており、矢印６の如く回転す
る構造になっている。７は高周波電極でターゲット８を
載置している。９はディスク基板４とターゲット８の間
に設けたシャッタ、１０はディスク基板４の裏面へのス
パッタ膜のまわり込みを防止するための付着防止板、１
１は付着防止板１ｏに装着された光学検出装置で、付着
防止板１０はヌベーサ１２によって真空容器１に固定さ
れている。成膜にあたっては真空容器１を真空に排気し
た後、Ａｒ　　等の不活性ガスをガス導入口２より真空
容器１に導入し、高周波電極７に高周波電圧を印加して
放電を起こし、これによってターゲット８がヌパノタさ
れディスク基板４に薄膜を形成するものである。膜厚制
御の方法は、ディスク基板４の成膜面の反射光量を検出
するようにしておいて、例えば屈折率が２．０　の誘電
体を形成していった場合、第４図に示すように反射光量
が変化することを利用して、膜厚制御を行うものである
。

発明が解決しようとする課題 しかしながら光学検出装置での膜厚制御は、成膜面に一
定光量の入射光を照射し反射光量を光学検出装置で検出
するが、この時ターゲットの放電時の光が光学検出装置
に入りノイズとなって光学検出装置の精度を低下させる
課題があった。

課題を解決するだめの手段 上記課題を解決するため、本発明は成膜側より入射光を
照射しその反射光の光学的変化を成膜側より検出する光
学検出装置を設け、この光学検出装置の反射光経路に入
射光の波長より少なくとも短波長側の波長を遮断する光
学フィルりを設けるものである。

作用 上記構成により本発明の情報記録媒体の製造方法及び製
造装置は可視光領域のターゲットの放電時の光が光学検
出装置に入ることによるノイズを防止して、膜厚の制御
精度の向上を可能にするものである。

実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明による光学的変化を検出する検出装置を
用いた構成を示す図である。尚、スパッタ装置の全体は
第３図の従来例で説明したものと同一で、同一番号で示
している。第１図において１３は本発明による光学検出
装置でその先端に入射光の波長より少なくとも短波長間
１の波長を遮断する光学フィルタ１４を設けており、取
υ付は治具１５によって真空容器１に固定されている。

この光学検出装置１３の入射光の波長は８３０　ｎｍを
使用している。光学検出装置１３で検出した信号はリー
ド線、導入端子（共に図示せず）を通じて真空容器１の
外部に取り出している。

第１図の構成において成膜時の反射光量検出方法を説明
する。例えば屈折率２．０の誘電体層全樹脂材料からな
るディスク基板４に成膜した場合、ディスク基派４の膜
面からの反射光量は光の干渉により、第４図に示すよう
な変化を示す。この図は基板の反射光量と成膜時間の関
係を示すもので、成膜が進むにつれてデイヌク基板４０
反射光量は上昇しλ／（４・ｎ）（λ：光学検出装置入
射光の波長、ｎ：誘電体層の屈折率）の膜厚でピークを
示すような変化をする。このような反射光量の変化を光
学検出装置１３で検出し、例えば反射光量のピークで成
膜を止めた場合、誘電体層の屈折率２．０、入射光の波
長８３０ｎｍの条件では、前記計算式より約１１０４ｎ
の膜厚を得られるものである。この時に光学検出装置１
３の先端に入射光の波長より短波長側の波長を遮断する
光学フィルタ１４を設けていることによって、ターゲッ
ト８の放電時の光が光学検出装置１３に入ることによる
ノイズを防止することができ、高精度な膜厚制御が可能
になるものである。また反射光の光学的変化を成膜側よ
り検出するものであるから、多層の薄膜を形成する場合
でも各層の反射光量が減衰することなく正確に検出でき
るものである。尚、本天施例では光学フィルり１４は、
光学検出装置１３の入射光の波長より短波長側の波長を
遮断するものを用いたが、入射光の波長付近のみを透過
するようなフィルタを用いても同様の効果を得られるも
のである。

本発明の他の実施例を第２図に示す。第２図は多数枚の
ディスク基板の同時成膜に光学検出装置を用いた例を示
すもので、１３は本弁明による光学検出装置でその先端
に入射光の数長より少なくとも短波長側の波長を遮断す
る光学フィルり１４を設けており、固定金具１６によっ
て真空容器１７に固定されている。１８はディスク基板
で回転軸１９を中心に公転するパレッ）２０に装着され
ている。２１はヌパッタ用ターゲットである。

第２図の構成において、光学検出装置１３を用いて膜厚
−」御を行う方法は、第１図の実施例で説明したものと
同様であり、この構成の場合も同様にターゲットの放電
時の光が光学検出装置に入ることによるノイズを防止出
来るものである。特に第２図に示すような多数枚の基板
を同時に成膜する場合、光学検出装置１３の前をディス
ク基板１８とパレソ）２０が交互に通過することによる
反射率の変動が太きいため、ターゲラ）の放電光による
ノイズを防止することは高精度に膜厚を制御する上で効
果が太きいものである。尚、この実施例でに相変化型の
元ディスクの例で説明したが、レーザ光の熱と磁界によ
って記録・消去を行う光磁気ディスク等の薄膜を形成す
る多くの方法に適用できるものである。

発明の効果 本発明は円盤状の透明基板に多層膜を形成するに当たり
、成膜側に光学的な反射率変化を測定する光学検出装置
を設け、この光学検出装置の反射光経路に少なくとも入
射光の波長より短波長側の波長を遮断する光学フィルタ
を設けることによって、ターゲットの放電時の光が光学
検出装置に入りノイズとなることを防止でき、精度のよ
い膜厚制御が可能になるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における情報記録媒体の製造
方法を示す断面図、第２図は本発明の他の実施例におけ
る情報記録媒体の製造方法及び製造装置を示す模式図、
第３図は従来の情報記録媒体の製造方法を示す断面図、
第４図は光学的に膜厚を制御した場合の反射率変化を示
す図である。 １・・・・・・真空容器、４・・・・・・ディスク基板
、８・・・・・・ターゲット、１１．１３・・・・・・
光学検出装置、１４・・・・・・光学フィルり。 代理人の氏名　弁理士　小鍜治　　明　ほか２名＝セｃ
！：δ− （ｃ＞

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）薄膜形成時に成膜側より入射光を照射し、その反
   射光の光学的変化を検出する検出装置を用いて情報記録
   媒体用基板に薄膜を形成する方法であって、光学検出装
   置の反射光経路に、前記入射光の波長より少なくとも短
   波長側の波長を遮断する光学フィルタを設ける情報記録
   媒体の製造方法。
2. （２）４枚のパレットに複数枚の情報記録媒体用基板を
   載置し、前記パレットを回転させながら薄膜を形成する
   請求項１記載の情報記録媒体の製造方法。
3. （３）４枚のパレットに複数枚の情報記録媒体用基板を
   載置し、薄膜形成時に成膜側より入射光を照射し、その
   反射光経路に入射光の波長より少なくとも短波長側の波
   長を遮断する光学フィルタを有する光学検出装置を設け
   たことを特徴とする情報記録媒体の製造装置。